公开(公告)号：US08325322B2

公开(公告)日：2012-12-04

申请号：US12700122

申请日：2010-02-04

申请人： Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Tilmann Heil ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner ,  Aksel Goehnermeier ,  Dirk Hellweg

发明人： Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Tilmann Heil ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner ,  Aksel Goehnermeier ,  Dirk Hellweg

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03B27/52

CPC分类号： G02B7/008 ,  G02B7/1815 ,  G02B26/06 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： The disclosure relates to an optical correction device with thermal actuators for influencing the temperature distribution in the optical correction device. The optical correction device is constructed from at least two partial elements which differ with regard to their ability to transport heat. Furthermore, the disclosure relates to methods for influencing the temperature distribution in an optical element.

摘要翻译： 本发明涉及具有用于影响光学校正装置中的温度分布的热致动器的光学校正装置。 光学校正装置由至少两个部分元件构成，这些部分元素关于其传送热量的能力而不同。 此外，本公开涉及影响光学元件中的温度分布的方法。

公开(公告)号：US20100201958A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12700122

申请日：2010-02-04

申请人： Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Tilmann Heil ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner ,  Aksel Goehnermeier ,  Dirk Hellweg

发明人： Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Tilmann Heil ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner ,  Aksel Goehnermeier ,  Dirk Hellweg

IPC分类号： G03B27/52 ,  G02B7/02

CPC分类号： G02B7/008 ,  G02B7/1815 ,  G02B26/06 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： The disclosure relates to an optical correction device with thermal actuators for influencing the temperature distribution in the optical correction device. The optical correction device is constructed from at least two partial elements which differ with regard to their ability to transport heat. Furthermore, the disclosure relates to methods for influencing the temperature distribution in an optical element.

摘要翻译： 本发明涉及具有用于影响光学校正装置中的温度分布的热致动器的光学校正装置。 光学校正装置由至少两个部分元件构成，这些部分元素关于其传送热量的能力而不同。 此外，本公开涉及影响光学元件中的温度分布的方法。

公开(公告)号：US20110080569A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：US12966552

申请日：2010-12-13

申请人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

发明人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical element configure to at least partial spatially resolve correction of a wavefront aberration of an optical system (e.g., a projection exposure apparatus for microlithography) to which optical radiation can be applied, as well as related systems and methods.

摘要翻译： 本公开涉及一种光学元件，其被配置为至少部分空间地解决可以应用光辐射的光学系统（例如，用于微光刻的投影曝光设备）的波前像差的校正，以及相关的系统和方法。

公开(公告)号：US08508854B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US12966552

申请日：2010-12-13

申请人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

发明人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G02B9/00

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical element configure to at least partial spatially resolve correction of a wavefront aberration of an optical system (e.g., a projection exposure apparatus for microlithography) to which optical radiation can be applied, as well as related systems and methods.

摘要翻译： 本公开涉及一种光学元件，其被配置为至少部分空间地解决可以应用光辐射的光学系统（例如，用于微光刻的投影曝光设备）的波前像差的校正，以及相关的系统和方法。

公开(公告)号：US08891172B2

公开(公告)日：2014-11-18

申请号：US12402015

申请日：2009-03-11

申请人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

发明人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G02B9/00 ,  G03F7/20 ,  G02B27/00 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical element configure to at least partial spatially resolve correction of a wavefront aberration of an optical system (e.g., a projection exposure apparatus for microlithography) to which optical radiation can be applied, as well as related systems and methods.

摘要翻译： 本公开涉及一种光学元件，其被配置为至少部分空间地解决可以应用光辐射的光学系统（例如，用于微光刻的投影曝光设备）的波前像差的校正，以及相关的系统和方法。

公开(公告)号：US20090257032A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：US12402015

申请日：2009-03-11

申请人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

发明人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G03B27/52 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical element configure to at least partial spatially resolve correction of a wavefront aberration of an optical system (e.g., a projection exposure apparatus for microlithography) to which optical radiation can be applied, as well as related systems and methods.

摘要翻译： 本公开涉及一种光学元件，其被配置为至少部分空间地解决可以应用光辐射的光学系统（例如，用于微光刻的投影曝光设备）的波前像差的校正，以及相关的系统和方法。

公开(公告)号：US20080316621A1

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：US12143322

申请日：2008-06-20

申请人： Jochen Weber ,  Erich Merz ,  Ole Fluegge ,  Kai-Uwe Berroth ,  Cornelia Buehler ,  Markus Hauf

发明人： Jochen Weber ,  Erich Merz ,  Ole Fluegge ,  Kai-Uwe Berroth ,  Cornelia Buehler ,  Markus Hauf

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70825

摘要： In some embodiments, the disclosure relates to an optical assembly that includes an optical element and a structure element. A gap runs between the optical element and the structure element. A sealing element may be present to seal the gap. At least one liquid layer may be arranged between the structure element and/or the optical element, and the sealing element so that a relative displacement of the sealing element with respect to the structure element and/or the optical element is possible in the direction of the layer plane.

摘要翻译： 在一些实施例中，本公开涉及一种包括光学元件和结构元件的光学组件。 间隙在光学元件和结构元件之间延伸。 可以存在密封元件以密封间隙。 至少一个液体层可以布置在结构元件和/或光学元件和密封元件之间，使得密封元件相对于结构元件和/或光学元件的相对位移可以在 层平面。

公开(公告)号：US07768721B2

公开(公告)日：2010-08-03

申请号：US12143322

申请日：2008-06-20

申请人： Jochen Weber ,  Erich Merz ,  Ole Fluegge ,  Kai-Uwe Berroth ,  Cornelia Buehler ,  Markus Hauf

发明人： Jochen Weber ,  Erich Merz ,  Ole Fluegge ,  Kai-Uwe Berroth ,  Cornelia Buehler ,  Markus Hauf

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70825

摘要： In some embodiments, the disclosure relates to an optical assembly that includes an optical element and a structure element. A gap runs between the optical element and the structure element. A sealing element may be present to seal the gap. At least one liquid layer may be arranged between the structure element and/or the optical element, and the sealing element so that a relative displacement of the sealing element with respect to the structure element and/or the optical element is possible in the direction of the layer plane.

摘要翻译： 在一些实施例中，本公开涉及一种包括光学元件和结构元件的光学组件。 间隙在光学元件和结构元件之间延伸。 可以存在密封元件以密封间隙。 至少一个液体层可以布置在结构元件和/或光学元件和密封元件之间，使得密封元件相对于结构元件和/或光学元件的相对位移可以在 层平面。

公开(公告)号：US20060044509A1

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：US11188234

申请日：2005-07-22

申请人： Ole Fluegge ,  Matthias Kubitza

发明人： Ole Fluegge ,  Matthias Kubitza

IPC分类号： A61B3/14 ,  A61B3/10 ,  A61B3/00

CPC分类号： A61B3/11 ,  G02C13/005

摘要： An apparatus and a method are used for adapting a position of at least one spectacle lens of a spectacle relative to the position of a pupil of an eye of a person, the eye being associated to the spectacle lens. The apparatus comprises an illuminating device for an eye area of the person wearing a spectacle frame that is not yet fitted with lenses. Further, at least one camera for generating an image of the eye area is provided. The position of the pupil within the image is marked. The illuminating device has at least one light source operating within a wavelength range the light of which being reflected by the retina of the eye at a high ratio of reflection. The camera in its sensitivity is optimized to the wavelength of the light emitted by the light source.

摘要翻译： 一种装置和方法用于使眼镜的至少一个眼镜镜片的位置相对于眼睛与眼镜相关联的人眼睛的瞳孔的位置进行调整。 该装置包括用于佩戴尚未配有透镜的眼镜架的人的眼睛区域的照明装置。 此外，提供至少一个摄像机，用于产生在眼睛区域的图像。 图像中瞳孔的位置被标记。 所述照明装置具有在波长范围内工作的至少一个光源，所述光源的光被高反射率的眼睛的视网膜反射。 在其灵敏度照相机被优化，以由光源发射的光的波长。