公开(公告)号：US20090162787A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12327549

申请日：2008-12-03

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Kyoko Ohshita

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Kyoko Ohshita

IPC分类号： G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  C07C309/84

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106

摘要： There are provided a compound represented by a general formula (b1-1) shown below suitable as an acid generator for a resist composition, a compound represented by a general formula (I) shown below suitable as a precursor for the compound represented by the general formula (b1-1), an acid generator, a resist composition, and a method of forming a resist pattern. [Chemical Formula 1] X-Q1-Y1—SO3−M+  (I) X-Q1-Y1—SO3−A+  (b1-1) (wherein, Q1 represents a bivalent linking group or a single bond; Y1 represents an alkylene group which may contain a substituent group or a fluorinated alkylene group which may contain a substituent group; X represents an aromatic cyclic group of 5 to 30 carbon atoms which contains a fluorine atom and may contain a substituent group; M+ represents an alkali metal ion; and A+ represents an organic cation.)

摘要翻译： 提供由下述通式（b1-1）表示的化合物，其适合作为抗蚀剂组合物的酸产生剂，由下述通式（I）表示的化合物适合作为由通式 式（b1-1），酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。 <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> [化学式1] <？in-line-formula description =“In-line formula”end =“tail”？> ？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> X-Q1-Y1-SO3-M +（I）<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end = “tail”？> <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> X-Q1-Y1-SO3-A +（b1-1）<？in-line-formula description = “其中，Q1表示二价连接基团或单键，Y1表示可以含有取代基的亚烷基或可以含有取代基的氟化亚烷基”。 X表示含有氟原子且含有取代基的5〜30个碳原子的芳香族环状基团，M +表示碱金属离子，A +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US07955777B2

公开(公告)日：2011-06-07

申请号：US12327549

申请日：2008-12-03

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Kyoko Ohshita

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Kyoko Ohshita

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106

摘要： There are provided a compound represented by a general formula (b1-1) shown below suitable as an acid generator for a resist composition, a compound represented by a general formula (I) shown below suitable as a precursor for the compound represented by the general formula (b1-1), an acid generator, a resist composition, and a method of forming a resist pattern.[Chemical Formula 1] X—Q1—Y1—SO3−M+  (I) X—Q1—Y1—SO3−A+  (b1-1) (wherein, Q1 represents a bivalent linking group or a single bond; Y1 represents an alkylene group which may contain a substituent group or a fluorinated alkylene group which may contain a substituent group; X represents an aromatic cyclic group of 5 to 30 carbon atoms which contains a fluorine atom and may contain a substituent group; M+ represents an alkali metal ion; and A+ represents an organic cation.).

摘要翻译： 提供由下述通式（b1-1）表示的化合物，其适合作为抗蚀剂组合物的酸产生剂，由下述通式（I）表示的化合物适合作为由通式 式（b1-1），酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。 [化学式1] X-Q1-Y1-SO3-M +（I）X-Q1-Y1-SO3-A +（b1-1）（其中，Q1表示二价连接基或单键; Y1表示亚烷基 其可以含有取代基或可以含有取代基的氟化亚烷基; X表示含有氟原子且含有取代基的碳原子数为5〜30的芳香族环状基团，M +表示碱金属离子， A +表示有机阳离子。）

公开(公告)号：US07488568B2

公开(公告)日：2009-02-10

申请号：US12060695

申请日：2008-04-01

申请人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa

发明人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07D333/46

CPC分类号： C07D333/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A resist composition including a base component (A) and an acid-generator component (B), the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-8) shown below (wherein R401 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group; R41 to R43 each independently represents a halogen atom, a halogenated alkyl group, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group, a carboxy group or a hydroxyalkyl group; Q represents a divalent linking group or a single bond; and X− represents an anion) or an acid generator (B1′) including a compound represented by general formula (b1-9) shown below (wherein R402 and R403 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R404 represents an alkyl group or a halogenated alkyl group, wherein R403 and R404 may be bonded to each other to form a ring structure; and X− represents an anion).

摘要翻译： 包含基础组分（A）和酸产生剂组分（B）的抗蚀剂组合物，所述酸产生剂组分（B）包括含有下述通式（b1-8）表示的化合物的酸产生剂（B1）（ 其中R401表示酸解离的溶解抑制基团; R 41至R 43各自独立地表示卤素原子，卤代烷基，烷基，乙酰基，烷氧基，羧基或羟烷基; Q表示二价 连接基团或单键; X表示阴离子）或包含下述通式（b1-9）表示的化合物的酸产生剂（B1'）（其中R402和R403各自独立地表示氢原子，烷基 基团或卤代烷基; R404表示烷基或卤代烷基，其中R403和R404可以彼此键合以形成环结构;并且X-表示阴离子）。

公开(公告)号：US07776510B2

公开(公告)日：2010-08-17

申请号：US12135680

申请日：2008-06-09

申请人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo

发明人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C381/12

CPC分类号： C07C309/06 ,  C07C309/04 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A compound represented by general formula (b-14); and acid generator consisting of the compound; and a resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1-14): wherein R7″ to R9″ each independently represents an aryl group or an alkyl group, wherein two of R7″ to R9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group in which a portion or all of the hydrogen atoms are substituted with an alkoxyalkyloxy group or an alkoxycarbonylalkyloxy group; and X− represents an anion.

摘要翻译： 由通式（b-14）表示的化合物; 和由该化合物组成的酸发生剂; 以及抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸 由通式（b1-14）表示的化合物构成的发光体（B1）：其中，R7“〜R9”各自独立地表示芳基或烷基，其中，R7“〜R9”中的2个可以相互键合而成 与硫原子形成环，并且R 7“至R 9”中的至少一个表示其中一部分或全部氢原子被烷氧基烷氧基或烷氧基羰基烷氧基取代的取代芳基; X-表示阴离子。

公开(公告)号：US20080248422A1

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：US12060695

申请日：2008-04-01

申请人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa

发明人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa

IPC分类号： G03F7/025 ,  C07D333/50

CPC分类号： C07D333/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A resist composition including a base component (A) and an acid-generator component (B), the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-8) shown below (wherein R401 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group; R41 to R43 each independently represents a halogen atom, a halogenated alkyl group, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group, a carboxy group or a hydroxyalkyl group; Q represents a divalent linking group or a single bond; and X− represents an anion) or an acid generator (B1′) including a compound represented by general formula (b1-9) shown below (wherein R403 and R403 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R404 represents an alkyl group or a halogenated alkyl group, wherein R403 and R404 may be bonded to each other to form a ring structure; and X− represents an anion).

摘要翻译： 包含基础组分（A）和酸产生剂组分（B）的抗蚀剂组合物，所述酸产生剂组分（B）包括含有下述通式（b1-8）表示的化合物的酸产生剂（B1）（ 其中R 401表示酸解离的溶解抑制基团; R 41至R 43各自独立地表示卤素原子，卤代烷基， 烷基，乙酰基，烷氧基，羧基或羟烷基; Q表示二价连接基团或单键; X-O - 表示阴离子）或酸发生剂（ B1'），其包含如下所示的由通式（b1-9）表示的化合物（其中R 403和R 403）各自独立地表示氢原子，烷基或 卤代烷基; R 404表示烷基或卤代烷基，其中R 403和R 404可彼此键合至 形成一个戒指 结构; 而X - 代表阴离子）。

公开(公告)号：US20080311522A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US12135680

申请日：2008-06-09

申请人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo

发明人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C309/04 ,  C07C69/74

CPC分类号： C07C309/06 ,  C07C309/04 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A compound represented by general formula (b-14); and acid generator consisting of the compound; and a resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1-14): wherein R7″ to R9″ each independently represents an aryl group or an alkyl group, wherein two of R7″ to R9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group in which a portion or all of the hydrogen atoms are substituted with an alkoxyalkyloxy group or an alkoxycarbonylalkyloxy group; and X− represents an anion.

摘要翻译： 由通式（b-14）表示的化合物; 和由该化合物组成的酸发生剂; 以及抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸 发生器（B1）由通式（b1-14）表示的化合物组成：其中R7“至R9”各自独立地表示芳基或烷基，其中R7“至R9”中的两个可以键合 彼此形成具有硫原子的环，并且R 7“至R 9”中的至少一个表示取代的芳基，其中部分或全部氢原子被烷氧基烷氧基或烷氧基羰基烷氧基取代; X-表示阴离子。

公开(公告)号：US07713679B2

公开(公告)日：2010-05-11

申请号：US12251327

申请日：2008-10-14

申请人： Keita Ishiduka ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takehiro Seshimo ,  Hideo Hada

发明人： Keita Ishiduka ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takehiro Seshimo ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： There is provided a compound represented by a general formula (B1-1) shown below, an acid generator composed of the above compound, a resist composition containing an acid generator composed of the above compound, and a method of forming a resist pattern: (wherein RX represents a hydrocarbon group which may contain a substituent group; Q1 represents an alkylene group of 1 to 12 carbon atoms which may contain a substituent group, or a single bond; n represents an integer of 0 or 1; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms, or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms; and A+ represents an organic cation which contains a nitrogen atom).

摘要翻译： 提供由下述通式（B1-1）表示的化合物，由上述化合物组成的酸产生剂，含有由上述化合物组成的酸发生剂的抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法：（ 其中RX表示可以含有取代基的烃基; Q1表示可以含有取代基的1〜12个碳原子的亚烷基或单键; n表示0或1的整数; Y1表示亚烷基 1〜4个碳原子的氟化亚烷基或1〜4个碳原子的氟化亚烷基，A +表示含有氮原子的有机阳离子。

公开(公告)号：US20090104563A1

公开(公告)日：2009-04-23

申请号：US12251327

申请日：2008-10-14

申请人： Keita Ishiduka ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takehiro Seshimo ,  Hideo Hada

发明人： Keita Ishiduka ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takehiro Seshimo ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03F7/028 ,  G03F7/20 ,  C07C309/02 ,  C07C309/78

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： There is provided a compound represented by a general formula (B1-1) shown below, an acid generator composed of the above compound, a resist composition containing an acid generator composed of the above compound, and a method of forming a resist pattern: (wherein RX represents a hydrocarbon group which may contain a substituent group; Q1 represents an alkylene group of 1 to 12 carbon atoms which may contain a substituent group, or a single bond; n represents an integer of 0 or 1; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms, or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms; and A+ represents an organic cation which contains a nitrogen atom).

摘要翻译： 提供由下述通式（B1-1）表示的化合物，由上述化合物组成的酸产生剂，含有由上述化合物组成的酸发生剂的抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法：（ 其中RX表示可以含有取代基的烃基; Q1表示可以含有取代基的1〜12个碳原子的亚烷基或单键; n表示0或1的整数; Y1表示亚烷基 1〜4个碳原子的氟化亚烷基或1〜4个碳原子的氟化亚烷基，A +表示含有氮原子的有机阳离子。

公开(公告)号：US08338076B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US12591639

申请日：2009-11-25

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  C07C381/12

CPC分类号： C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety comprising a group represented by general formula (I) (in the formula, R5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1），其含有具有由通式（I）表示的基团的阳离子部分的化合物（式中，R5表示具有羰基，酯键或磺酰基的有机基团，Q表示二价连接基团 ）。

公开(公告)号：US20100136478A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：US12591639

申请日：2009-11-25

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07D327/04 ,  C07D333/50

CPC分类号： C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1），其含有具有由通式（I）表示的阳离子部分的化合物（式中，R5表示具有羰基，酯键或磺酰基的有机基团，Q表示二价连接基团）。