公开(公告)号：US20150144263A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：US14613219

申请日：2015-02-03

申请人： Martin RIKER ,  Wei W. WANG

发明人： Martin RIKER ,  Wei W. WANG

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01J37/32724 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/0268 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/335 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67207 ,  Y10T29/49826

摘要： A substrate heating pedestal for a process chamber for processing substrates is described. The pedestal comprises an annular plate comprising a surface having an array of recesses. A plurality of ceramic balls are each positioned in a recess on the surface of the annular plate to define a substrate receiving surface. A heating element is embedded in the annular plate.

摘要翻译： 描述了用于处理基板的处理室的基板加热基座。 基座包括环形板，其包括具有凹槽阵列的表面。 多个陶瓷球各自定位在环形板的表面上的凹部中以限定基板接收表面。 加热元件嵌入环形板中。

公开(公告)号：US20110232845A1

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：US13109917

申请日：2011-05-17

申请人： Martin RIKER ,  Wei W. WANG

发明人： Martin RIKER ,  Wei W. WANG

IPC分类号： B08B13/00 ,  C23F1/08 ,  F16L25/00 ,  B23P11/00

CPC分类号： H01J37/32724 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/0268 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/335 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67207 ,  Y10T29/49826

摘要： A consumable ceramic liner can be used for connecting a gas outlet channel of a remote chamber to a gas inlet channel of a substrate cleaning chamber. The ceramic liner comprises an inlet cylinder having an outer diameter sized to fit in the gas outlet channel of the remote chamber, and an outlet cylinder connected to the gas inlet channel of the substrate cleaning chamber. A conical flare joins the inlet cylinder to the outlet cylinder.

摘要翻译： 消耗性陶瓷衬套可用于将远程室的气体出口通道连接到衬底清洁室的气体入口通道。 陶瓷衬套包括具有尺寸适于安装在远程室的气体出口通道中的外径的入口圆筒和连接到衬底清洁室的气体入口通道的出口气缸。 锥形火炬将进气筒连接到出口气缸。

公开(公告)号：US20120244704A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：US13489137

申请日：2012-06-05

申请人： Chien-Teh KAO ,  Jing-Pei(Connie) CHOU ,  Chiukin(Steven) LAI ,  Sal UMOTOY ,  Joel M. HUSTON ,  Son TRINH ,  Mei CHANG ,  Xiaoxiong (John) YUAN ,  Yu CHANG ,  Xinliang LU ,  Wei W. WANG ,  See-Eng PHAN

发明人： Chien-Teh KAO ,  Jing-Pei(Connie) CHOU ,  Chiukin(Steven) LAI ,  Sal UMOTOY ,  Joel M. HUSTON ,  Son TRINH ,  Mei CHANG ,  Xiaoxiong (John) YUAN ,  Yu CHANG ,  Xinliang LU ,  Wei W. WANG ,  See-Eng PHAN

IPC分类号： H01L21/3205

CPC分类号： H01L21/02104 ,  C23C14/022 ,  C23C14/50 ,  C23C14/541 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32862 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67109 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A method for removing native oxides from a substrate surface is provided. In one embodiment, the method comprises positioning a substrate having an oxide layer into a processing chamber, exposing the substrate to a gas mixture while forming a volatile film on the substrate and maintaining the substrate at a temperature below 65° C., heating the substrate to a temperature of at least about 75° C. to sublimate the volatile film and remove the oxide layer, and depositing a first layer on the substrate after heating the substrate.

摘要翻译： 提供了从衬底表面去除天然氧化物的方法。 在一个实施例中，该方法包括将具有氧化物层的衬底定位到处理室中，将衬底暴露于气体混合物，同时在衬底上形成挥发性膜并将衬底保持在低于65℃的温度下，加热衬底 达到至少约75℃的温度以使挥发性膜升华并去除氧化物层，并且在加热基材之后在基板上沉积第一层。