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    PRODUCTION AND USE OF PARAFFIN INHIBITOR FORMULATIONS
    3.
    发明申请
    PRODUCTION AND USE OF PARAFFIN INHIBITOR FORMULATIONS 审中-公开
    生物化学和生物利用抑制剂制剂

    公开(公告)号：US20100130385A1

    公开(公告)日：2010-05-27

    申请号：US12595422

    申请日：2008-04-10

    申请人： Marcus Guzmann ,  Yaqian Liu ,  Rouven Konrad ,  Diana Franz

    发明人： Marcus Guzmann ,  Yaqian Liu ,  Rouven Konrad ,  Diana Franz

    IPC分类号： C09K8/524

    CPC分类号： C09K8/524 ,  C10L1/10 ,  C10L1/125 ,  C10L1/1824 ,  C10L1/1826 ,  C10L1/1881 ,  C10L1/1963 ,  C10L1/1966 ,  C10L1/1973 ,  C10L1/1985 ,  C10L1/2222 ,  C10L1/2225 ,  C10L1/223 ,  C10L1/224 ,  C10L1/23 ,  C10L1/2364 ,  C10L1/238 ,  C10L1/2381 ,  C10L1/2437 ,  C10L1/2641 ,  C10L1/2658 ,  C10L10/16

    摘要： A process for preparing a paraffin inhibitor formulation comprising (a) preparing a mixture comprising a waxy paraffin inhibitor component having a melting point of >0° C. and an emulsifier component, wherein the mixture is prepared at a first temperature range above the melting point of the waxy paraffin inhibitor; (b) adding water to the mixture to produce an o/w emulsion; and (c) cooling the o/w emulsion to a temperature in a second temperature range which is below the melting point of the waxy paraffin inhibitor. The mixture prepared in step (a) may further comprise water to produce a w/o emulsion, the water being present in a proportion by weight that is lower than the sum of the proportions by weight of the paraffin inhibitor and the emulsifier component. The process may further comprise (d) adding an at least partially water-miscible organic solvent in which the paraffin inhibitor is insoluble.

    摘要翻译： 一种制备石蜡抑制剂制剂的方法，包括（a）制备包含熔点> 0℃的蜡状石蜡抑制剂组分和乳化剂组分的混合物，其中所述混合物在高于熔点的第一温度范围 的蜡状石蜡抑制剂; （b）向混合物中加入水以产生o / w乳液; 和（c）将o / w乳液冷却至低于蜡状石蜡抑制剂的熔点的第二温度范围内的温度。 在步骤（a）中制备的混合物还可以包含水以产生w / o乳液，水的重量比低于石蜡抑制剂和乳化剂组分重量比的总和。 该方法还可以包含（d）添加至少部分水混溶性有机溶剂，其中石蜡抑制剂不溶于其中。

    Composition for polishing surfaces of silicon dioxide
    5.
    发明授权
    Composition for polishing surfaces of silicon dioxide 有权
    用于抛光二氧化硅表面的组合物

    公开(公告)号：US08633111B2

    公开(公告)日：2014-01-21

    申请号：US12521653

    申请日：2007-12-28

    申请人： Sven Holger Behrens ,  Yaqian Liu ,  Günter Kern ,  Heidrun Debus

    发明人： Sven Holger Behrens ,  Yaqian Liu ,  Günter Kern ,  Heidrun Debus

    IPC分类号： H01L21/302

    CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

    摘要： A composition for polishing surfaces comprises the following components: a) at least one inorganic abrasive component (S) comprising a lanthanide oxide, b) at least one organic dispersing-agent component based on polymer (P), c) at least one organic gelling agent (G) such as gellan gum, d) water as solution or dispersing medium, and e) if appropriate further auxiliary and additive materials and has high stability.

    摘要翻译： 用于抛光表面的组合物包括以下组分：a）至少一种包含镧系元素氧化物的无机磨料组分（S），b）至少一种基于聚合物（P）的有机分散剂组分，c）至少一种有机胶凝 药剂（G），例如结冷胶，d）水作为溶液或分散介质，以及e）如果合适的话，辅助剂和添加剂还有其稳定性。

    COMPOSITION FOR POLISHING SURFACES OF SILICON DIOXIDE
    6.
    发明申请
    COMPOSITION FOR POLISHING SURFACES OF SILICON DIOXIDE 有权
    二氧化硅抛光表面的组合物

    公开(公告)号：US20110045671A1

    公开(公告)日：2011-02-24

    申请号：US12521653

    申请日：2007-12-28

    申请人： Sven Holger Behrens ,  Yaqian Liu ,  Guenter Kern ,  Heidrun Debus

    发明人： Sven Holger Behrens ,  Yaqian Liu ,  Guenter Kern ,  Heidrun Debus

    IPC分类号： H01L21/465 ,  C09K13/00 ,  H01L21/463

    CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

    摘要： A composition for polishing surfaces comprises the following components: a) at least one inorganic abrasive component (S) comprising a lanthanide oxide, b) at least one organic dispersing-agent component based on polymer (P), c) at least one organic gelling agent (G) such as gellan gum, d) water as solution or dispersing medium, and e) if appropriate further auxiliary and additive materials and has high stability.

    摘要翻译： 用于抛光表面的组合物包括以下组分：a）至少一种包含镧系元素氧化物的无机磨料组分（S），b）至少一种基于聚合物（P）的有机分散剂组分，c）至少一种有机胶凝 药剂（G），例如结冷胶，d）水作为溶液或分散介质，以及e）如果合适的话，辅助剂和添加剂还有其稳定性。