公开(公告)号：US08256018B2

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：US12320842

申请日：2009-02-05

申请人： Jason Haaheim ,  Vadim Val-Khvalabov

发明人： Jason Haaheim ,  Vadim Val-Khvalabov

IPC分类号： G01Q60/24

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G01Q70/06 ,  G01Q80/00 ,  G03F9/7034

摘要： Faster and better methods for leveling arrays including software and user interface for instruments. A method comprising: (i) providing at least one array of cantilevers supported by at least one support structure, (ii) providing at least one substrate, (iii) providing at least one instrument to control the position of the array with respect to the substrate, (iv) leveling the array with respect to the substrate, wherein the leveling is performed via a user interface on the instrument which is adapted to have the user input positional information from the motors and piezoelectric extender when at least one cantilever deflects from the substrate. Uniform z-displacements can be achieved.

摘要翻译： 调整阵列的更快更好的方法，包括仪器的软件和用户界面。 一种方法，包括：（i）提供由至少一个支撑结构支撑的至少一个悬臂阵列，（ii）提供至少一个基底，（iii）提供至少一个仪器以控制阵列相对于 基板，（iv）使所述阵列相对于所述基板调平，其中所述调平是通过所述仪器上的用户界面进行的，所述用户接口适于使所述用户从所述电机和压电延伸器输入位置信息，当至少一个悬臂从 基质。 可以实现均匀的z位移。

公开(公告)号：US20100256824A1

公开(公告)日：2010-10-07

申请号：US12718753

申请日：2010-03-05

申请人： Vadim VAL-KHVALABOV ,  Javad M. Vakil ,  John E. Bussan ,  Jeffrey R. Rendlen ,  Michael R. Nelson ,  John Moskal

发明人： Vadim VAL-KHVALABOV ,  Javad M. Vakil ,  John E. Bussan ,  Jeffrey R. Rendlen ,  Michael R. Nelson ,  John Moskal

IPC分类号： G05D23/19 ,  G05D7/06

CPC分类号： F24F3/14 ,  F24F5/0042 ,  F24F11/30 ,  F24F2110/10 ,  F24F2110/20

摘要： Improved environmental control system for improved nanolithography, imaging, detecting, and fabricating. An article comprising: at least one environmental chamber; at least one conditioning chamber adapted to be in gaseous communication with the environmental chamber, wherein the conditioning chamber comprises at least one gas transport device such as a fan, optionally at least one temperature probe, and at least one heating-cooling device such as a thermoelectric device which in operation provides a cold side and a hot side, at least one water vapor source, and at least one temperature sensor, at least one humidity sensor, wherein the fan, the thermoelectric device, the water vapor source, the temperature sensor, and the humidity sensor are adapted for a temperature controlled and humidity controlled gaseous flow. Two fans can be used, wherein the fans can transport air in the same direction or in opposite directions.

摘要翻译： 改进的纳米光刻，成像，检测和制造的改进的环境控制系统。 一种制品，包括：至少一个环境室; 至少一个适于与所述环境室气态连通的调节室，其中所述调节室包括至少一个气体输送装置，例如风扇，可选地至少一个温度探头，以及至少一个加热冷却装置，例如 操作中的热电装置提供冷侧和热侧，至少一个水蒸气源和至少一个温度传感器，至少一个湿度传感器，其中风扇，热电装置，水蒸汽源，温度传感器 ，并且湿度传感器适用于温度控制和湿度控制的气流。 可以使用两个风扇，其中风扇可以沿相同方向或相反方向输送空气。

公开(公告)号：US20110268883A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13064926

申请日：2011-04-26

申请人： Jason R. Haaheim ,  John Edward Bussan ,  Edward R. Solheim ,  John Moskal ,  Michael R. Nelson ,  Vadim Val-Khvalabov

发明人： Jason R. Haaheim ,  John Edward Bussan ,  Edward R. Solheim ,  John Moskal ,  Michael R. Nelson ,  Vadim Val-Khvalabov

IPC分类号： B05D5/00 ,  B05C13/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An apparatus for leveling an array of microscopic pens relative to a substrate surface or measuring a relative tilting therebetween includes an actuator configured to drive one of the array or the substrate to vary a distance therebetween, one or more force sensors configured to measure a force between the array and the surface, and a device configured calculate a force curve parameter of the force over the distance or time. The apparatus is configured to level the array relative to the surface by varying a relative tilting between the array and the substrate surface based on the force curve parameter or to measure the relative tilting based on the force curve parameter. Methods and software also are provided.

摘要翻译： 一种用于相对于衬底表面调平微阵列阵列或测量它们之间的相对倾斜的装置包括致动器，其构造成驱动阵列或衬底之一以改变其间的距离，一个或多个力传感器被配置成测量 阵列和表面，以及配置的装置计算力与力的距离或时间的参数。 该装置被配置为通过基于力曲线参数改变阵列和基板表面之间的相对倾斜度来相对于表面来平坦化阵列，或者基于力曲线参数来测量相对倾斜度。 还提供了方法和软件。

公开(公告)号：US20110268882A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13064925

申请日：2011-04-26

申请人： John Edward Bussan ,  Jason R. Haaheim ,  John Moskal ,  Edward R. Solheim ,  Vadim Val-Khvalabov ,  Michael R. Nelson ,  Nabil A. Amro ,  Javad M. Vakil

发明人： John Edward Bussan ,  Jason R. Haaheim ,  John Moskal ,  Edward R. Solheim ,  Vadim Val-Khvalabov ,  Michael R. Nelson ,  Nabil A. Amro ,  Javad M. Vakil

IPC分类号： B05D5/00 ,  B05C13/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An apparatus for leveling an array of microscopic pens with respect to a substrate surface is provided. The apparatus includes an array of microscopic pens; a substrate having a substrate surface; a controllable arm comprising a spherical ball on an end thereof; a force sensor configured to measure a force exerted on the array or the substrate surface at each of the plurality of positions; one or more actuators configured to drive the array and/or the substrate to vary a relative distance and a relative tilting between the array and the substrate surface; and a controller configured to determine a planar offset of the array with respect to the substrate and initiate a leveling of the array with respect to the substrate based on the planar offset. Methods are also provided.

摘要翻译： 提供了一种用于使微阵列阵列相对于衬底表面调平的装置。 该装置包括一列微镜笔; 具有基板表面的基板; 一个可控臂，其一端包括一个球形球; 力传感器，其构造成测量在所述多个位置中的每一个处施加在所述阵列或所述基板表面上的力; 一个或多个致动器被配置为驱动阵列和/或基板以改变阵列和基板表面之间的相对距离和相对倾斜; 以及控制器，被配置为确定阵列相对于衬底的平面偏移，并基于平面偏移启动相对于衬底的阵列的调平。 还提供了方法。

公开(公告)号：US20110014378A1

公开(公告)日：2011-01-20

申请号：US12838384

申请日：2010-07-16

申请人： John Edward BUSSAN ,  Sergey V. Rozhok ,  Vadim Val-Khvalabov ,  Joseph S. Fragala ,  Jason R. Haaheim ,  Michael R. Nelson ,  Edward R. Solheim ,  Javad M. Vakil

发明人： John Edward BUSSAN ,  Sergey V. Rozhok ,  Vadim Val-Khvalabov ,  Joseph S. Fragala ,  Jason R. Haaheim ,  Michael R. Nelson ,  Edward R. Solheim ,  Javad M. Vakil

IPC分类号： B05D3/12 ,  G01Q70/02 ,  G01Q70/00 ,  G01Q80/00 ,  G01Q20/02 ,  F16M13/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G01Q80/00 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7053

摘要： Devices for leveling an object for patterning a substrate surface, including an array of scanning probe tips, are provided. A device may include a support structure adapted to mount an object, the object having a plurality of protrusions adapted to form a pattern on a surface of a substrate upon contact of the object to the surface; and at least one flexible joint assembly mounted to the support structure and adapted to allow the object to achieve a parallel orientation with respect to the surface upon contact of the object to the surface. Also provided are apparatuses and kits incorporating the devices and methods of making and using the devices and apparatuses.

摘要翻译： 提供了用于调整用于图案化衬底表面的对象的设备，包括扫描探针尖端的阵列。 装置可以包括适于安装物体的支撑结构，所述物体具有适于在物体与表面接触时在基底的表面上形成图案的多个突起; 以及至少一个柔性接头组件，其安装到所述支撑结构并且适于允许所述物体在所述物体与所述表面接触时相对于所述表面实现平行取向。 还提供了结合设备的装置和套件以及制造和使用设备和装置的方法。