公开(公告)号：US5917604A

公开(公告)日：1999-06-29

申请号：US818143

申请日：1997-03-13

申请人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf ,  Manfred G. Tenner

发明人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf ,  Manfred G. Tenner

IPC分类号： H01L21/68 ,  G02B27/18 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L23/544 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F9/70 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002

摘要： A device is described for aligning a first object provided with a first alignment mark (P) with respect to a second object provided with a second alignment mark (M), which marks have a periodical structure and are imaged onto each other. By selecting beam portions from the radiation from the first alignment mark (P) with the aid of an order diaphragm (55'), which beam portions are deflected through larger angles, the sensitivity of the device to errors can be decreased. Such a device may be used to great advantage in a lithographic apparatus.

摘要翻译： 描述了一种装置，用于使提供有第一对准标记（P）的第一物体相对于具有第二对准标记（M）的第二物体对准，该标记具有周期性结构并彼此成像。 通过借助于定子光阑（55'）从第一对准标记（P）的辐射中选择光束部分，这些光束部分通过较大的角度被偏转，可以减小器件对误差的灵敏度。 这样的器件可以在光刻设备中被用于很大的优点。

公开(公告)号：US6046792A

公开(公告)日：2000-04-04

申请号：US812283

申请日：1997-03-06

申请人： Jan E. Van Der Werf ,  Peter Dirksen

发明人： Jan E. Van Der Werf ,  Peter Dirksen

IPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70358 ,  G01B9/02007 ,  G01B9/02018 ,  G01B9/02019 ,  G01B9/02021 ,  G01B9/02027 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G01B2290/15 ,  G01B2290/70

摘要： A differential interferometer system for measuring the mutual positions and movements of a first object (WH) and a second object (MH). The system comprises a first interferometer unit (1, 2, 3, 4) having a first measuring reflector (RW) and a second interferometer unit (5, 6, 7, 8) having a second measuring reflector (RM). Since a measuring beam (b.sub.m) passes through both the first and the second interferometer unit and is reflected by both the first and the second measuring reflector, and since the measuring beam and the reference beam (b.sub.r) traverse the same path at least between the two interferometer units, accurate measurements can be preformed very rapidly. The interferometer system may be used to great advantage in a step-and-scan-lithographic projection apparatus.

摘要翻译： 一种用于测量第一物体（WH）和第二物体（MH）的相互位置和运动的差分干涉仪系统。 该系统包括具有第一测量反射器（RW）和具有第二测量反射器（RM）的第二干涉仪单元（5,6,7,8）的第一干涉仪单元（1,2,3,4）。 由于测量光束（bm）通过第一和第二干涉仪单元并且被第一和第二测量反射器两者反射，并且由于测量光束和参考光束（br）至少穿过相同的路径 两个干涉仪单元，可以非常快速地进行精确的测量。 干涉仪系统可以在步进和扫描光刻投影设备中被用于很大的优点。

公开(公告)号：US5674650A

公开(公告)日：1997-10-07

申请号：US509909

申请日：1995-08-01

申请人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf

发明人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7026

摘要： A method and apparatus for repetitively imaging a mask pattern (C) on a substrate (W) are described. The focusing of the projection lens system used for imaging and various other parameters of the apparatus and the projection lens system (PL), as well as illumination doses can be measured accurately and reliably, and measuring devices of the apparatus can be calibrated, by measuring an image of a new asymmetrical test mark formed in the photoresist on the substrate (W) by means of a projection beam (PB).

摘要翻译： 对用于对基板（W）上的掩模图案（C）进行重复成像的方法和装置进行说明。 用于成像的投影透镜系统和设备和投影透镜系统（PL）的各种其他参数以及照明剂量的聚焦可以被准确可靠地测量，并且可以通过测量来校准装置的测量装置 通过投影光束（PB）形成在基板（W）上的光致抗蚀剂中的新的不对称测试标记的图像。

公开(公告)号：US06721389B2

公开(公告)日：2004-04-13

申请号：US09934681

申请日：2001-08-23

申请人： Jan E. Van Der Werf ,  Mark Kroon ,  Wilhelmus C. Keur ,  Vadim Y. Banine ,  Hans Van Der Laan ,  Johannes H. J. Moors ,  Erik R. Loopstra

发明人： Jan E. Van Der Werf ,  Mark Kroon ,  Wilhelmus C. Keur ,  Vadim Y. Banine ,  Hans Van Der Laan ,  Johannes H. J. Moors ,  Erik R. Loopstra

IPC分类号： G03F720

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G01J1/58 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： A lithographic projection apparatus includes a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength &lgr;1 smaller than 50 nm; a support structure for supporting patterning structure, the patterning structure serving to pattern the projection beam according to a desired pattern; a substrate table for holding a substrate; and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. The apparatus further includes a radiation sensor which is located so as to be able to receive radiation out of the projection beam, said sensor comprising a radiation-sensitive material which converts incident radiation of wavelength &lgr;1 into secondary radiation; and sensing means capable of detecting said secondary radiation emerging from said layer.

摘要翻译： 光刻投影设备包括用于提供波长λ1小于50nm的辐射投射光束的辐射系统; 用于支撑图案形成结构的支撑结构，用于根据期望图案对投影光束进行图案化的图案形成结构; 用于保持衬底的衬底台; 以及用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 该装置还包括辐射传感器，其被定位成能够接收来自投影光束的辐射，所述传感器包括将波长λ1的入射辐射转换成二次辐射的辐射敏感材料; 以及能够检测从所述层出射的所述次级辐射的感测装置。

公开(公告)号：US6122058A

公开(公告)日：2000-09-19

申请号：US103733

申请日：1998-06-24

申请人： Jan E. Van Der Werf ,  Philippe J. L. Belien ,  Johannes C. N. Rijpers

发明人： Jan E. Van Der Werf ,  Philippe J. L. Belien ,  Johannes C. N. Rijpers

IPC分类号： G01B9/02

CPC分类号： G01B9/02021 ,  G01B9/02007 ,  G01B9/02027 ,  G01B2290/45 ,  G01B2290/70

摘要： In an interferometer system, variations of the refractive index in the medium traversed by the measuring beam (123) can be detected by using two measuring beams (123, 125) having wavelengths which differ by a factor of three. For this choice of the wavelength ratio, the interference filters of the polarization elements, such as the beam splitter (127), the .lambda./4 plates (130, 131) and the antireflection coatings can be manufactured relatively easily, and the detection accuracy is increased.

摘要翻译： 在干涉仪系统中，可以通过使用具有三倍的波长的两个测量光束（123,125）来检测由测量光束（123）穿过的介质中的折射率的变化。 对于波长比的选择，可以相对容易地制造诸如分束器（127），λ/ 4板（130,131）和抗反射涂层的偏振元件的干涉滤光器，并且检测精度 增加。