公开(公告)号：US06825914B2

公开(公告)日：2004-11-30

申请号：US10020561

申请日：2001-12-07

申请人： Joachim Schroeder ,  Gerald Richter ,  Dieter Schmerek ,  Uwe Schubert ,  Maria Johanna Agnes Rubingh ,  Willem van Schaik ,  Siebe Landheer

发明人： Joachim Schroeder ,  Gerald Richter ,  Dieter Schmerek ,  Uwe Schubert ,  Maria Johanna Agnes Rubingh ,  Willem van Schaik ,  Siebe Landheer

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70883

摘要： In a system for flushing at least one internal space of an objective, in particular an exposure projection objective for semiconductor lithography, flushing is performed by mixing at least two inert gasses in such a way that the refractive index resulting therefrom corresponds at least approximately to the refractive index of air.

摘要翻译： 在用于冲洗物镜的至少一个内部空间的系统中，特别是用于半导体光刻的曝光投影物镜，通过混合至少两种惰性气体来进行冲洗，使得由其产生的折射率至少约为 空气的折射率。

公开(公告)号：US09176371B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US12559664

申请日：2009-09-15

申请人： Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Richard Joseph Bruls ,  Hans Jansen ,  Siebe Landheer ,  Laurentius Catrinus Jorritsma ,  Arnout Johannes Meester ,  Bauke Jansen ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Maurice Martinus Johannes Van Der Lee ,  Gheorghe Tanasa ,  Lambertus Dominicus Noordam

发明人： Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Richard Joseph Bruls ,  Hans Jansen ,  Siebe Landheer ,  Laurentius Catrinus Jorritsma ,  Arnout Johannes Meester ,  Bauke Jansen ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Maurice Martinus Johannes Van Der Lee ,  Gheorghe Tanasa ,  Lambertus Dominicus Noordam

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52

摘要： A lithographic apparatus is disclosed that includes a projection system, and a liquid confinement structure configured to at least partly confine immersion liquid to an immersion space defined by the projection system, the liquid confinement structure and a substrate and/or substrate table. Measures are taken in the lithographic apparatus, for example, to reduce the effect of droplets on the final element of the projection system or to substantially avoid such droplet formation.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其包括投影系统和液体限制结构，其被配置为至少部分地将浸没液体限制在由投影系统，液体限制结构和基板和/或基板台所限定的浸没空间中。 例如，在光刻设备中采取措施来减少液滴对投影系统的最终元件的影响或基本避免这种液滴的形成。

公开(公告)号：US08451423B2

公开(公告)日：2013-05-28

申请号：US12486425

申请日：2009-06-17

申请人： Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Siebe Landheer ,  Yücel Kök ,  Marcel Beckers ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda

发明人： Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Siebe Landheer ,  Yücel Kök ,  Marcel Beckers ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70725

摘要： A lithographic apparatus of the immersion type is disclosed. In the apparatus, a plurality of heating and/or cooling devices are provided in the vicinity of the final element of the projection system, e.g. in a barrier member of a liquid handling system. The heating and/or cooling devices can be used, for example, to control temperature gradients in the final element of the projection system to control aberrations therein.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备。 在该装置中，在投影系统的最终元件附近设置多个加热和/或冷却装置。 在液体处理系统的阻挡构件中。 加热和/或冷却装置可用于例如控制投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。

公开(公告)号：US08928857B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US12770356

申请日：2010-04-29

申请人： Ivo Adam Johannes Thomas ,  Siebe Landheer ,  Arnout Johannes Meester ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Gheorghe Tanasa

发明人： Ivo Adam Johannes Thomas ,  Siebe Landheer ,  Arnout Johannes Meester ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Gheorghe Tanasa

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70891

摘要： A lithographic apparatus comprising a projection system, and a liquid confinement structure configured to at least partly confine immersion liquid to an immersion space defined by the projection system, the liquid confinement structure and a substrate and/or substrate table is disclosed wherein a measure is taken to reduce the effect of droplets and/or a liquid film on the last element of the projection system.

摘要翻译： 一种包括投影系统和液体限制结构的光刻设备，其被配置为至少部分地将浸没液体限制在由投影系统，液体限制结构以及衬底和/或衬底台限定的浸没空间中，其中采取措施 以减少液滴和/或液膜对投影系统的最后一个元件的影响。

公开(公告)号：US20120274912A1

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：US13543613

申请日：2012-07-06

申请人： Marcus Adrianus VAN DE KERKHOF ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen

发明人： Marcus Adrianus VAN DE KERKHOF ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. The projection system has a final element. The apparatus also includes a barrier member surrounding a space between the projection system and, in use, the substrate, to define in part with the final element a reservoir for liquid. The barrier member is spaced from the final element to define a gap therebetween. The apparatus further includes a deformable seal between a radially outer surface of the final element and a radially outer surface of the barrier member. The deformable seal is configured to substantially prevent a gas from flowing past the seal towards or away from the reservoir of liquid.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 投影系统具有最终元素。 该装置还包括围绕投影系统之间的空间的屏障构件，并且在使用中包括基底，以部分地限定最终元件用于液体的储存器。 阻挡构件与最终元件间隔开，以在它们之间形成间隙。 该装置还包括在最终元件的径向外表面和阻挡构件的径向外表面之间的可变形密封件。 可变形密封件被构造成基本上防止气体流过密封件朝向或远离液体容器流动。

公开(公告)号：US08233134B2

公开(公告)日：2012-07-31

申请号：US12237583

申请日：2008-09-25

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Ivo Adam Johannes Thomas

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Ivo Adam Johannes Thomas

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. The projection system has a final element. The apparatus also includes a barrier member surrounding a space between the projection system and, in use, the substrate, to define in part with the final element a reservoir for liquid. The barrier member is spaced from the final element to define a gap therebetween. The apparatus further includes a deformable seal between a radially outer surface of the final element and a radially outer surface of the barrier member. The deformable seal is configured to substantially prevent a gas from flowing past the seal towards or away from the reservoir of liquid.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 投影系统具有最终元素。 该装置还包括围绕投影系统之间的空间的屏障构件，并且在使用中包括基底，以部分地限定最终元件用于液体的储存器。 阻挡构件与最终元件间隔开，以在它们之间形成间隙。 该装置还包括在最终元件的径向外表面和阻挡构件的径向外表面之间的可变形密封件。 可变形密封件被构造成基本上防止气体流过密封件朝向或远离液体容器流动。

公开(公告)号：US20090316121A1

公开(公告)日：2009-12-24

申请号：US12486425

申请日：2009-06-17

申请人： Franciscus Johannes Joseph JANSSEN ,  Siebe Landheer ,  Yucel Kok ,  Marcel Beckers ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda

发明人： Franciscus Johannes Joseph JANSSEN ,  Siebe Landheer ,  Yucel Kok ,  Marcel Beckers ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70725

摘要： A lithographic apparatus of the immersion type is disclosed. In the apparatus, a plurality of heating and/or cooling devices are provided in the vicinity of the final element of the projection system, e.g. in a barrier member of a liquid handling system. The heating and/or cooling devices can be used, for example, to control temperature gradients in the final element of the projection system to control aberrations therein.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备。 在该装置中，在投影系统的最终元件附近设置多个加热和/或冷却装置。 在液体处理系统的阻挡构件中。 加热和/或冷却装置可用于例如控制投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。

公开(公告)号：US20090103062A1

公开(公告)日：2009-04-23

申请号：US12237583

申请日：2008-09-25

申请人： Marcus Adrianus VAN DE KERKHOF ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Franciscus Johannes Joseph Janseen ,  Ivo Adam Johannes Thomas

发明人： Marcus Adrianus VAN DE KERKHOF ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Franciscus Johannes Joseph Janseen ,  Ivo Adam Johannes Thomas

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. The projection system has a final element. The apparatus also includes a barrier member surrounding a space between the projection system and, in use, the substrate, to define in part with the final element a reservoir for liquid. The barrier member is spaced from the final element to define a gap therebetween. The apparatus further includes a deformable seal between a radially outer surface of the final element and a radially outer surface of the barrier member. The deformable seal is configured to substantially prevent a gas from flowing past the seal towards or away from the reservoir of liquid.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 投影系统具有最终元素。 该装置还包括围绕投影系统之间的空间的屏障构件，并且在使用中包括基底，以部分地限定最终元件用于液体的储存器。 阻挡构件与最终元件间隔开，以在它们之间形成间隙。 该装置还包括在最终元件的径向外表面和阻挡构件的径向外表面之间的可变形密封件。 可变形密封件被构造成基本上防止气体流过密封件朝向或远离液体容器流动。

公开(公告)号：US09182678B2

公开(公告)日：2015-11-10

申请号：US13543613

申请日：2012-07-06

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Siebe Landheer ,  Marcel Beckers ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. The projection system has a final element. The apparatus also includes a barrier member surrounding a space between the projection system and, in use, the substrate, to define in part with the final element a reservoir for liquid. The barrier member is spaced from the final element to define a gap therebetween. The apparatus further includes a deformable seal between a radially outer surface of the final element and a radially outer surface of the barrier member. The deformable seal is configured to substantially prevent a gas from flowing past the seal towards or away from the reservoir of liquid.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 投影系统具有最终元素。 该装置还包括围绕投影系统之间的空间的屏障构件，并且在使用中包括基底，以部分地限定最终元件用于液体的储存器。 阻挡构件与最终元件间隔开，以在它们之间形成间隙。 该装置还包括在最终元件的径向外表面和阻挡构件的径向外表面之间的可变形密封件。 可变形密封件被构造成基本上防止气体流过密封件朝向或远离液体容器流动。

公开(公告)号：US08730447B2

公开(公告)日：2014-05-20

申请号：US12559813

申请日：2009-09-15

申请人： Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Richard Joseph Bruls ,  Hans Jansen ,  Siebe Landheer ,  Arnout Johannes Meester ,  Bauke Jansen ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Gheorghe Tanasa

发明人： Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Richard Joseph Bruls ,  Hans Jansen ,  Siebe Landheer ,  Arnout Johannes Meester ,  Bauke Jansen ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Gheorghe Tanasa

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52

摘要： A lithographic apparatus comprising a projection system, and a liquid confinement structure configured to at least partly confine immersion liquid to an immersion space defined by the projection system, the liquid confinement structure and a substrate and/or substrate table is disclosed wherein a humid gas space is defined between the projection system, the liquid confinement structure and immersion liquid in the immersion space, the humid gas space being configured to contain humid gas.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括投影系统和液体限制结构，其被配置为至少部分地将浸没液体限制在由投影系统，液体限制结构和衬底和/或衬底台限定的浸没空间中，其中湿气体空间 被限定在投影系统，液体限制结构和浸没空间中的浸没液体之间，湿气空间被配置为容纳湿气。