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    Preparing an implant by gas-plasma treatment of a substrate to couple cells
    4.
    发明授权
    Preparing an implant by gas-plasma treatment of a substrate to couple cells 有权
    通过气体等离子体处理衬底来准备植入物以耦合细胞

    公开(公告)号：US07803393B2

    公开(公告)日：2010-09-28

    申请号：US10506956

    申请日：2003-03-06

    申请人： C. Mauli Agrawal ,  Steven R. Bailey ,  Jodie L. Polan

    发明人： C. Mauli Agrawal ,  Steven R. Bailey ,  Jodie L. Polan

    IPC分类号： A61F2/00 ,  C12N11/08 ,  C12N5/07

    CPC分类号： B29C59/142 ,  A61L27/3804 ,  A61L27/50 ,  B29L2031/7532 ,  C07K14/52

    摘要： An implant for use in biological/biomedical applications may be prepared by subjecting a substrate to a gas-plasma treatment. The substrate may be a biocompatible material, including metals, ceramics, and polymers. More specifically, the substrate may be a bioresorbable polymer. The gas-plasma treatment may include subjecting the substrate to a plasma formed by a reactive gas. The gas-plasma treatment may be performed for a chosen duration at a radio frequency within a temperature range, a pressure range, and a supplied energy range. The substrate may be exposed to living cells, such that some of the living cells become coupled to the substrate. Gas-plasma treatment parameters may be chosen such that the living cells coupled to the treated substrate produce more of a cellular product than living cells coupled to an untreated substrate.

    摘要翻译： 用于生物/生物医学应用的植入物可以通过对衬底进行气 - 等离子体处理来制备。 基底可以是生物相容性材料，包括金属，陶瓷和聚合物。 更具体地，基底可以是生物可再吸收的聚合物。 气体 - 等离子体处理可以包括使基板经受由反应气体形成的等离子体。 气体等离子体处理可以在温度范围，压力范围和供应能量范围内的射频下进行选定的持续时间。 衬底可以暴露于活细胞，使得一些活细胞变得与基底结合。 可以选择气体 - 等离子体处理参数，使得耦合到经处理的底物的活细胞比与未处理的底物相连的活细胞产生更多的细胞产物。