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    Force curve analysis method for planar object leveling
    1.
    发明申请
    Force curve analysis method for planar object leveling 审中-公开
    用于平面物体平整的力曲线分析方法

    公开(公告)号：US20110268883A1

    公开(公告)日：2011-11-03

    申请号：US13064926

    申请日：2011-04-26

    申请人： Jason R. Haaheim ,  John Edward Bussan ,  Edward R. Solheim ,  John Moskal ,  Michael R. Nelson ,  Vadim Val-Khvalabov

    发明人： Jason R. Haaheim ,  John Edward Bussan ,  Edward R. Solheim ,  John Moskal ,  Michael R. Nelson ,  Vadim Val-Khvalabov

    IPC分类号： B05D5/00 ,  B05C13/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： An apparatus for leveling an array of microscopic pens relative to a substrate surface or measuring a relative tilting therebetween includes an actuator configured to drive one of the array or the substrate to vary a distance therebetween, one or more force sensors configured to measure a force between the array and the surface, and a device configured calculate a force curve parameter of the force over the distance or time. The apparatus is configured to level the array relative to the surface by varying a relative tilting between the array and the substrate surface based on the force curve parameter or to measure the relative tilting based on the force curve parameter. Methods and software also are provided.

    摘要翻译： 一种用于相对于衬底表面调平微阵列阵列或测量它们之间的相对倾斜的装置包括致动器，其构造成驱动阵列或衬底之一以改变其间的距离，一个或多个力传感器被配置成测量 阵列和表面，以及配置的装置计算力与力的距离或时间的参数。 该装置被配置为通过基于力曲线参数改变阵列和基板表面之间的相对倾斜度来相对于表面来平坦化阵列，或者基于力曲线参数来测量相对倾斜度。 还提供了方法和软件。

    Ball spacer method for planar object leveling
    2.
    发明申请
    Ball spacer method for planar object leveling 审中-公开
    平面物体平整的球间隔法

    公开(公告)号：US20110268882A1

    公开(公告)日：2011-11-03

    申请号：US13064925

    申请日：2011-04-26

    申请人： John Edward Bussan ,  Jason R. Haaheim ,  John Moskal ,  Edward R. Solheim ,  Vadim Val-Khvalabov ,  Michael R. Nelson ,  Nabil A. Amro ,  Javad M. Vakil

    发明人： John Edward Bussan ,  Jason R. Haaheim ,  John Moskal ,  Edward R. Solheim ,  Vadim Val-Khvalabov ,  Michael R. Nelson ,  Nabil A. Amro ,  Javad M. Vakil

    IPC分类号： B05D5/00 ,  B05C13/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： An apparatus for leveling an array of microscopic pens with respect to a substrate surface is provided. The apparatus includes an array of microscopic pens; a substrate having a substrate surface; a controllable arm comprising a spherical ball on an end thereof; a force sensor configured to measure a force exerted on the array or the substrate surface at each of the plurality of positions; one or more actuators configured to drive the array and/or the substrate to vary a relative distance and a relative tilting between the array and the substrate surface; and a controller configured to determine a planar offset of the array with respect to the substrate and initiate a leveling of the array with respect to the substrate based on the planar offset. Methods are also provided.

    摘要翻译： 提供了一种用于使微阵列阵列相对于衬底表面调平的装置。 该装置包括一列微镜笔; 具有基板表面的基板; 一个可控臂，其一端包括一个球形球; 力传感器，其构造成测量在所述多个位置中的每一个处施加在所述阵列或所述基板表面上的力; 一个或多个致动器被配置为驱动阵列和/或基板以改变阵列和基板表面之间的相对距离和相对倾斜; 以及控制器，被配置为确定阵列相对于衬底的平面偏移，并基于平面偏移启动相对于衬底的阵列的调平。 还提供了方法。

    Active pen nanolithography
    4.
    发明授权
    Active pen nanolithography 失效
    活性笔纳米光刻

    公开(公告)号：US08261662B1

    公开(公告)日：2012-09-11

    申请号：US11268740

    申请日：2005-11-08

    申请人： Raymond Roger Shile ,  Terrisa Duenas ,  John Edward Bussan ,  Gregory J. Athas ,  Joseph S. Fragala ,  Jason R. Haaheim ,  Sylvain Cruchon-Dupeyrat ,  Jeffrey R. Rendlen

    发明人： Raymond Roger Shile ,  Terrisa Duenas ,  John Edward Bussan ,  Gregory J. Athas ,  Joseph S. Fragala ,  Jason R. Haaheim ,  Sylvain Cruchon-Dupeyrat ,  Jeffrey R. Rendlen

    IPC分类号： H01L21/02

    CPC分类号： G02B21/0008 ,  G02B21/002

    摘要： Improved actuated probes suitable for scanning probe lithography or microscopy, and especially direct-write nanolithography and method of fabrication thereof. In one embodiment, thermomechanically actuated cantilevers with oxide-sharpened microcast tips are inexpensively fabricated by a process that comprises low-temperature wafer bonding, such as (gold) thermocompressive bonding, eutectic or adhesive bonding. Also provided is a flexcircuit that electrically interconnects the actuated probes to external circuitry and mechanically couples them to the instrument actuator. An improved scanning probe lithography instrument, hardware and software, can be built around the actuated cantilevers and the flexcircuit. Finally, provided is an improved microfluidic circuit to deliver chemical compounds to the tips of (actuated) probes and a fabrication method for tall, high-aspect-ratio tips.

    摘要翻译： 改进的适用于扫描探针光刻或显微镜的致动探针，特别是直写式纳米光刻及其制造方法。 在一个实施例中，通过包括低温晶片接合（例如（金））热压接合，共晶或粘合粘合的方法廉价地制造具有氧化物锐化的微型天线的热机械致动悬臂。 还提供了将致动的探针电连接到外部电路并将它们机械耦合到仪器致动器的挠性电路。 可以围绕致动的悬臂和柔性电路构建改进的扫描探针光刻仪器，硬件和软件。 最后，提供了一种改进的微流体电路，用于将化学化合物递送到（致动的）探针的尖端，以及用于高，高纵横比尖端的制造方法。

    CONDUCTING LINES, NANOPARTICLES, INKS, AND PATTERNING
    6.
    发明申请
    CONDUCTING LINES, NANOPARTICLES, INKS, AND PATTERNING 审中-公开
    导线，纳米颗粒，墨水和图案

    公开(公告)号：US20100288543A1

    公开(公告)日：2010-11-18

    申请号：US12759572

    申请日：2010-04-13

    申请人： Sheng-Chun Hung ,  Omkar Nafday ,  Jason R. Haaheim

    发明人： Sheng-Chun Hung ,  Omkar Nafday ,  Jason R. Haaheim

    IPC分类号： H05K1/09 ,  H05K3/12 ,  B32B3/10

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  H05K1/097 ,  H05K3/1241 ,  H05K2203/0195 ,  Y10T428/24802

    摘要： Patterning and direct writing of nanoparticle inks formulated to provide conductive lines upon annealing. Patterning methods include stamp and tip based methods including microcontact printing and DPN printing. Ink viscosity, metal content, and density can be controlled to provide good results. Low temperature of annealing can be used to generate volume resistivities comparable to bulk resistivity. Long lines can be drawn. Addressable patterning can be achieved.

    摘要翻译： 形成和直接写入纳米颗粒油墨，以在退火时提供导电线。 图案化方法包括基于印迹和尖端的方法，包括微接触印刷和DPN印刷。 可以控制油墨粘度，金属含量和密度，以提供良好的效果。 可以使用低温退火来产生与体电阻率相当的体积电阻率。 可以绘制长线。 可以实现可寻址图案化。