公开(公告)号：US20070046949A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11467410

申请日：2006-08-25

申请人： Michael Heiden ,  Hans-Arthur Boesser

发明人： Michael Heiden ,  Hans-Arthur Boesser

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G01B9/02058 ,  G01B11/026 ,  G03F7/70883

摘要： The present invention relates to a reference-beam interferometer for determining the position of a traversable stage, wherein an evacuated tube is inserted into the longer of the two interferometer legs. The tube is closed off by windows, which have a negative coefficient of thermal expansion and which can have a coating for reflecting heat radiation. Moreover, thermal compensation plates are inserted into the shorter of the two beam paths.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于确定可移动台的位置的参考光束干涉仪，其中抽真空管插入到两个干涉仪腿的较长的一侧。 管子由窗户封闭，这些窗户具有负的热膨胀系数，并且可以具有用于反射热辐射的涂层。 此外，热补偿板插入两个光束路径中较短的一个。

公开(公告)号：US20120033691A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：US13024195

申请日：2011-02-09

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： H01S3/13 ,  F21V1/00

CPC分类号： G01B9/02027 ,  G01B9/02012 ,  G01B9/02082 ,  G01B11/002 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70625

摘要： A device for determining the position of a structure (3) on an object (2) in relation to a coordinate system is disclosed. The object (2) is placed on a measuring table (20) which is movable in one plane (25a), wherein a block (25) defines the plane (25a). At least one optical arrangement (40, 50) is provided for transmitted light illumination and/or reflected light illumination. The optical arrangement (40, 50) comprises an illumination apparatus (41, 51) for reflected light illumination and/or transmitted light illumination and at least one first or second optical element (9a, 9b), wherein at least part of the at least one optical element (9a, 9b) extends into the space (110) between the block (25) and an optical system support (100). The block (25) and/or the optical system support (100) separates the illumination apparatus (41, 51) spatially from the plane (25a) in which the measuring table (20) is movable.

摘要翻译： 公开了一种用于相对于坐标系确定物体（2）上的结构（3）的位置的装置。 物体（2）被放置在可在一个平面（25a）中移动的测量台（20）上，其中块（25）限定平面（25a）。 为透射光照射和/或反射光照明提供至少一个光学装置（40,50）。 光学装置（40,50）包括用于反射光照射和/或透射光照明的照明装置（41,41）和至少一个第一或第二光学元件（9a，9b），其中至少部分至少 一个光学元件（9a，9b）延伸到块（25）和光学系统支撑件（100）之间的空间（110）中。 块体（25）和/或光学系统支撑体（100）将空间上的照明装置（41,51）从测量台（20）可移动的平面（25a）分离。

公开(公告)号：US20100060883A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：US12584542

申请日：2009-09-08

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01M11/02

CPC分类号： G02B7/32 ,  G02B21/245

摘要： An apparatus and a method for determining the focus of an optical system on a substrate are disclosed. A light source emits an auxiliary light beam into an auxiliary beam path, wherein the auxiliary light beam, after splitting, is offset in relation to an optical axis of a measuring objective. At least one optical switch is provided in the auxiliary beam path for switching the path of the auxiliary beam path from one side offset from the optical axis to the other side offset from the optical axis of the measuring objective.

摘要翻译： 公开了一种用于确定光学系统在衬底上的焦点的装置和方法。 光源将辅助光束发射到辅助光束路径中，其中辅助光束在分割之后相对于测量对象的光轴偏移。 在辅助光束路径中提供至少一个光学开关，用于将辅助光束路径的路径从偏离光轴的一侧偏移到偏离测量物镜的光轴的另一侧。

公开(公告)号：US20090097041A1

公开(公告)日：2009-04-16

申请号：US12286026

申请日：2008-09-26

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/03

CPC分类号： G01B11/005 ,  G03F1/84 ,  G03F9/7007 ,  G06T7/12 ,  G06T7/73 ,  G06T7/74 ,  G06T2207/30148

摘要： A method for determining the centrality of masks is disclosed. The mask is positioned in a coordinate measuring device on a measurement table displaceable in a direction perpendicular to the optical axis of an imaging measurement system in an interferometrically measurable way. The position of a mask coordinate system with respect to the measuring device coordinate system is determined based on at lest two structures on the mask. The relative distance from one of the at least first and second outer edges to the at least two structures is determined. The coordinate measuring machine determines the actual coordinates of the at least two structures with respect to the respective outer edges, which must not exceed a predetermined deviation from a desired value.

摘要翻译： 公开了一种用于确定掩模的中心性的方法。 掩模位于测量台上的坐标测量装置中，该测量台可以以可测量的方式在垂直于成像测量系统的光轴的方向上移动。 基于掩模上的至少两个结构确定掩模坐标系相对于测量装置坐标系的位置。 确定至少第一和第二外边缘中的至少两个结构之间的相对距离。 坐标测量机确定至少两个结构相对于相应的外边缘的实际坐标，该外边缘不得超过与期望值的预定偏差。

公开(公告)号：US20090051932A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US12193095

申请日：2008-08-18

申请人： Michael Heiden ,  Klaus Rinn

发明人： Michael Heiden ,  Klaus Rinn

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B11/03

摘要： A method for determining the ideal focus position on different substrates is disclosed. A focus criterion is determined with which the best reproducibility may be achieved. An offset permits the user to set the optimal operating point of the coordinate measuring machine for a reproducible measurement of dimensions of structures on a substrate.

摘要翻译： 公开了一种用于确定不同基底上的理想聚焦位置的方法。 确定可以实现最佳重现性的焦点标准。 偏移允许用户设置坐标测量机的最佳操作点，以便可重复地测量衬底上的结构尺寸。

公开(公告)号：US20090040530A1

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：US12176049

申请日：2008-07-18

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/03 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01B9/02027 ,  G01B9/02021 ,  G01B9/02083 ,  G01B11/005

摘要： A method and a coordinate measuring machine (1) are provided, wherein the non-linearities of an interferometer (24) can be corrected. A measuring stage (20) traversable in a plane (25a) is provided for measurement. The substrate (2) is placed in a measuring stage (20); wherein the position of the measuring stage (20) along each of the motion axes is determined by at least one interferometer (24) in each case. A computer (16) is provided for compensating the non-linearity inherent in each of the interferometers (24), wherein the position of the measuring stage (20) to be determined by the interferometers (24) is arranged along a trajectory (52, 60, 67) of the measuring stage (20), which is composed at least partially of components of the axes.

摘要翻译： 提供一种方法和坐标测量机（1），其中可以校正干涉仪（24）的非线性。 提供在平面（25a）中可移动的测量台（20）用于测量。 将基板（2）放置在测量台（20）中; 其中每个运动轴线上的测量台（20）的位置由至少一个干涉仪（24）确定。 提供了一种用于补偿每个干涉仪（24）中固有的非线性的计算机（16），其中要由干涉仪（24）确定的测量台（20）的位置沿轨迹（52， 所述测量台（20）的至少部分由所述轴的部件组成。

公开(公告)号：US20090033508A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US12221145

申请日：2008-07-31

申请人： Hans-Artur Boesser ,  Wolfgang Fricke ,  Michael Heiden

发明人： Hans-Artur Boesser ,  Wolfgang Fricke ,  Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/03 ,  G08B21/00

CPC分类号： G01B11/005 ,  G01B9/02052 ,  G03F7/70616

摘要： A system and a method for determining positions of structures on a substrate are disclosed. The system includes at least one measurement table (20) movable in the X-coordinate direction and in the Y-coordinate direction, a measurement objective (9) and a camera for determining the positions of the structures (3) on the substrate (2). The position of the measurement objective (9) and/or the measurement table (20) may be determined by at least one interferometer (24). The system is surrounded by a housing representing a climatic chamber (50) provided with an active pressure regulation.

摘要翻译： 公开了一种用于确定衬底上的结构位置的系统和方法。 该系统包括至少一个在X坐标方向和Y坐标方向上可移动的测量台（20），用于确定基板（2）上的结构（3）的位置的测量目标（9）和相机 ）。 测量目标（9）和/或测量表（20）的位置可以由至少一个干涉仪（24）确定。 该系统由表示具有主动压力调节的气候室（50）的壳体包围。

公开(公告)号：US20090024344A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12218387

申请日：2008-07-15

申请人： Michael Heiden ,  Klaus Rinn

发明人： Michael Heiden ,  Klaus Rinn

IPC分类号： G01B21/04

CPC分类号： G01B21/045 ,  G03F1/84

摘要： A method for correcting an error of the imaging system of a coordinate measuring machine is disclosed. The position of at least two different edges of at least one structure on a substrate is measured. The substrate may be automatically rotated into another orientation. Then the position of the at least two different edges of the at least one structure is measured on the rotated substrate. Based on the measurement data, a systematic error of the imaging system is eliminated.

摘要翻译： 公开了一种用于校正坐标测量机的成像系统的误差的方法。 测量衬底上至少一个结构的至少两个不同边缘的位置。 衬底可以自动旋转到另一取向。 然后在旋转的基板上测量至少一个结构的至少两个不同边缘的位置。 基于测量数据，消除了成像系统的系统误差。

公开(公告)号：US20080304058A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12154826

申请日：2008-05-27

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/30 ,  F21V9/14

CPC分类号： G01B11/2513

摘要： A coordinate measuring machine (1) for the structured illumination of substrates is disclosed. The incident light illumination means (14) and/or the transmitted light illumination means (6) have a pupil access via which at least one optical element (35, 88) is positionable in the optical illumination path (4, 5). The size and/or the type and/or the polarization of the pupil illumination may be manipulated such that the structured illumination of the substrate in the coordinate measuring machine (1) corresponds to the structured illumination of this substrate in the exposure process with a stepper.

摘要翻译： 公开了一种用于基板结构照明的坐标测量机（1）。 入射光照射装置（14）和/或透射光照射装置（6）具有光瞳通路，至少一个光学元件（35,88）可通过该光瞳进入光学照明路径（4,5）中。 可以操纵瞳孔照明的尺寸和/或类型和/或偏振，使得坐标测量机（1）中的基底的结构照明对应于在具有步进器的曝光过程中该基底的结构照明 。

公开(公告)号：US07382450B2

公开(公告)日：2008-06-03

申请号：US11387471

申请日：2006-03-23

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G01N21/9503 ,  G01N21/8422 ,  G03F7/2028 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： To determine an edge bead removal line (17) on a wafer (10), first lines or edges (38, 40, 42, 44) in the edge area (19) of the wafer (10) are detected. A first line area (48) and a second line area (50) are defined on either side of these lines (38, 40, 42, 44). The structures (36) present in these edge areas (48, 50) are compared to each other. From the result of the comparison it is determined whether or not an edge bead removal line (17) is present.

摘要翻译： 为了确定晶片（10）上的边缘珠去除线（17），检测在晶片（10）的边缘区域（19）中的第一线或边缘（38,40,42,44）。 第一线区域（48）和第二线路区域（50）被限定在这些线路（38,40,42,44）的两侧。 存在于这些边缘区域（48,50）中的结构（36）彼此进行比较。 从比较的结果可以确定是否存在边缘珠去除线（17）。