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    Radiation-sensitive resin composition
    2.
    发明授权
    Radiation-sensitive resin composition 有权
    辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US06933094B2

    公开(公告)日：2005-08-23

    申请号：US09953941

    申请日：2001-09-18

    申请人： Masaaki Miyaji ,  Tomoki Nagai ,  Yuji Yada ,  Jun Numata ,  Yukio Nishimura ,  Masafumi Yamamoto ,  Hiroyuki Ishii ,  Toru Kajita ,  Tsutomu Shimokawa

    发明人： Masaaki Miyaji ,  Tomoki Nagai ,  Yuji Yada ,  Jun Numata ,  Yukio Nishimura ,  Masafumi Yamamoto ,  Hiroyuki Ishii ,  Toru Kajita ,  Tsutomu Shimokawa

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122

    摘要： A chemically amplified radiation-sensitive resin composition comprising a specific copolymer and a photoacid generator, wherein the copolymer contains the following recurring unit (1) and/or the recurring unit (2), and the recurring unit (3-1), wherein R1 is a hydrogen or methyl, R2 is a C4-10 tertiary alkyl, R3and R4 are a hydrogen, C1-12 alkyl, C6-15 aromatic, C1-12 alkoxyl, or R3 and R4 may form, in combination and together with the nitrogen atom with which the R3 and R4 groups bond, a C3-15 cyclic structure, provided that R3 and R4 are not a hydrogen atom at the same time. The composition effectively responds to various radiations, exhibits excellent resolution and pattern configuration and minimal iso-dense bias, and can form fine patterns at a high precision and in a stable manner.

    摘要翻译： 包含特定共聚物和光酸产生剂的化学放大的辐射敏感性树脂组合物，其中所述共聚物包含以下重复单元（1）和/或重复单元（2）和重复单元（3-1），其中R 1是氢或甲基，R 2是C 4-10叔烷基，R 3和R 3 H 4是氢，C 1-12烷基，C 6-15芳族，C 1-12烷氧基， ，或R 3和R 4可以与R 3和R 4的氮原子组合形成， 基团键合，C 3-15-15环状结构，条件是R 3和R 4不是氢原子 同时。 该组合物有效响应各种辐射，显示出优异的分辨率和图案配置以及最小的等密度偏差，并能以高精度和稳定的方式形成精细图案。

    Radiation-sensitive resin composition
    3.
    发明申请
    Radiation-sensitive resin composition 有权
    辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US20050214680A1

    公开(公告)日：2005-09-29

    申请号：US11116269

    申请日：2005-04-28

    申请人： Masaaki Miyaji ,  Tomoki Nagai ,  Yuji Yada ,  Jun Numata ,  Yukio Nishimura ,  Masafumi Yamamoto ,  Hiroyuki Ishii ,  Toru Kajita ,  Tsutomu Shimokawa

    发明人： Masaaki Miyaji ,  Tomoki Nagai ,  Yuji Yada ,  Jun Numata ,  Yukio Nishimura ,  Masafumi Yamamoto ,  Hiroyuki Ishii ,  Toru Kajita ,  Tsutomu Shimokawa

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03C1/76

    CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122

    摘要： A chemically amplified radiation-sensitive resin composition comprising a specific copolymer and a photoacid generator, wherein the copolymer contains the following recurring unit (1) and/or the recurring unit (2), and the recurring unit (3-1), wherein R1 is a hydrogen or methyl, R2 is a C4-10 tertiary alkyl, R3 and R4 are a hydrogen, C1-12 alkyl, C6-15 aromatic, C1-12 alkoxyl, or R3 and R4 may form, in combination and together with the nitrogen atom with which the R3 and R4 groups bond, a C3-15 cyclic structure, provided that R3 and R4 are not a hydrogen atom at the same time. The composition effectively responds to various radiations, exhibits excellent resolution and pattern configuration and minimal iso-dense bias, and can form fine patterns at a high precision and in a stable manner.

    摘要翻译： 包含特定共聚物和光酸产生剂的化学放大的辐射敏感性树脂组合物，其中所述共聚物包含以下重复单元（1）和/或重复单元（2）和重复单元（3-1），其中R 1是氢或甲基，R 2是C 4-10叔烷基，R 3和R 3 H 4是氢，C 1-12烷基，C 6-15芳族，C 1-12烷氧基， ，或R 3和R 4可以与R 3和R 4的氮原子组合形成， 基团键合，C 3-15-15环状结构，条件是R 3和R 4不是氢原子 同时。 该组合物有效响应各种辐射，显示出优异的分辨率和图案配置以及最小的等密度偏差，并能以高精度和稳定的方式形成精细图案。

    Copolymer, polymer mixture, and radiation-sensitive resin composition
    4.
    发明授权
    Copolymer, polymer mixture, and radiation-sensitive resin composition 有权
    共聚物，聚合物混合物和辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US07105269B2

    公开(公告)日：2006-09-12

    申请号：US10321518

    申请日：2002-12-18

    申请人： Tomoki Nagai ,  Daisuke Shimizu ,  Tsutomu Shimokawa ,  Fumihisa Miyajima ,  Masaaki Miyaji

    发明人： Tomoki Nagai ,  Daisuke Shimizu ,  Tsutomu Shimokawa ,  Fumihisa Miyajima ,  Masaaki Miyaji

    IPC分类号： C03F7/004 ,  C08L29/00 ,  C08F232/00

    CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

    摘要： 1. A copolymer having recurring units of the following formulas (1), (2), and (3), wherein R1, R4, R5, and R6 are a hydrogen atom or a methyl group, R2, R3, and R7 represent a monovalent organic group, k is 1 or 2, 1 is 0–4, n is 1–3, m is 0–3, R8 is a substituted methyl group, 1-substituted ethyl group, 1-branched alkyl group, triorganosilyl group, triorganogermyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group, or cyclic acid-dissociable group, with two or more R8 groups being the same or different, q is 1–3, and p is 0–3, the copolymer having a GPC average molecular weight of 3,000–100,000. The composition is useful as a polymer component for a radiation-sensitive resin composition suitable as a chemically-amplified resist.

    摘要翻译： 1.具有下式（1），（2）和（3）的重复单元的共聚物，其中R 1，R 4，R 5 R 6和R 6是氢原子或甲基，R 2，R 3和R 7 表示一价有机基团，k为1或2，1为0-4，n为1-3，m为0-3，R 8为取代甲基，1 取代乙基，1-支链烷基，三有机甲硅烷基，三有机甲基，烷氧基羰基，酰基或环状酸解离基，其中两个或多个R 8基团相同或不同， q为1-3，p为0-3，GPC的平均分子量为3,000〜100,000。 该组合物可用作适合作为化学增幅抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物的聚合物组分。

    N-sulfonyloxyimide compound and radiation-sensitive resin composition using the same
    5.
    发明授权
    N-sulfonyloxyimide compound and radiation-sensitive resin composition using the same 有权
    N-磺酰氧基酰亚胺化合物和使用其的辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号：US06517992B1

    公开(公告)日：2003-02-11

    申请号：US09707939

    申请日：2000-11-08

    申请人： Yong Wang ,  Eiichi Kobayashi ,  Masaaki Miyaji ,  Jun Numata ,  Tsutomu Shimokawa

    发明人： Yong Wang ,  Eiichi Kobayashi ,  Masaaki Miyaji ,  Jun Numata ,  Tsutomu Shimokawa

    IPC分类号： G03F7004

    CPC分类号： C07D207/46 ,  C07D209/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/121

    摘要： An N-sulfonyloxyimide compound having the formula (1): wherein X represents a single bond or a double bond, Y and Z represent a hydrogen atom or others and may combine to form a cyclic structure; and R is a group having the formula (2): wherein X1 represents an organic group having an ester linkage, R1 represents an alkyl group or an alkoxyl group; and m is an integer of 1 to 11 and n is an integer of 0 to 10, satisfying m+n≦11; and chemically amplified positive and negative radiation-sensitive resin compositions using the compound are provided. The N-sulfonyloxyimide compound is a good radiation-sensitive acid-generating agent, has no problem of volatilization or side reaction, can keep dark reaction from taking place during the storage. The compound is useful as a component of radiation-sensitive chemically amplified resists.

    摘要翻译： 具有式（1）的N-磺酰氧基酰亚胺化合物：其中X表示单键或双键，Y和Z表示氢原子等，可以结合形成环状结构; 并且R是具有式（2）的基团：其中X1表示具有酯键的有机基团，R1表示烷基或烷氧基; m为1〜11的整数，n为0〜10的整数，满足m + n <11。 并提供使用该化合物的化学放大的正和负辐射敏感性树脂组合物。 N-磺酰氧基酰亚胺化合物是良好的辐射敏感性产酸剂，不存在挥发或副反应的问题，能够保持保存期间的黑色反应。 该化合物可用作辐射敏感的化学放大抗蚀剂的组分。

    METHOD FOR DETECTING TARGET CELL
    6.
    发明申请
    METHOD FOR DETECTING TARGET CELL 审中-公开
    检测目标细胞的方法

    公开(公告)号：US20120115130A1

    公开(公告)日：2012-05-10

    申请号：US13378133

    申请日：2010-06-16

    申请人： Toshihiko Imai ,  Masaaki Miyaji

    发明人： Toshihiko Imai ,  Masaaki Miyaji

    IPC分类号： G01N21/75 ,  C12Q1/68 ,  G01N27/72

    CPC分类号： G01N33/5047 ,  G01N15/12 ,  G01N15/1459 ,  G01N33/54313 ,  G01N2015/008 ,  G01N2015/1062 ,  G01N2015/1477 ,  G01N2015/1486

    摘要： A target cell detection method includes performing a test measurement on a dispersion to obtain a measurement result 1, the test measurement being an optical or electromagnetic measurement, and the dispersion including labeled particles and target cells, the labeled particles being particles on each of which a substance that specifically binds to a specific molecule present on a surface of each of the target cells is immobilized, performing measurement that is identical with the test measurement on a dispersion that includes the target cells, but does not include the labeled particles to obtain a measurement result 2, and comparing the measurement result 1 with the measurement result 2.

    摘要翻译： 目标细胞检测方法包括对分散体进行测定测定，得到测定结果1，测定测定为光学或电磁测定，包含标记粒子和靶细胞的分散体，被标记的粒子分别为 与每个靶细胞的表面上存在的特定分子特异性结合的物质被固定化，对包含目标细胞的分散体进行与测试测量相同的测量，但不包括标记的粒子以获得测量 结果2，并将测量结果1与测量结果2进行比较。