公开(公告)号：US09340561B2

公开(公告)日：2016-05-17

申请号：US14345002

申请日：2012-08-28

申请人： Makiko Umezaki ,  Daisuke Sakuma ,  Taito Nishino ,  Takahiro Kishioka ,  Yoshiomi Hiroi ,  Shigeo Kimura ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

发明人： Makiko Umezaki ,  Daisuke Sakuma ,  Taito Nishino ,  Takahiro Kishioka ,  Yoshiomi Hiroi ,  Shigeo Kimura ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

IPC分类号： C07F7/08 ,  A61L27/28 ,  A61L27/54 ,  A61L29/08 ,  A61L29/16 ,  A61L31/08 ,  A61L31/16 ,  C09D5/16 ,  C07F7/18

CPC分类号： C07F7/081 ,  A61L27/28 ,  A61L27/54 ,  A61L29/08 ,  A61L29/16 ,  A61L31/08 ,  A61L31/16 ,  A61L2300/424 ,  C07F7/1804 ,  C09D5/1625

摘要： There is provided a novel organic silicon compound that can be used for a silane coupling agent. An organic silicon compound of Formula (1): (where A− is Formula (2) or Formula (3): E is Formula (4) or Formula (5): R1 and R2 are each independently a C1-5 alkyl group, R3 is a hydrogen atom or a methyl group, R4 and R5 are each independently a C1-5 alkyl group, m, n, and p are each independently an integer of 1 to 5, and q is an integer of 1 to 3).

摘要翻译： 提供了可用于硅烷偶联剂的新型有机硅化合物。 式（1）的有机硅化合物：其中A-是式（2）或式（3）：E是式（4）或式（5）：R 1和R 2各自独立地为C 1-5烷基， R3是氢原子或甲基，R4和R5各自独立地为C1-5烷基，m，n和p各自独立地为1〜5的整数，q为1〜3的整数）。

公开(公告)号：US20140370182A1

公开(公告)日：2014-12-18

申请号：US14345002

申请日：2012-08-28

申请人： Makiko Umezaki ,  Daisuke Sakuma ,  Taito Nishino ,  Takahiro Kishioka ,  Yoshiomi Hiroi ,  Shigeo Kimura ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

发明人： Makiko Umezaki ,  Daisuke Sakuma ,  Taito Nishino ,  Takahiro Kishioka ,  Yoshiomi Hiroi ,  Shigeo Kimura ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

IPC分类号： C07F7/08 ,  C09D5/16

CPC分类号： C07F7/081 ,  A61L27/28 ,  A61L27/54 ,  A61L29/08 ,  A61L29/16 ,  A61L31/08 ,  A61L31/16 ,  A61L2300/424 ,  C07F7/1804 ,  C09D5/1625

摘要： There is provided a novel organic silicon compound that can be used for a silane coupling agent. An organic silicon compound of Formula (1): (where A− is Formula (2) or Formula (3): E is Formula (4) or Formula (5): R1 and R2 are each independently a C1-5 alkyl group, R3 is a hydrogen atom or a methyl group, R4 and R5 are each independently a C1-5 alkyl group, m, n, and p are each independently an integer of 1 to 5, and q is an integer of 1 to 3).

摘要翻译： 提供了可用于硅烷偶联剂的新型有机硅化合物。 式（1）的有机硅化合物：其中A-是式（2）或式（3）：E是式（4）或式（5）：R 1和R 2各自独立地为C 1-5烷基， R3是氢原子或甲基，R4和R5各自独立地为C1-5烷基，m，n和p各自独立地为1〜5的整数，q为1〜3的整数）。

公开(公告)号：US09140989B2

公开(公告)日：2015-09-22

申请号：US14111021

申请日：2012-04-11

申请人： Takahiro Kishioka ,  Makiko Umezaki ,  Shigeo Kimura ,  Hirokazu Nishimaki ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

发明人： Takahiro Kishioka ,  Makiko Umezaki ,  Shigeo Kimura ,  Hirokazu Nishimaki ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  C08F220/54 ,  G03F7/038 ,  C08F220/20 ,  C08F220/30 ,  C08F220/56 ,  C08F220/58

CPC分类号： G03F7/20 ,  C08F220/20 ,  C08F220/30 ,  C08F220/54 ,  C08F220/56 ,  C08F220/58 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/32

摘要： A material forms a pattern by applying a photosensitive composition to a base material and drying to form a photosensitive coating and performing exposure and development, and a method for forming the pattern. A photosensitive composition includes water-soluble organic particles, and a solvent, wherein the solvent is a poor solvent for the water-soluble organic particles. Preferably, the water-soluble organic particles of the photosensitive composition includes a polymer which contains a unit structure (A) for forming organic particles, a unit structure (B) for forming interparticle crosslinkage, and a unit structure (C) for imparting dispersibility, and the photosensitive composition further includes a photoacid generator. In addition, the water-soluble organic particles of the photosensitive composition includes a polymer which contains the unit structure (A) for forming organic particles, the unit structure (B) for forming interparticle crosslinkage, the unit structure (C) for imparting dispersibility, and a unit structure (D) having a photoacid generating group.

摘要翻译： 材料通过将光敏组合物施加到基材上并干燥以形成感光涂层并进行曝光和显影，形成图案，以及形成图案的方法。 光敏组合物包括水溶性有机颗粒和溶剂，其中溶剂是水溶性有机颗粒的不良溶剂。 优选地，感光性组合物的水溶性有机颗粒包括含有形成有机颗粒的单元结构（A），用于形成颗粒间交联的单元结构（B）和赋予分散性的单元结构（C））的聚合物， 并且光敏组合物还包括光致酸产生剂。 另外，感光性组合物的水溶性有机粒子包含含有形成有机粒子的单元结构（A），用于形成粒子间交联的单元结构（B），赋予分散性的单位结构（C） 和具有光酸产生基团的单元结构（D）。

公开(公告)号：US20140045119A1

公开(公告)日：2014-02-13

申请号：US14111021

申请日：2012-04-11

申请人： Takahiro Kishioka ,  Makiko Umezaki ,  Shigeo Kimura ,  Hirokazu Nishimaki ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

发明人： Takahiro Kishioka ,  Makiko Umezaki ,  Shigeo Kimura ,  Hirokazu Nishimaki ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/20 ,  C08F220/20 ,  C08F220/30 ,  C08F220/54 ,  C08F220/56 ,  C08F220/58 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/32

摘要： A material forms a pattern by applying a photosensitive composition to a base material and drying to form a photosensitive coating and performing exposure and development, and a method for forming the pattern. A photosensitive composition includes water-soluble organic particles, and a solvent, wherein the solvent is a poor solvent for the water-soluble organic particles. Preferably, the water-soluble organic particles of the photosensitive composition includes a polymer which contains a unit structure (A) for forming organic particles, a unit structure (B) for forming interparticle crosslinkage, and a unit structure (C) for imparting dispersibility, and the photosensitive composition further includes a photoacid generator. In addition, the water-soluble organic particles of the photosensitive composition includes a polymer which contains the unit structure (A) for forming organic particles, the unit structure (B) for forming interparticle crosslinkage, the unit structure (C) for imparting dispersibility, and a unit structure (D) having a photoacid generating group.

摘要翻译： 材料通过将光敏组合物施加到基材上并干燥以形成感光涂层并进行曝光和显影，形成图案，以及形成图案的方法。 光敏组合物包括水溶性有机颗粒和溶剂，其中溶剂是水溶性有机颗粒的不良溶剂。 优选地，感光性组合物的水溶性有机颗粒包括含有形成有机颗粒的单元结构（A），用于形成颗粒间交联的单元结构（B）和赋予分散性的单元结构（C））的聚合物， 并且光敏组合物还包括光致酸产生剂。 另外，感光性组合物的水溶性有机粒子包含含有形成有机粒子的单元结构（A），用于形成粒子间交联的单元结构（B），赋予分散性的单位结构（C） 和具有光酸产生基团的单元结构（D）。

公开(公告)号：US20120288795A1

公开(公告)日：2012-11-15

申请号：US13522392

申请日：2010-11-16

申请人： Makiko Umezaki ,  Takahiro Kishioka ,  Yusuke Horiguchi ,  Hirokazu Nishimaki ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

发明人： Makiko Umezaki ,  Takahiro Kishioka ,  Yusuke Horiguchi ,  Hirokazu Nishimaki ,  Tomoya Ohashi ,  Yuki Usui

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0955

摘要： A composition for forming a photosensitive resist underlayer film and a method for forming a resist pattern. The composition for forming a photosensitive resist underlayer film includes a polymer having a structural unit of Formula (1), a compound having at least two vinyl ether groups, a photo-acid generator; and a solvent: where R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R2 is a C1-4 alkyl group, and i is an integer of 0 to 4.

摘要翻译： 用于形成光致抗蚀剂下层膜的组合物和形成抗蚀剂图案的方法。 用于形成光敏抗蚀剂下层膜的组合物包括具有式（1）结构单元的聚合物，具有至少两个乙烯基醚基团的化合物，光酸产生剂; 和溶剂：其中R1是氢原子或甲基，R2是C1-4烷基，i是0-4的整数。

公开(公告)号：US20120251950A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13516304

申请日：2010-12-06

申请人： Yusuke Horiguchi ,  Makiko Umezaki ,  Noriaki Fujitani ,  Hirokazu Nishimaki ,  Takahiro Kishioka ,  Takahiro Hamada

发明人： Yusuke Horiguchi ,  Makiko Umezaki ,  Noriaki Fujitani ,  Hirokazu Nishimaki ,  Takahiro Kishioka ,  Takahiro Hamada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/56 ,  G03F7/038 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  C08F2220/1858 ,  C08F220/58 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/585

摘要： A composition for forming a resist underlayer film to be used in a lithography process, that includes: a polymer containing unit structures of Formula (1), Formula (2), and Formula (3): the polymer being a polymer in which the unit structure of Formula (1) has a ratio of mole number (a) within a range of 0.20≦a≦0.90, the unit structure of Formula (2) has a ratio of mole number (b) within a range of 0.05≦b≦0.60, and the unit structure of Formula (3) has a ratio of mole number (c) within a range of 0.001≦c≦0.40, when a total mole number of all unit structures constituting the polymer is 1.0, and the polymer having a weight average molecular weight of 3,000 to 100,000; a crosslinkable compound; a photoacid generator; and a solvent.

摘要翻译： 一种用于形成在光刻工艺中使用的抗蚀剂下层膜的组合物，其包括：含有式（1），式（2）和式（3）的单元结构的聚合物：聚合物是聚合物，其中单元 式（1）的结构的摩尔数（a）在0.20＆lt; 1EE的范围内; a＆nlE; 0.90，式（2）的单元结构的摩尔数（b）的比例在0.05＆lt; 1EE的范围内; （3）的单元结构，当构成聚合物的全部单元结构的总摩尔数为1.0时，其摩尔数（c）在0.001＆lt; 1lE; c＆nlE; 0.40的范围内， 聚合物，其重均分子量为3,000〜100,000; 可交联化合物; 光致酸发生器; 和溶剂。

公开(公告)号：US09436085B2

公开(公告)日：2016-09-06

申请号：US13516304

申请日：2010-12-06

申请人： Yusuke Horiguchi ,  Makiko Umezaki ,  Noriaki Fujitani ,  Hirokazu Nishimaki ,  Takahiro Kishioka ,  Takahiro Hamada

发明人： Yusuke Horiguchi ,  Makiko Umezaki ,  Noriaki Fujitani ,  Hirokazu Nishimaki ,  Takahiro Kishioka ,  Takahiro Hamada

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/56 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/56 ,  G03F7/038 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  C08F2220/1858 ,  C08F220/58 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/585

摘要： A composition for forming a resist underlayer film to be used in a lithography process, that includes: a polymer containing unit structures of Formula (1), Formula (2), and Formula (3): the polymer being a polymer in which the unit structure of Formula (1) has a ratio of mole number (a) within a range of 0.20≦a≦0.90, the unit structure of Formula (2) has a ratio of mole number (b) within a range of 0.05≦b≦0.60, and the unit structure of Formula (3) has a ratio of mole number (c) within a range of 0.001≦c≦0.40, when a total mole number of all unit structures constituting the polymer is 1.0, and the polymer having a weight average molecular weight of 3,000 to 100,000; a crosslinkable compound; a photoacid generator; and a solvent.