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    Enhancing metal/low-K interconnect reliability using a protection layer
    1.
    发明申请
    Enhancing metal/low-K interconnect reliability using a protection layer 有权
    使用保护层增强金属/低K互连可靠性

    公开(公告)号：US20070216032A1

    公开(公告)日：2007-09-20

    申请号：US11715261

    申请日：2007-03-07

    申请人： Tong Tee ,  Xueren Zhang ,  Shanzhong Wang ,  Valeriy Nosik ,  Jijie Zhou ,  Sridhar Idapalapati ,  Subodh Mhaisalkar ,  Zhi Yuan Loo

    发明人： Tong Tee ,  Xueren Zhang ,  Shanzhong Wang ,  Valeriy Nosik ,  Jijie Zhou ,  Sridhar Idapalapati ,  Subodh Mhaisalkar ,  Zhi Yuan Loo

    IPC分类号： H01L23/48

    CPC分类号： H01L23/5329 ,  H01L23/53295 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S977/742 ,  Y10S977/785 ,  H01L2924/00

    摘要： A protection layer is coated or otherwise formed over the interconnect structure. The interconnect structure includes a metal line (such as top and bottom metal layers connected by a metal via) and a low-K material. The protection layer includes a vertically aligned dielectric or other material dispersed with carbon nanotubes. The protection layer could include one or multiple layers of carbon nanotubes, and the carbon nanotubes could have any suitable dispersion, alignment, and pattern in each layer of the protection layer. Among other things, the carbon nanotubes help to reduce or prevent damage to the interconnect structure, such as by reducing or preventing the collapse of the low-K material or delamination between the metal line and the low-K material.

    摘要翻译： 在互连结构上涂覆或以其它方式形成保护层。 互连结构包括金属线（例如通过金属通孔连接的顶部和底部金属层）和低K材料。 保护层包括垂直排列的电介质或分散有碳纳米管的其它材料。 保护层可以包括一层或多层碳纳米管，并且碳纳米管可以在保护层的每个层中具有任何合适的分散体，取向和图案。 除其他之外，碳纳米管有助于减少或防止互连结构的损坏，例如通过减少或防止低K材料的塌陷或金属线与低K材料之间的分层。

    Moire interferometric strain sensor
    10.
    发明申请
    Moire interferometric strain sensor 有权
    莫尔干涉应变传感器

    公开(公告)号：US20070070327A1

    公开(公告)日：2007-03-29

    申请号：US11235077

    申请日：2005-09-27

    申请人： Anand Asundi ,  Anish Priyadarshi ,  Subodh Mhaisalkar

    发明人： Anand Asundi ,  Anish Priyadarshi ,  Subodh Mhaisalkar

    IPC分类号： G01B11/16 ,  G01N3/00

    CPC分类号： G01B11/161 ,  G01B11/165 ,  G01D5/266 ,  G01L5/0047 ,  G01N2203/0647

    摘要： A moiré interferometric strain sensor for detecting strain on a specimen, a diffraction grating being on the specimen, the strain sensor including an array of a plurality of microlenses for receiving at least one reflected beam of at least one incident beam upon the specimen; and a detector array at a focal plane of the array of a plurality of microlenses.

    摘要翻译： 一种用于检测样本上的应变的莫尔干涉应变传感器，在样本上的衍射光栅，所述应变传感器包括多个微透镜的阵列，用于在所述样本上接收至少一个入射光束的至少一个反射光束; 以及在多个微透镜的阵列的焦平面处的检测器阵列。