公开(公告)号：US06990836B2

公开(公告)日：2006-01-31

申请号：US09789744

申请日：2001-02-22

申请人： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada ,  Hisatoshi Otsuka ,  Kazuo Shirota ,  Koji Matsuo

发明人： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada ,  Hisatoshi Otsuka ,  Kazuo Shirota ,  Koji Matsuo

IPC分类号： C03B20/00

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： Synthetic quartz glass is produced by feeding a silica-forming raw material gas, hydrogen gas, oxygen gas and a fluorine compound gas from a burner to a reaction zone, flame hydrolyzing the silica-forming raw material gas in the reaction zone to form fine particles of fluorine-containing silica, depositing the silica fine particles on a rotatable substrate in the reaction zone so as to create a fluorine-containing porous silica matrix, and heat vitrifying the porous silica matrix in a fluorine compound gas-containing atmosphere. This process enables the low-cost manufacture of a synthetic quartz glass having a higher and more uniform transmittance to light in the vacuum ultraviolet region than has hitherto been achieved.

摘要翻译： 合成石英玻璃是通过将来自燃烧器的二氧化硅形成原料气体，氢气，氧气和氟化合物气体从反应区域供给到反应区域而进行的，在反应区域中对二氧化硅形成原料气体进行火焰水解而形成微粒子 的含氟二氧化硅，将二氧化硅微粒沉积在反应区中的可旋转基板上，以产生含氟多孔二氧化硅基质，并在含氟化合物气体的气氛中对多孔二氧化硅基质进行玻璃化。 该方法使得能够低成本地制造与迄今为止已经实现的在真空紫外区域中对于光的透射率更高且更均匀的合成石英玻璃。

公开(公告)号：US06339940B1

公开(公告)日：2002-01-22

申请号：US09553392

申请日：2000-04-20

申请人： Motoyuki Yamada ,  Hisatoshi Otsuka ,  Koji Matsuo

发明人： Motoyuki Yamada ,  Hisatoshi Otsuka ,  Koji Matsuo

IPC分类号： C03B1906

CPC分类号： C03B37/0144 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1446

摘要： A process for manufacturing synthetic quartz glass involves feeding a quartz glass-forming raw material to a high-temperature gas zone within a chamber, converting the quartz glass-forming raw material into quartz soot, and forming synthetic quartz glass from the soot. A suspended soot-discharging gas which has been flow-straightened in a suspended soot discharging direction flows through the chamber in the vicinity of the high-temperature gas zone. This process keeps free suspended soot from settling onto the surface of the quartz ingot where fusion and growth take place, thereby preventing the formation of bubbles within the quartz glass under growth.

摘要翻译： 制造合成石英玻璃的方法包括将石英玻璃形成原料进料到室内的高温气体区域，将石英玻璃形成原料转化成石英烟灰，并从烟灰形成合成石英玻璃。 在悬浮烟炱排出方向上流动整流的悬浮的烟灰排出气体在高温气体区域附近流过室。 该过程保持游离的悬浮烟灰沉降到熔融和生长发生的石英锭的表面上，从而防止石英玻璃生长过程中的气泡形成。

公开(公告)号：US07585598B2

公开(公告)日：2009-09-08

申请号：US11634270

申请日：2006-12-06

申请人： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

发明人： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

IPC分类号： G03F1/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00

CPC分类号： C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

摘要： A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.

摘要翻译： 在二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/重量的情况下，含有3-12重量％的二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

公开(公告)号：US5618892A

公开(公告)日：1997-04-08

申请号：US561625

申请日：1995-11-21

申请人： Tomoyoshi Furihata ,  Motoyuki Yamada

发明人： Tomoyoshi Furihata ,  Motoyuki Yamada

IPC分类号： C08F8/30 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  C08F283/00 ,  C08G8/28

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F8/30 ,  G03F7/0045

摘要： A polyhydroxystyrene having a 2,4-diamino-s-triazinyl group substituted for 1-50 mol % of its hydroxyl group and a weight average molecular weight of 3,000-50,000 is provided. A negative radiation-sensitive resist composition comprising the polymer, preferably along with a photo-acid generator and a crosslinking agent has high resolution and developability, affords a resist pattern of rectangular profile, and is shelf stable. The composition is thus very useful as resist material for LSI manufacture.

摘要翻译： 提供具有2,4-二氨基-s-三嗪基取代其羟基的1-50mol％，重均分子量为3,000〜5,000的聚羟基苯乙烯。 包含聚合物，优选与光酸发生剂和交联剂一起的负辐射敏感抗蚀剂组合物具有高分辨率和显影性，提供矩形轮廓的抗蚀剂图案，并且是稳定的。 因此，该组合物作为用于LSI制造的抗蚀材料是非常有用的。

公开(公告)号：US07849711B2

公开(公告)日：2010-12-14

申请号：US12512436

申请日：2009-07-30

申请人： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

发明人： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

IPC分类号： G03F1/00 ,  C03B19/06

CPC分类号： C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

摘要： A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.

摘要翻译： 含有3-12重量％二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，其二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/μm，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

公开(公告)号：US06744458B2

公开(公告)日：2004-06-01

申请号：US10242354

申请日：2002-09-13

申请人： Motoyuki Yamada ,  Koji Yamaga

发明人： Motoyuki Yamada ,  Koji Yamaga

IPC分类号： B41J2435

CPC分类号： C03C23/0025 ,  B41M5/262

摘要： In a quartz glass, a mark is internally made such that a retardation generated in close proximity to the end of the mark is up to 20 nm. The internally marked quartz glass in which internal marks are created without sacrificing optical precision finds use as quartz glass substrates for optical members in the electronic industry.

摘要翻译： 在石英玻璃中，内部制造标记，使得在标记末端附近产生的延迟高达20nm。 在不牺牲光学精度的情况下创建内部标记的内部标记的石英玻璃可用作电子工业中的光学构件的石英玻璃基板。

公开(公告)号：US5668226A

公开(公告)日：1997-09-16

申请号：US741202

申请日：1996-10-29

申请人： Tomoyoshi Furihata ,  Motoyuki Yamada

发明人： Tomoyoshi Furihata ,  Motoyuki Yamada

IPC分类号： C08F8/30 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  C08F283/00 ,  C08G8/28

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F8/30 ,  G03F7/0045

摘要： A polyhydroxystyrene having a 2,4-diamino-s-triazinyl group substituted for 1-50 mol % of its hydroxyl group and a weight average molecular weight of 3,000-50,000 is provided. A negative radiation-sensitive resist composition comprising the polymer, preferably along with a photo-acid generator and a crosslinking agent has high resolution and developability, affords a resist pattern of rectangular profile, and is shelf stable. The composition is thus very useful as resist material for LSI manufacture.

公开(公告)号：US5412050A

公开(公告)日：1995-05-02

申请号：US109050

申请日：1993-08-19

申请人： Osamu Watanabe ,  Motoyuki Yamada ,  Fujio Yagihashi ,  Akira Yamamoto ,  Yoshinobu Isono

发明人： Osamu Watanabe ,  Motoyuki Yamada ,  Fujio Yagihashi ,  Akira Yamamoto ,  Yoshinobu Isono

IPC分类号： C08F16/26

CPC分类号： C08F16/26

摘要： A polystyrene type monodispersion polymer having at least a monomer unit represented by the following general formula (I), and having a molecular weight which lies in the range 500-500,000 and manufacturing process thereof are disclosed; ##STR1## where R is a hydrogen atom or methyl group, and the R in the molecule may be identical or different.

摘要翻译： 公开了至少具有由下列通式（I）表示的单体单元，分子量在500-500,000范围内的聚苯乙烯型单分散聚合物及其制造方法; 通式（I）其中R是氢原子或甲基，分子中的R可以相同或不同。

公开(公告)号：US5252691A

公开(公告)日：1993-10-12

申请号：US819239

申请日：1992-01-13

申请人： Osamu Watanabe ,  Motoyuki Yamada ,  Fujio Yagihashi ,  Minoru Takamizawa

发明人： Osamu Watanabe ,  Motoyuki Yamada ,  Fujio Yagihashi ,  Minoru Takamizawa

IPC分类号： C08F30/08 ,  C08F130/08 ,  G03F7/075

CPC分类号： C08F130/08 ,  G03F7/0758

摘要： A p-vinylphenoxydimethylphenylcalbyldimethylsilane homopolymer having a molecular weight dispersion narrow enough to ensure high resolution and high developability to resists containing said homopolymer as main component can be manufactured by anionic polymerization of a p-vinylphenoxydimethylphenylcalbyldimethylsilane monomer.

公开(公告)号：US20100202954A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12413563

申请日：2009-03-29

申请人： Motoyuki Yamada ,  Kazuhisa Hatayama

发明人： Motoyuki Yamada ,  Kazuhisa Hatayama

IPC分类号： C01B33/023 ,  C01B33/02

CPC分类号： C01B33/037 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： The present invention provides a silicon manufacturing method for purifying silicon metal to manufacture solar cell silicon by reducing boron contained as impurities in the silicon metal. The present invention provides a silicon manufacturing method including preparing a mixture containing both silicon in a molten state and a molten salt, introducing a gas containing a chlorine atom into the mixture, and introducing moisture vapor together with the chlorine-atom containing gas. The chlorine-atom containing gas may preferably be a chlorine gas or silicon tetrachloride. The molten salt may preferably be composed of a mixture containing at least silicon dioxide and calcium oxide, and the mixture may additionally contain calcium fluoride.

摘要翻译： 本发明提供一种用于纯化硅金属以制造太阳能电池硅的硅制造方法，该方法是通过还原作为硅金属中杂质的硼。 本发明提供一种硅制造方法，包括制备含有熔融状态的硅和熔融盐的混合物，将含有氯原子的气体引入混合物中，并将含水气体与含氯原子气体一起引入。 含氯原子的气体优选为氯气或四氯化硅。 熔融盐可以优选由至少含有二氧化硅和氧化钙的混合物组成，并且该混合物可另外含有氟化钙。