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1.发明授权Antireflective coatings for high-resolution photolithographic synthesis of DNA arrays 有权用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层公开(公告)号：US07332273B2
公开(公告)日：2008-02-19
申请号：US10177169
申请日：2002-06-20
申请人： Mark Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Troung
发明人： Mark Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Troung
IPC分类号： C12Q1/68
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support; derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光引导合成在衬底上形成聚合物阵列的方法，该衬底具有在固体支持体上具有一个或多个电介质涂层的第一层; 通过使第一层与硅烷化试剂接触来衍生第一层，以及设置在所述第一层上的第二层，其中第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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2.发明授权Antireflective coatings for high-resolution photolithographic synthesis of DNA arrays 有权用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层公开(公告)号：US08859196B2
公开(公告)日：2014-10-14
申请号：US13275521
申请日：2011-10-18
申请人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Richard P. Rava , Martin J. Goldberg
发明人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Richard P. Rava , Martin J. Goldberg
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support, derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光导合成法在基底上形成聚合物阵列的方法，该方法是通过提供具有第一层的基底，该第一层包含固体支持物上的一个或多个电介质涂层，通过使第一层与硅烷化接触来衍生第一层 试剂和设置在所述第一层上的第二层，其中所述第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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3.发明申请ANTIREFLECTIVE COATINGS FOR HIGH-RESOLUTION PHOTOLITHOGRAPHIC SYNTHESIS OF DNA ARRAY 有权DNA阵列高分辨光谱合成的抗反射涂层公开(公告)号：US20110003716A1
公开(公告)日：2011-01-06
申请号：US12832781
申请日：2010-07-08
申请人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Richard P. Rava , Martin J. Goldberg
发明人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Richard P. Rava , Martin J. Goldberg
IPC分类号： C40B50/18
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support, derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光导合成法在基底上形成聚合物阵列的方法，该方法是通过提供具有第一层的基底，该第一层包含固体支持物上的一个或多个电介质涂层，通过使第一层与硅烷化接触来衍生第一层 试剂和设置在所述第一层上的第二层，其中所述第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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4.发明授权Antireflective coatings for high-resolution photolithographic synthesis of DNA arrays 有权用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层公开(公告)号：US07790389B2
公开(公告)日：2010-09-07
申请号：US12014879
申请日：2008-01-16
申请人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Richard P. Rava , Martin J. Goldberg
发明人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Richard P. Rava , Martin J. Goldberg
IPC分类号： C12Q1/68
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support, derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光导合成法在基底上形成聚合物阵列的方法，该方法是通过提供具有第一层的基底，该第一层包含固体支持物上的一个或多个电介质涂层，通过使第一层与硅烷化接触来衍生第一层 试剂和设置在所述第一层上的第二层，其中所述第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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5.发明申请Antireflective Coatings for High-Resolution Photolithographic Synthesis of DNA Array 有权用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层公开(公告)号：US20120035083A1
公开(公告)日：2012-02-09
申请号：US13275521
申请日：2011-10-18
申请人： Mark O. Trulson , Martin J. Goldberg , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Richard P. Rava , Dana Truong
发明人： Mark O. Trulson , Martin J. Goldberg , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Richard P. Rava , Dana Truong
IPC分类号： C40B50/18
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support, derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光导合成法在基底上形成聚合物阵列的方法，该方法是通过提供具有第一层的基底，该第一层包含固体支持物上的一个或多个电介质涂层，通过使第一层与硅烷化接触来衍生第一层 试剂和设置在所述第一层上的第二层，其中所述第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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6.发明授权Antireflective coatings for high-resolution photolithographic synthesis of DNA array 有权用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层公开(公告)号：US08114584B2
公开(公告)日：2012-02-14
申请号：US12832781
申请日：2010-07-08
申请人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Rich P. Rava , Martin J. Goldberg
发明人： Mark O. Trulson , Glenn H. McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa T. Kajisa , Dana Truong , Rich P. Rava , Martin J. Goldberg
IPC分类号： C12Q1/00
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support, derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光导合成法在基底上形成聚合物阵列的方法，该方法是通过提供具有第一层的基底，该第一层包含固体支持物上的一个或多个电介质涂层，通过使第一层与硅烷化接触来衍生第一层 试剂和设置在所述第一层上的第二层，其中所述第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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7.发明申请ANTIREFLECTIVE COATINGS FOR HIGH-RESOLUTION PHOTOLITHOGRAPHIC SYNTHESIS OF DNA ARRAYS 有权用于DNA阵列高分辨光谱合成的抗反射涂层公开(公告)号：US20080119371A1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：US12014879
申请日：2008-01-16
申请人： Mark TRULSON , Glenn McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa Kajisa , Dana Truong
发明人： Mark TRULSON , Glenn McGall , Bei-Shen Sywe , Lisa Kajisa , Dana Truong
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00608 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00711 , B01J2219/00722 , C12Q1/6837 , C40B40/06 , G03F7/091 , C12Q2545/101
摘要： The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support, derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.
摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光导合成法在基底上形成聚合物阵列的方法，该方法是通过提供具有第一层的基底，该第一层包含固体支持物上的一个或多个电介质涂层，通过使第一层与硅烷化接触来衍生第一层 试剂和设置在所述第一层上的第二层，其中所述第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。
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