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    Antireflective Coating Composition and Process Thereof
    1.
    发明申请
    Antireflective Coating Composition and Process Thereof 有权
    防反射涂料组合物及其工艺

    公开(公告)号：US20090130591A1

    公开(公告)日：2009-05-21

    申请号：US11944105

    申请日：2007-11-21

    申请人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

    发明人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

    IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C5/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0046

    摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a polymer, a thermal acid generator and optionally a crosslinking agent, where the polymer comprises at least one hydrophobic unit (1), at least one chromophore unit (2), at least one unit with a crosslinking site (3) and optionally a unit capable of crosslinking the polymer, where, R1 to R8 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, W1 is a fully or partially fluorinated alkylene group, X is selected from F, H and OH; W2 comprises a chromophore group, and W3 Y comprises a crosslinking site. The invention also relates to a process for using the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，热酸产生剂和任选的交联剂的抗反射组合物，其中所述聚合物包含至少一个疏水单元（1），至少一个生色团单元（2），至少一个具有 交联位点（3）和任选的能够交联聚合物的单元，其中R1至R8独立地选自氢和C1-C4烷基，W1是完全或部分氟化的亚烷基，X选自F，H和OH ; W2包含发色团，W3 Y包含交联位点。 本发明还涉及使用抗反射涂料组合物的方法。

    Antireflective coating composition and process thereof
    2.
    发明授权
    Antireflective coating composition and process thereof 有权
    防反射涂料组合物及其工艺

    公开(公告)号：US08039201B2

    公开(公告)日：2011-10-18

    申请号：US11944105

    申请日：2007-11-21

    申请人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

    发明人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

    IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/11

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0046

    摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a polymer, a thermal acid generator and optionally a crosslinking agent, where the polymer comprises at least one hydrophobic unit (1), at least one chromophore unit (2), at least one unit with a crosslinking site (3) and optionally a unit capable of crosslinking the polymer, where, R1 to R8 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, W1 is a fully or partially fluorinated alkylene group, X is selected from F, H and OH; W2 comprises a chromophore group, and W3 Y comprises a crosslinking site. The invention also relates to a process for using the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，热酸产生剂和任选的交联剂的抗反射组合物，其中所述聚合物包含至少一个疏水单元（1），至少一个生色团单元（2），至少一个具有 交联位点（3）和任选的能够交联聚合物的单元，其中R1至R8独立地选自氢和C1-C4烷基，W1是完全或部分氟化的亚烷基，X选自F，H和OH ; W2包含发色团，W3 Y包含交联位点。 本发明还涉及使用抗反射涂料组合物的方法。

    Antireflective composition for photoresists
    4.
    发明授权
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07638262B2

    公开(公告)日：2009-12-29

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/09

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基 连接部分。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Antireflective composition for photoresists
    5.
    发明申请
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US20080038659A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分 。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。