公开(公告)号：US08038898B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US10995494

申请日：2004-11-24

申请人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent in forming a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

摘要翻译： 一种用于金属的研磨液，包括（1）金属氧化剂，（2）氧化金属的溶解剂，（3）第一保护膜形成剂，例如氨基酸或唑，物理上吸附 金属的表面和/或形成化学键，从而形成保护膜，（4）辅助第一保护膜形成剂的第二保护膜形成剂如聚丙烯酸，聚酰胺或其盐 形成保护膜和（5）水; 和抛光方法。

公开(公告)号：US08491807B2

公开(公告)日：2013-07-23

申请号：US13218590

申请日：2011-08-26

申请人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent in forming a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

摘要翻译： 一种用于金属的研磨液，包括（1）金属氧化剂，（2）氧化金属的溶解剂，（3）第一保护膜形成剂，例如氨基酸或唑，物理上吸附 金属的表面和/或形成化学键，从而形成保护膜，（4）辅助第一保护膜形成剂的第二保护膜形成剂如聚丙烯酸，聚酰胺或其盐 形成保护膜和（5）水; 和抛光方法。

公开(公告)号：US06896825B1

公开(公告)日：2005-05-24

申请号：US09763891

申请日：1999-08-31

申请人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/321 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  H01L21/302

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent in forming a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

摘要翻译： 一种用于金属的研磨液，包括（1）金属氧化剂，（2）氧化金属的溶解剂，（3）第一保护膜形成剂，例如氨基酸或唑，物理上吸附 金属的表面和/或形成化学键，从而形成保护膜，（4）辅助第一保护膜形成剂的第二保护膜形成剂如聚丙烯酸，聚酰胺或其盐 形成保护膜和（5）水; 和抛光方法。

公开(公告)号：US20120048830A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13218590

申请日：2011-08-26

申请人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C23F1/16 ,  C23F1/00

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent in forming a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

摘要翻译： 一种用于金属的研磨液，包括（1）金属氧化剂，（2）氧化金属的溶解剂，（3）第一保护膜形成剂，例如氨基酸或唑，物理上吸附 金属的表面和/或形成化学键，从而形成保护膜，（4）辅助第一保护膜形成剂的第二保护膜形成剂如聚丙烯酸，聚酰胺或其盐 形成保护膜和（5）水; 和抛光方法。

公开(公告)号：US06899821B2

公开(公告)日：2005-05-31

申请号：US09976001

申请日：2001-10-15

申请人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/321 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  H01L21/302

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent informing a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

摘要翻译： 一种用于金属的研磨液，包括（1）金属氧化剂，（2）氧化金属的溶解剂，（3）第一保护膜形成剂，例如氨基酸或唑，物理上吸附 金属的表面和/或形成化学键，从而形成保护膜，（4）辅助第一保护膜形成剂的第二保护膜形成剂如聚丙烯酸，聚酰胺或其盐 通知保护膜和（5）水; 和抛光方法。

公开(公告)号：US20050095860A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10995494

申请日：2004-11-24

申请人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Jun Matsuzawa ,  Tetsuya Hoshino ,  Yasuo Kamigata ,  Hiroki Terazaki ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/321 ,  H01L21/4763 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent in forming a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

公开(公告)号：US20070167017A1

公开(公告)日：2007-07-19

申请号：US11715843

申请日：2007-03-09

申请人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： H01L21/461 ,  C09K13/00

CPC分类号： C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09K13/00 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： Provided are a metal-polishing liquid that comprises an oxidizing agent, an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, a dissolution promoter for the protective film-forming agent, and water; a method for producing it; and a polishing method of using it. Also provided are materials for the metal-polishing liquid, which include an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, and a dissolution promoter for the protective film-forming agent.

摘要翻译： 提供一种金属抛光液体，其包含氧化剂，氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂，保护膜形成剂的溶解促进剂和水; 一种生产它的方法; 和使用它的抛光方法。 还提供了金属抛光液的材料，其包括氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂和用于保护膜形成剂的溶解促进剂。

公开(公告)号：US08900477B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US12015533

申请日：2008-01-17

申请人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C09K13/00 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  H01L21/302 ,  H01L21/321 ,  C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C23F3/06 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04

CPC分类号： C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09K13/00 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： Provided are a metal-polishing liquid that comprises an oxidizing agent, an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, a dissolution promoter for the protective film-forming agent, and water; a method for producing it; and a polishing method of using it. Also provided are materials for the metal-polishing liquid, which include an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, and a dissolution promoter for the protective film-forming agent.

摘要翻译： 提供一种金属抛光液体，其包含氧化剂，氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂，保护膜形成剂的溶解促进剂和水; 一种生产它的方法; 和使用它的抛光方法。 还提供了金属抛光液的材料，其包括氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂和用于保护膜形成剂的溶解促进剂。

公开(公告)号：US20080121840A1

公开(公告)日：2008-05-29

申请号：US12015533

申请日：2008-01-17

申请人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C09K13/00

CPC分类号： C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09K13/00 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： Provided are a metal-polishing liquid that comprises an oxidizing agent, an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, a dissolution promoter for the protective film-forming agent, and water; a method for producing it; and a polishing method of using it. Also provided are materials for the metal-polishing liquid, which include an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, and a dissolution promoter for the protective film-forming agent.

摘要翻译： 提供一种金属抛光液体，其包含氧化剂，氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂，保护膜形成剂的溶解促进剂和水; 一种生产它的方法; 和使用它的抛光方法。 还提供了金属抛光液的材料，其包括氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂和用于保护膜形成剂的溶解促进剂。

公开(公告)号：US08226849B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US11435092

申请日：2006-05-17

申请人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

发明人： Takeshi Uchida ,  Tetsuya Hoshino ,  Hiroki Terazaki ,  Yasuo Kamigata ,  Naoyuki Koyama ,  Yoshio Honma ,  Seiichi Kondoh

IPC分类号： C09K13/00

CPC分类号： C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09K13/00 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

摘要： Provided are a metal-polishing liquid that comprises an oxidizing agent, an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, a dissolution promoter for the protective film-forming agent, and water; a method for producing it; and a polishing method of using it. Also provided are materials for the metal-polishing liquid, which include an oxidized-metal etchant, a protective film-forming agent, and a dissolution promoter for the protective film-forming agent.

摘要翻译： 提供一种金属抛光液体，其包含氧化剂，氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂，保护膜形成剂的溶解促进剂和水; 一种生产它的方法; 和使用它的抛光方法。 还提供了金属抛光液的材料，其包括氧化金属蚀刻剂，保护膜形成剂和用于保护膜形成剂的溶解促进剂。