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    Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern-forming method using the same
    6.
    发明授权
    Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern-forming method using the same 有权
    光化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US09223204B2

    公开(公告)日：2015-12-29

    申请号：US13669530

    申请日：2012-11-06

    申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

    发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

    摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。

    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
    8.
    发明申请
    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
    化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀膜和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20140127627A1

    公开(公告)日：2014-05-08

    申请号：US13669530

    申请日：2012-11-06

    申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

    发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

    摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。

    Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
    9.
    发明授权
    Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor 有权
    光敏树脂组合物，遮光滤色片及其制作方法及图像传感器

    公开(公告)号：US08110324B2

    公开(公告)日：2012-02-07

    申请号：US12407935

    申请日：2009-03-20

    申请人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    发明人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    IPC分类号： G02B5/20

    CPC分类号： G03F7/0007

    摘要： A photosensitive resin composition is provided that includes at least (A) titanium black, (B) two or more types of polymerizable compounds, (C) a resin, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent. There are also provided a light-shielding color filter formed by using the photosensitive resin composition, and a process for producing a light-shielding color filter, the process including a step of coating a substrate with the photosensitive resin composition, a step of imagewise exposing, and a step of developing to form a pattern. Furthermore, there is provided an image sensor that includes the light-shielding color filter.

    摘要翻译： 提供至少包含（A）钛黑，（B）两种或更多种可聚合化合物，（C）树脂，（D）光聚合引发剂和（E）有机溶剂）的感光性树脂组合物。 还提供了使用感光性树脂组合物形成的遮光性滤色器，以及遮光性滤色片的制造方法，其特征在于，包括使用所述感光性树脂组合物涂布基材的工序，成像曝光工序 ，以及形成图案的步骤。 此外，提供了包括遮光滤色器的图像传感器。

    PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LIGHT-SHIELDING COLOR FILTER AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR, AND IMAGE SENSOR
    10.
    发明申请
    PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LIGHT-SHIELDING COLOR FILTER AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR, AND IMAGE SENSOR 有权
    光敏树脂组合物，遮光颜料过滤器及其生产工艺及图像传感器

    公开(公告)号：US20090246651A1

    公开(公告)日：2009-10-01

    申请号：US12411457

    申请日：2009-03-26

    申请人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    发明人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0007 ,  G03F7/031

    摘要： A photosensitive resin composition is provided that includes at least (A) titanium black, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator (D) a resin, and (E) an organic solvent, the photopolymerization initiator (C) using in combination two or more types of photopolymerization initiators including at least one type of oxime-based photopolymerization initiator. There are also provided a light-shielding color filter having a pattern formed by using the photosensitive resin composition, a process for producing a light-shielding color filter that includes a step of coating a substrate with the photosensitive resin composition, a step of imagewise exposing, and a step of developing to form a pattern, and an image sensor having the light-shielding color filter.

    摘要翻译： 提供至少包含（A）钛黑，（B）可聚合化合物，（C）光聚合引发剂（D）和树脂）和（E）有机溶剂的光敏树脂组合物，所述光聚合引发剂（C）使用 组合两种或更多种类型的光聚合引发剂，其包括至少一种类型的肟基光聚合引发剂。 还提供了一种具有通过使用感光性树脂组合物形成的图案的遮光滤色器，制造遮光滤色器的方法，该遮光滤色器包括用感光性树脂组合物涂布基板的步骤，成像曝光步骤 ，以及形成图案的步骤，以及具有遮光滤色器的图像传感器。