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    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    2.
    发明申请
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US20070182947A1

    公开(公告)日：2007-08-09

    申请号：US11350278

    申请日：2006-02-09

    申请人： Peter Hempenius ,  Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Youssef De Vos

    发明人： Peter Hempenius ,  Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Youssef De Vos

    IPC分类号： G03B27/62

    CPC分类号： G03F7/707

    摘要： A device manufacturing method includes transferring a pattern from a patterning device onto a substrate. The method includes bringing the patterning device and the support together, and applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device. The patterning device is now excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof. Then, the patterning device is aligned, and the pattern is transferred from the patterning device onto the substrate. The patterning device may be excited with an alternating acceleration. When the patterning device is excited, the patterning device is allowed to settle with respect to the support, thereby improving a friction therebetween to reduce a risk of slipping or local slipping of the patterning device.

    摘要翻译： 一种器件制造方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。 该方法包括将图案形成装置和支撑件组合在一起，并且在图案形成装置和支撑件之间施加基本上静止的力以保持图案形成装置。 图案形成装置现在被基本上动态的力激发以使其能够滑动。 然后，图案形成装置对准，并且图案从图案形成装置转移到基板上。 图案形成装置可以用交替的加速度激发。 当图案形成装置被激发时，允许图案形成装置相对于支撑件沉降，从而改善它们之间的摩擦，以减少图案形成装置的滑动或局部滑动的风险。

    Lithographic apparatus and stage apparatus
    3.
    发明申请
    Lithographic apparatus and stage apparatus 失效
    平版印刷设备和舞台设备

    公开(公告)号：US20070188724A1

    公开(公告)日：2007-08-16

    申请号：US11353249

    申请日：2006-02-14

    申请人： Fransicus Jacobs ,  Marcel Baggen ,  Erik Loopstra ,  Harmen Schoot ,  Arjan Bakker ,  Arjan Wel ,  Krijn Bustraan

    发明人： Fransicus Jacobs ,  Marcel Baggen ,  Erik Loopstra ,  Harmen Schoot ,  Arjan Bakker ,  Arjan Wel ,  Krijn Bustraan

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/707

    摘要： A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The support includes a force actuator device to exert a force onto the patterning device in a direction of movement of the support. The force actuator device includes a movable part which is pivotably about a pivot axis and thereby connected to the support. The movable part is in the direction of movement of the support substantially balanced with respect to the pivot axis. The force actuator device further includes an actuator to exert via the movable part the force onto the patterning device, to at least partly compensate for the information or a risk of slippage due to acceleration of the support in the direction of movement.

    摘要翻译： 光刻设备包括构造成支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束。 该支撑件包括一个力促动器装置，以在支撑件的移动方向上向图案形成装置施加力。 力致动器装置包括可枢转地围绕枢转轴线并由此连接到支撑件的可移动部件。 可移动部分在支撑件的运动方向上相对于枢转轴线基本平衡。 力致动器装置还包括致动器，其经由可移动部件施加力到图案形成装置上，以至少部分地补偿信息或由于支撑件沿着移动方向的加速而导致的滑动的风险。