公开(公告)号：US06842248B1

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US09724146

申请日：2000-11-28

申请人： Mike Binnard ,  Masahiko Okumura

发明人： Mike Binnard ,  Masahiko Okumura

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01B11/02 ,  G03B27/38 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20 ,  G12B5/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66 ,  H01L21/68

CPC分类号： G03F7/70775

摘要： A stage assembly (10) for moving and positioning a device (26) is provided herein. The stage assembly (10) includes a stage base (12), a device table (48), a stage mover assembly (16), a measurement system (20), and a control system (22). The stage mover assembly (16) moves the device table (48) along an X axis, along a Y axis, and about a Z axis relative to the stage base (12). The measurement system (20) includes a first X mirror (25A) for monitoring the position of the device table (48) in an alignment position (31A) and a second X mirror (25B) for monitoring the position of the device table (48) in an operational position (31B). In one embodiment, the stage assembly (10) includes a first fiducial mark (76) and a second fiducial mark (78) that are secured to the device table (48) to determine the relative position of the X mirrors (25A)(25B). Alternately, in another embodiment, the stage assembly additionally includes a third fiducial mark (80) secured to the device table (48) for determining the relative positions of the X mirrors (25A)(25B). In both embodiments, the control system (22) utilizes the measured position of the fiducial marks relative to the first X mirror (25A) and the second X mirror (25B) to determine the position of the first X mirror (25A) relative to the second X mirror (25B). These features allow for more accurate positioning of the device (26) by the stage assembly (10) and better performance of the stage assembly (10).

摘要翻译： 本文提供了用于移动和定位装置（26）的平台组件（10）。 舞台组件（10）包括舞台基座（12），装置台（48），舞台动子组件（16），测量系统（20）和控制系统（22）。 平台移动器组件（16）沿着Y轴沿X轴移动设备台（48），并且相对于台架（12）绕Z轴移动。 测量系统（20）包括用于监视设备台（48）处于对准位置（31A）的位置的第一X镜（25A）和用于监视设备台（48）的位置的第二X镜（25B） ）处于操作位置（31B）。 在一个实施例中，台架组件（10）包括固定到设备台（48）上以确定X反射镜（25A）（25B）的相对位置的第一基准标记（76）和第二基准标记（78） ）。 或者，在另一实施例中，台组件还包括固定到设备台（48）的第三基准标记（80），用于确定X反射镜（25A）（25B）的相对位置。 在两个实施例中，控制系统（22）利用相对于第一X镜（25A）和第二X镜（25B）的基准标记的测量位置来确定第一X镜（25A）相对于 第二台X镜（25B）。 这些特征允许通过平台组件（10）更准确地定位设备（26）并且使台架组件（10）具有更好的性能。

公开(公告)号：US20050024610A1

公开(公告)日：2005-02-03

申请号：US10456485

申请日：2003-06-09

申请人： Kenji Nishi ,  Masahiko Okumura ,  Hiroki Okuno

发明人： Kenji Nishi ,  Masahiko Okumura ,  Hiroki Okuno

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70425 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733

摘要： After exposure of a divided area on a wafer is completed, for exposure of the next divided area, a control unit sends configuration information on control parameters necessary to expose the next divided area to a stage control system, sometime before the stage control system begins deceleration of a reticle stage and a wafer stage in a scanning direction. Therefore, both stages do not have to be suspended before acceleration for the stage control system to receive the configuration information on control parameters necessary to expose the next divided area, and since suspension time is not required, throughput can be improved. In this case, no serious problems occur, so the performance of other devices is not disturbed.

摘要翻译： 在晶片上的分割区域的曝光完成之后，为了下一个分割区域的曝光，控制单元将阶段控制系统开始减速之前的某个时刻向控制系统发送关于将下一个分割区域暴露出来的控制参数的配置信息 的标线片台和扫描方向的晶片台。 因此，在阶段控制系统的加速之前，不需要暂停两个阶段，以接收关于暴露下一个分割区域所需的控制参数的配置信息，并且由于不需要暂停时间，因此可以提高生产率。 在这种情况下，不会出现严重的问题，所以其他设备的性能不会受到干扰。

公开(公告)号：US5473424A

公开(公告)日：1995-12-05

申请号：US363336

申请日：1994-12-23

申请人： Masahiko Okumura

发明人： Masahiko Okumura

IPC分类号： H01L21/68 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F9/70

摘要： A table holding a substrate thereon is placed on a focusing and levelling stage through three fulcrums, and a calculator receives as inputs the coordinates values of the table measured by an interferometer, the amount of positional deviation between the surface of a wafer and a predetermined fiducial plane at each of a plurality of measuring points on the substrate which is measured by a multipoint AF sensor, and a weight coefficient given to be to the amount of positional deviation at each of the plurality of measuring points, thereby calculating the residual deviation at each of the three fulcrums. A controller adopts the PID control system and controls the amounts of displacement of the three fulcrums on the basis of the residual deviation calculated by the calculator, the integrated value of this residual deviation and the differentiated value of this residual deviation.

摘要翻译： 保持基板的台面通过三个支点放置在聚焦和调平台上，并且计算器接收由干涉仪测量的表的坐标值作为输入，晶片表面与预定基准之间的位置偏差量 在由多点AF传感器测量的基板上的多个测量点中的每一个测量点处的平面和给定为多个测量点中的每个测量点处的位置偏差量的加权系数，从而计算每个测量点处的各个位置偏差 的三个支点。 控制器采用PID控制系统，根据计算器计算的剩余偏差，该残差的积分值和该残差的微分值，控制三个支点的位移量。

公开(公告)号：US5431456A

公开(公告)日：1995-07-11

申请号：US266342

申请日：1994-07-01

申请人： Masahiko Okumura ,  Noriyuki Moritani ,  Kazuki Nakamichi

发明人： Masahiko Okumura ,  Noriyuki Moritani ,  Kazuki Nakamichi

IPC分类号： B29C45/14 ,  B29D99/00 ,  B32B27/00 ,  F16L41/02 ,  F16L47/04 ,  F16L47/26 ,  F16L41/00

CPC分类号： F16L47/26 ,  F16L47/04 ,  Y10S285/906

摘要： A pipe fitting or coupling is used for connecting at least two pipes. The pipe fitting is basically formed of a coupling main body and a slit ring integrally formed together. The coupling main body is formed of an inner layer of good heat resisting property, an intermediate layer containing glass fibers, and an outer layer having large tensile elongation and impact strength. The slit ring is formed at an edge portion of the outer circumferential surface of the coupling main body.

摘要翻译： 管件或联轴器用于连接至少两根管道。 管件基本上由联接主体和整体形成在一起的狭缝环形成。 联轴器主体由耐热性良好的内层，含有玻璃纤维的中间层和具有大的拉伸伸长率和冲击强度的外层构成。 狭缝环形成在联接器主体的外周面的边缘部。

公开(公告)号：US08941808B2

公开(公告)日：2015-01-27

申请号：US12155714

申请日：2008-06-09

申请人： Katsushi Nakano ,  Masahiko Okumura ,  Tarou Sugihara ,  Takeyuki Mizutani ,  Tomoharu Fujiwara

发明人： Katsushi Nakano ,  Masahiko Okumura ,  Tarou Sugihara ,  Takeyuki Mizutani ,  Tomoharu Fujiwara

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： An immersion type lithographic apparatus includes at least one immersion space and an immersion system configured to at least partially fill the immersion space with a liquid. The apparatus is configured to rinse at least part of the immersion space with a rinsing liquid before the apparatus is used to project a patterned beam of radiation onto a substrate.

摘要翻译： 浸没型光刻设备包括至少一个浸没空间和浸没系统，其被配置为至少部分地用液体填充浸没空间。 该装置被配置为在装置用于将图案化的辐射束投射到基板之前用冲洗液冲洗至少部分浸没空间。

公开(公告)号：US08780326B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US11517397

申请日：2006-09-08

申请人： Tohru Kiuchi ,  Takeyuki Mizutani ,  Masahiro Nei ,  Masato Hamatani ,  Masahiko Okumura

发明人： Tohru Kiuchi ,  Takeyuki Mizutani ,  Masahiro Nei ,  Masato Hamatani ,  Masahiko Okumura

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70733

摘要： An exposure apparatus comprises a liquid immersion system, a first mover, and a prescribed member. The exposure apparatus exposes a substrate via an optical member and a liquid. The liquid immersion system performs supply and recovery of the liquid. The first mover can move in a first area, and can hold the liquid between itself and the optical member. The prescribed member is removed from the first mover when the first mover withdraws from a position opposing the optical member, and can hold the liquid between itself and the optical member.

摘要翻译： 曝光装置包括液浸系统，第一推动器和规定构件。 曝光装置经由光学部件和液体露出基板。 液浸系统进行液体的供给和回收。 第一移动器可以在第一区域中移动，并且可以在其与光学构件之间保持液体。 当第一移动器从与光学构件相对的位置退出时，规定构件从第一移动体移除，并且能够将液体保持在其与光学构件之间。

公开(公告)号：US07068350B2

公开(公告)日：2006-06-27

申请号：US10456485

申请日：2003-06-09

申请人： Kenji Nishi ,  Masahiko Okumura ,  Hiroki Okuno

发明人： Kenji Nishi ,  Masahiko Okumura ,  Hiroki Okuno

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/70425 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733

摘要： After exposure of a divided area on a wafer is completed, for exposure of the next divided area, a control unit sends configuration information on control parameters necessary to expose the next divided area to a stage control system, sometime before the stage control system begins deceleration of a reticle stage and a wafer stage in a scanning direction. Therefore, both stages do not have to be suspended before acceleration for the stage control system to receive the configuration information on control parameters necessary to expose the next divided area, and since suspension time is not required, throughput can be improved. In this case, no serious problems occur, so the performance of other devices is not disturbed.

摘要翻译： 在晶片上的分割区域的曝光完成之后，为了下一个分割区域的曝光，控制单元将阶段控制系统开始减速之前的某个时刻向控制系统发送关于将下一个分割区域暴露出来的控制参数的配置信息 的标线片台和扫描方向的晶片台。 因此，在阶段控制系统的加速之前，不需要暂停两个阶段，以接收关于暴露下一个分割区域所需的控制参数的配置信息，并且由于不需要暂停时间，因此可以提高生产率。 在这种情况下，不会出现严重的问题，所以其他设备的性能不会受到干扰。

公开(公告)号：US06624433B2

公开(公告)日：2003-09-23

申请号：US09290867

申请日：1999-04-14

申请人： Masahiko Okumura ,  Kenji Nishi

发明人： Masahiko Okumura ,  Kenji Nishi

IPC分类号： G01N2186

CPC分类号： G03F7/70691 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7046

摘要： A positioning method and apparatus for positioning a substrate on a substrate stage which is movable in a predetermined direction (Y direction). In the positioning method, a relationship between a longitudinal direction (X′ direction) of a band-shaped light beam irradiated onto the substrate and the predetermined direction (Y direction) for determining the position of the substrate and the predetermined direction is measured and the substrate is positioned on the substrate stage based on the relationship between said longitudinal direction of the band-shaped light beam and the predetermined direction.

摘要翻译： 一种定位方法和装置，用于将衬底定位在可沿预定方向（Y方向）移动的衬底台上。 在定位方法中，测量照射到基板上的带状光束的纵向方向（X'方向）与用于确定基板的位置和预定方向的预定方向（Y方向）之间的关系，并且 基于所述带状光束的所述纵向与所述预定方向之间的关系，将所述基板定位在所述基板台上。

公开(公告)号：US6141108A

公开(公告)日：2000-10-31

申请号：US258146

申请日：1999-02-26

申请人： Yoshiki Kida ,  Masahiko Okumura

发明人： Yoshiki Kida ,  Masahiko Okumura

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G01N11/00

CPC分类号： G03F7/70691 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015

摘要： A method provides a technique for exposing a pattern on a mask that is held by a mask stage onto a substrate. The method includes a first step of detecting a mark on the mask that is held at a first position by the mask stage and determining a corresponding position of the mask stage; a second step of detecting the mark on the mask that is held at a second position different from the first position by the mask stage and determining a corresponding position of the mask stage; a third step of determining a position of the mask relative to the mask stage in accordance with the detection results in the first and second steps; a fourth step of aligning the mask with the substrate; and a fifth step of exposing the pattern on the mask onto the substrate.

摘要翻译： 一种方法提供了将由掩模台保持的掩模上的图案曝光到基板上的技术。 该方法包括：第一步骤，通过掩模台检测保持在第一位置的掩模上的标记，并确定掩模台的对应位置; 第二步骤，通过掩模台检测保持在与第一位置不同的第二位置的掩模上的标记，并确定掩模台的对应位置; 第三步骤，根据第一和第二步骤中的检测结果确定掩模相对于掩模载物台的位置; 将掩模与衬底对准的第四步骤; 以及将掩模上的图案曝光到基板上的第五步骤。

公开(公告)号：US5798530A

公开(公告)日：1998-08-25

申请号：US729938

申请日：1996-10-15

申请人： Masahiko Okumura

发明人： Masahiko Okumura

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G01N21/86

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088

摘要： An exposure apparatus is designed to reduce the influences of alignment errors due to dynamic fluctuations and improve the throughput while basically using an off-axis alignment scheme. A wafer stage on which a test wafer is place is step-driven in accordance with a shot arrangement in an exposure operation. Subsequently, variations in position of the wafer stage, which occur while the position of alignment marks observed by a TTR alignment system coincide with aimed positions, are stored. In an exposure operation with respect to a wafer to be exposed, the prestored variations in position of the wafer stage are reproduced when alignment of each shot area is performed in accordance with the position of each alignment mark, detected by an off-axis alignment system.

摘要翻译： 设计曝光装置以减少由于动态波动引起的对准误差的影响，并且在基本上使用离轴对准方案时提高了吞吐量。 其中放置测试晶片的晶片台根据曝光操作中的拍摄布置进行逐步驱动。 随后，存储当由TTR对准系统观察到的对准标记的位置与目标位置一致时发生的晶片台位置的变化。 在相对于要曝光的晶片的曝光操作中，根据由对准系统检测的每个对准标记的位置执行每个拍摄区域的对准时，再现晶片台的预先存储的位置变化 。