公开(公告)号：US07241340B2

公开(公告)日：2007-07-10

申请号：US10627530

申请日：2003-07-24

申请人： Stuart K. Janikowski ,  Mark D. Argyle ,  Robert V. Fox ,  W. Alan Propp ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  David L. Miller

发明人： Stuart K. Janikowski ,  Mark D. Argyle ,  Robert V. Fox ,  W. Alan Propp ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  David L. Miller

IPC分类号： B05C11/00

CPC分类号： D06M23/105 ,  B05D1/18 ,  B05D7/20 ,  B05D2252/02 ,  B05D2252/10 ,  B05D2401/90 ,  C03C25/12 ,  C03C25/22

摘要： The present invention is related to systems and methods for modifying various non-equidimensional substrates with modifying agents. The system comprises a processing chamber configured for passing the non-equidimensional substrate therethrough, wherein the processing chamber is further configured to accept a treatment mixture into the chamber during movement of the non-equidimensional substrate through the processing chamber. The treatment mixture can comprise of the modifying agent in a carrier medium, wherein the carrier medium is selected from the group consisting of a supercritical fluid, a near-critical fluid, a superheated fluid, a superheated liquid, and a liquefied gas. Thus, the modifying agent can be applied to the non-equidimensional substrate upon contact between the treatment mixture and the non-equidimensional substrate.

摘要翻译： 本发明涉及用修饰剂修饰各种非等维底物的系统和方法。 该系统包括被配置用于使非等量基底通过其中的处理室，其中处理室还被配置成在非等量基底通过处理室运动期间接受处理混合物进入腔室。 处理混合物可以在载体介质中包含改性剂，其中载体介质选自超临界流体，近临界流体，过热流体，过热液体和液化气体。 因此，在处理混合物和非等尺寸底物之间接触时，改性剂可以施加到非等维基底上。

公开(公告)号：US06962731B2

公开(公告)日：2005-11-08

申请号：US10669662

申请日：2003-09-23

申请人： W. Alan Propp ,  Mark D. Argyle ,  Stuart K. Janikowski ,  Robert V. Fox ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  David L. Miller

发明人： W. Alan Propp ,  Mark D. Argyle ,  Stuart K. Janikowski ,  Robert V. Fox ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  David L. Miller

IPC分类号： B05D1/02 ,  B05D7/00 ,  C03C25/12 ,  D06B3/04 ,  D06B23/16 ,  B05D1/18 ,  C23C16/00

CPC分类号： D06B3/045 ,  B05D1/025 ,  B05D7/52 ,  B05D2256/00 ,  B05D2401/90 ,  C03C25/12 ,  D06B23/16

摘要： The present invention is related to the modifying of substrates with multiple modifying agents in a single continuous system. At least two processing chambers are configured for modifying the substrate in a continuous feed system. The processing chambers can be substantially isolated from one another by interstitial seals. Additionally, the two processing chambers can be substantially isolated from the surrounding atmosphere by end seals. Optionally, expansion chambers can be used to separate the seals from the processing chambers.

摘要翻译： 本发明涉及在单一连续系统中用多种改性剂改性底物。 至少两个处理室被配置用于在连续进料系统中修改基材。 处理室可以通过间隙密封基本上彼此隔离。 此外，两个处理室可以通过端部密封基本上与周围的大气隔离。 可选地，膨胀室可用于将密封件与处理室分离。

公开(公告)号：US06652654B1

公开(公告)日：2003-11-25

申请号：US09671459

申请日：2000-09-27

申请人： W. Alan Propp ,  Mark D. Argyle ,  Stuart K. Janikowski ,  Robert V. Fox ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  David L. Miller

发明人： W. Alan Propp ,  Mark D. Argyle ,  Stuart K. Janikowski ,  Robert V. Fox ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  David L. Miller

IPC分类号： C23C1600

CPC分类号： D06B3/045 ,  B05D1/025 ,  B05D7/52 ,  B05D2256/00 ,  B05D2401/90 ,  C03C25/12 ,  D06B23/16

摘要： The present invention is related to the modifying of substrates with multiple modifying agents in a single continuous system. At least two processing chambers are configured for modifying the substrate in a continuous feed system. The processing chambers can be substantially isolated from one another by interstitial seals. Additionally, the two processing chambers can be substantially isolated from the surrounding atmosphere by end seals. Optionally, expansion chambers can be used to separate the seals from the processing chambers.

摘要翻译： 本发明涉及在单一连续系统中用多种改性剂改性底物。 至少两个处理室被配置用于在连续进料系统中修改基材。 处理室可以通过间隙密封基本上彼此隔离。 此外，两个处理室可以通过端部密封基本上与周围的大气隔离。 可选地，膨胀室可用于将密封件与处理室分离。

公开(公告)号：US06495204B1

公开(公告)日：2002-12-17

申请号：US09671709

申请日：2000-09-27

申请人： Charles A. Allen ,  Mark D. Argyle ,  Robert V. Fox ,  Daniel M. Ginosar ,  Stuart K. Janikowski ,  David L. Miller ,  W. Alan Propp ,  William J. Toth

发明人： Charles A. Allen ,  Mark D. Argyle ,  Robert V. Fox ,  Daniel M. Ginosar ,  Stuart K. Janikowski ,  David L. Miller ,  W. Alan Propp ,  William J. Toth

IPC分类号： B05D700

CPC分类号： D02J1/00 ,  B05D7/20 ,  B05D2401/90 ,  C03C25/22

摘要： The present invention is related to the modifying of substrates such as monofilaments, bundles of monofilaments, and fibrous structural material with a modifying agent. The modifying agent is suspended or dissolved in a supercritical fluid, near-critical fluid, superheated fluid, superheated liquid, or a liquified gas and is deposited by rapidly altering the pressure in a chamber to deposit the modifying material onto the substrate.

摘要翻译： 本发明涉及使用改性剂改性诸如单丝，单丝束和纤维结构材料的基底。 改性剂悬浮或溶解在超临界流体，临界临界流体，过热流体，过热液体或液化气体中，并通过快速改变腔室中的压力沉积到沉积改性材料到基底上而沉积。

公开(公告)号：US06623686B1

公开(公告)日：2003-09-23

申请号：US09677336

申请日：2000-09-28

申请人： Stuart K. Janikowski ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  Mark D. Argyle ,  Robert V. Fox ,  W. Alan Propp ,  David L. Miller

发明人： Stuart K. Janikowski ,  William J. Toth ,  Daniel M. Ginosar ,  Charles A. Allen ,  Mark D. Argyle ,  Robert V. Fox ,  W. Alan Propp ,  David L. Miller

IPC分类号： B05D500

CPC分类号： D06M23/105 ,  B05D1/18 ,  B05D7/20 ,  B05D2252/02 ,  B05D2252/10 ,  B05D2401/90 ,  C03C25/12 ,  C03C25/22

摘要： The present invention is related to systems and methods for modifying various non-equidimensional substrates with modifying agents. The system comprises a processing chamber configured for passing the non-equidimensional substrate therethrough, wherein the processing chamber is further configured to accept a treatment mixture into the chamber during movement of the non-equidimensional substrate through the processing chamber. The treatment mixture can comprise of the modifying agent in a carrier medium, wherein the carrier medium is selected from the group consisting of a supercritical fluid, a near-critical fluid, a superheated fluid, a superheated liquid, and a liquefied gas. Thus, the modifying agent can be applied to the non-equidimensional substrate upon contact between the treatment mixture and the non-equidimensional substrate.

摘要翻译： 本发明涉及用修饰剂修饰各种非等维底物的系统和方法。 该系统包括被配置用于使非等距衬底通过其中的处理腔室，其中处理室还被配置成在非等量衬底通过处理室运动期间接受处理混合物进入腔室。 处理混合物可以在载体介质中包含改性剂，其中载体介质选自超临界流体，近临界流体，过热流体，过热液体和液化气体。 因此，在处理混合物和非等尺寸底物之间接触时，改性剂可以施加到非等维基底上。

公开(公告)号：US07088115B1

公开(公告)日：2006-08-08

申请号：US11015427

申请日：2004-12-16

申请人： David F. Glenn ,  Gretchen E. Matthern ,  W. Alan Propp ,  Anne W. Glenn ,  Peter G. Shaw

发明人： David F. Glenn ,  Gretchen E. Matthern ,  W. Alan Propp ,  Anne W. Glenn ,  Peter G. Shaw

IPC分类号： G01R27/08 ,  G01B5/30

CPC分类号： G01N33/383 ,  G01N27/026

摘要： A method and apparatus for determining spatial locations of defects in a material are described. The method includes providing a plurality of electrodes in contact with a material, applying a sinusoidal voltage to a select number of the electrodes at a predetermined frequency, determining gain and phase angle measurements at other of the electrodes in response to applying the sinusoidal voltage to the select number of electrodes, determining impedance values from the gain and phase angle measurements, computing an impedance spectrum for an area of the material from the determined impedance values, and comparing the computed impedance spectrum with a known impedance spectrum to identify spatial locations of defects in the material.

摘要翻译： 描述了用于确定材料中的缺陷的空间位置的方法和装置。 该方法包括提供与材料接触的多个电极，以预定频率向选定数量的电极施加正弦电压，以响应于将正弦电压施加到电极的另一个电极而确定增益和相位角测量 选择电极数量，根据增益和相位角测量确定阻抗值，根据确定的阻抗值计算材料区域的阻抗谱，并将计算出的阻抗谱与已知阻抗谱进行比较，以识别缺陷的空间位置 材料。