公开(公告)号：US06493865B2

公开(公告)日：2002-12-10

申请号：US09829870

申请日：2001-04-10

申请人： Werner Fischer ,  Burkhard Ludwig ,  Dirk Meyer ,  Jörg Thiele

发明人： Werner Fischer ,  Burkhard Ludwig ,  Dirk Meyer ,  Jörg Thiele

IPC分类号： G06F1750

CPC分类号： G03F1/70

摘要： Masks are produced for the fabrication of semiconductor structures based on layout data that has information for defining a mask layout with individual geometric structure elements. Layout data generated previously for a mask layout is checked to see whether geometric design requirements are satisfied. In the event of a violation of design requirements, the corresponding error locations in the mask layout are located. Further layout data are then generated, which contain information for defining correction figures to correct the respective error locations. The further layout data are linked with the layout data, so that the layout data are modified. This permits automated modification of the layout data and their technology-dependent optimization.

公开(公告)号：US07354683B2

公开(公告)日：2008-04-08

申请号：US10928759

申请日：2004-08-27

申请人： Molela Moukara ,  Burkhard Ludwig ,  Jörg Thiele ,  Marco Ahrens ,  Roderick Köhle ,  Rainer Pforr ,  Nicolo Morgana

发明人： Molela Moukara ,  Burkhard Ludwig ,  Jörg Thiele ,  Marco Ahrens ,  Roderick Köhle ,  Rainer Pforr ,  Nicolo Morgana

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F1/30 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70466

摘要： A lithography mask has an angled structure element (O) formed by a first opaque segment (O1) and by a second opaque segment (O2). The structure element has at least one reflex angle (α). The angled structure element (O) includes at least one convex section (A) facing the reflex angle (α). At least one transparent structure (T) adjacent to the angled structure element (O) is provided at the convex section (A) of the angled structure element (O). The transparent structure (T) is formed in separated fashion at the convex section (A) of the angled structure element (O) and thus comprises two distinguishable transparent segments (T1, T2) formed at least in sections essentially axially symmetrically with respect to the angle bisector (WH) of the reflex angle.

摘要翻译： 光刻掩模具有由第一不透明部分（O 1）和第二不透明部分（O 2）形成的成角度的结构元件（O）。 结构元件具有至少一个反射角（α）。 倾斜结构元件（O）包括面向反射角（α）的至少一个凸部（A）。 与成角度的结构元件（O）相邻的至少一个透明结构（T）设置在倾斜结构元件（O）的凸部（A）处。 透明结构（T）以分开的方式形成在成角度的结构元件（O）的凸部（A）处，并且因此包括两个可区分的透明段（T 1，T 2），其至少形成在主要轴向对称的部分 到角度平分线（WH）的反射角度。

公开(公告)号：US20060190850A1

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：US11348549

申请日：2006-02-07

申请人： Roderick Kohle ,  Burkhard Ludwig ,  Michael Heissmeier ,  Armin Semmler ,  Dirk Meyer ,  Christoph Nolscher ,  Jorg Thiele

发明人： Roderick Kohle ,  Burkhard Ludwig ,  Michael Heissmeier ,  Armin Semmler ,  Dirk Meyer ,  Christoph Nolscher ,  Jorg Thiele

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method for optimizing the geometry of structural elements of a circuit pattern involves providing an overall circuit pattern of the circuit design and a plurality of basic patterns. Subsequently, the circuit pattern of the circuit design is iteratively decomposed into corresponding basic patterns in order to classify those parts of the circuit pattern of the plurality of structural elements wherein there exists a match with the basic pattern. Subsequently, further basic patterns are determined for those parts of the circuit pattern which were not previously classified. After applying a specification for optimizing the geometry of the structural elements, the optimized basic patterns are inserted into the circuit design thus achieving an improvement of the optical imaging properties.

摘要翻译： 用于优化电路图案的结构元件的几何形状的方法包括提供电路设计和多个基本图案的总体电路图案。 随后，将电路设计的电路图案迭代地分解为对应的基本图案，以便对存在与基本图案相匹配的多个结构元件的电路图案的那些部分进行分类。 随后，对于以前未分类的电路图形的那些部分，确定了另外的基本模式。 在应用用于优化结构元件的几何形状的规范之后，将优化的基本图案插入到电路设计中，从而实现光学成像特性的改进。

公开(公告)号：US20090127722A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US11943445

申请日：2007-11-20

申请人： Christoph Noelscher ,  Ulrich Egger ,  Rolf Weis ,  Stephan Wege ,  Burkhard Ludwig

发明人： Christoph Noelscher ,  Ulrich Egger ,  Rolf Weis ,  Stephan Wege ,  Burkhard Ludwig

IPC分类号： H01L23/544 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/0337 ,  B81C1/00111 ,  H01L21/0334 ,  H01L21/31144

摘要： Method for processing at least one spacer structure in a manufacturing process of a semiconductor device, wherein the at least one spacer structure is subjected to at least one etch process step with an isotropic component and the spacer structure comprises at least one point on the surface with a large solid angle opening towards the environment. Method of manufacturing an integrated circuit, including a regional removal of a spacer structure, wherein the removal is determined by a pattern density in the vicinity of the spacer structure.

摘要翻译： 用于在半导体器件的制造工艺中处理至少一个间隔结构的方法，其中所述至少一个间隔结构经受至少一个具有各向同性组分的蚀刻工艺步骤，并且所述间隔物结构包括在所述表面上的至少一个点， 朝向环境开放的大立体角。 制造集成电路的方法，包括间隔结构的局部去除，其中去除由间隔结构附近的图案密度确定。

公开(公告)号：US06660437B2

公开(公告)日：2003-12-09

申请号：US10158733

申请日：2002-05-30

申请人： Christoph Friedrich ,  Uwe Griesinger ,  Michael Heissmeier ,  Burkhard Ludwig ,  Molela Moukara ,  Rainer Pforr

发明人： Christoph Friedrich ,  Uwe Griesinger ,  Michael Heissmeier ,  Burkhard Ludwig ,  Molela Moukara ,  Rainer Pforr

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/30

摘要： An alternating phase mask having a branched structure containing two opaque segments is described. Two transparent surface segments are disposed on both sides of the segments or the components thereof, respectively. The surface segments are provided with phases that are displaced by 180°±&Dgr; &agr;, whereby &Dgr; &agr; a is not more than 25°. The surface segments are separated by at least one transparent surface boundary segment whose phase is situated between the phases of the adjacent surface segments.

摘要翻译： 描述具有包含两个不透明段的分支结构的交替相位掩模。 两个透明表面片分别设置在片段的两侧或其部件上。 表面段设置有被偏移180°±Δα的相位，由此Δaa不大于25°。 表面段由相位位于相邻表面段的相位之间的至少一个透明表面边界段分开。

公开(公告)号：US07759242B2

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：US11843052

申请日：2007-08-22

申请人： Steffen Meyer ,  Rolf Weis ,  Burkhard Ludwig ,  Christoph Noelscher

发明人： Steffen Meyer ,  Rolf Weis ,  Burkhard Ludwig ,  Christoph Noelscher

IPC分类号： H01L21/20

CPC分类号： H01L21/76816 ,  G03F1/00 ,  G03F7/70466 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/76229

摘要： A method of fabricating an integrated circuit, including the steps of forming a first mask layer in the form of a hard mask layer including a plurality of first openings and a second mask layer with at least one second opening which at least partially overlaps with one of the first openings, wherein the at least one second opening is generated lithographically; and at least two neighboring first openings are distanced from each other with a center to center pitch smaller than the resolution limit of the lithography used for generating the second opening.

摘要翻译： 一种制造集成电路的方法，包括以下步骤：形成包括多个第一开口的硬掩模层形式的第一掩模层和具有至少一个第二开口的第二掩模层，所述至少一个第二开口至少部分地与 所述第一开口，其中所述至少一个第二开口是光刻地产生的; 并且至少两个相邻的第一开口彼此间隔开，中心至中心节距小于用于产生第二开口的光刻的分辨率极限。

公开(公告)号：US07665051B2

公开(公告)日：2010-02-16

申请号：US11832465

申请日：2007-08-01

申请人： Burkhard Ludwig ,  Uwe Mueller

发明人： Burkhard Ludwig ,  Uwe Mueller

IPC分类号： G06F17/50 ,  G06F9/45

CPC分类号： G06F17/5081

摘要： A method and a device can be used for checking the layout of an electronic circuit of a semiconductor component. For example, the method includes an automatic classification of cells in at least one layout into a cell database, and an automatic layout checker comparing the cell database to a layout to be checked.

摘要翻译： 可以使用方法和装置来检查半导体部件的电子电路的布局。 例如，该方法包括将至少一个布局中的单元格自动分类为单元数据库，以及将单元数据库与要检查的布局进行比较的自动布局检查器。

公开(公告)号：US20070283306A1

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：US11443478

申请日：2006-05-30

申请人： Matthias Koefferlein ,  Burkhard Ludwig

发明人： Matthias Koefferlein ,  Burkhard Ludwig

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5068

摘要： A layout cell includes layout cell information including information about at least one component, and a layout cell identifier identifying the layout cell. The layout cell identifier includes geometrical information about the layout cell.

摘要翻译： 布局单元包括布局单元信息，包括关于至少一个组件的信息，以及标识布局单元的布局单元标识符。 布局单元标识符包括关于布局单元的几何信息。

公开(公告)号：US06957414B2

公开(公告)日：2005-10-18

申请号：US10352735

申请日：2003-01-27

申请人： Burkhard Ludwig ,  Molela Moukara

发明人： Burkhard Ludwig ,  Molela Moukara

IPC分类号： G03F1/00 ,  G06F17/50 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F1/30

摘要： A method is used to check the direct convertibility of integrated semiconductor circuits into alternating phase masks. This is done by explicitly localizing the phase conflicts occurring in the corresponding layout while solely using the technological requirements made of the design. The set of phase conflicts determined with the aid of this formalism is complete and minimal and thus proves to be an optimum starting point for methods for handling conflicts of this type.

摘要翻译： 一种方法用于检查集成半导体电路直接可转换成交替相位掩模。 这通过明确地定位在相应布局中发生的相位冲突，而仅使用由设计的技术要求。 在这种形式主义的帮助下确定的一系列相位冲突是完整和最小的，因此被证明是处理这种冲突的方法的最佳起点。

公开(公告)号：US06834377B2

公开(公告)日：2004-12-21

申请号：US10368334

申请日：2003-02-18

申请人： Peter Baader ,  Burkhard Ludwig

发明人： Peter Baader ,  Burkhard Ludwig

IPC分类号： G06F1750

CPC分类号： G06F8/44 ,  G06F17/5081

摘要： A layout of an integrated electrical circuit on a memory unit of a computer system includes one or more instantiations of at least one circuit network description as well as information about the instantiations. A raw data structure represents the logical configuration of the layout and associates each instantiation with one, and only one, polygon data structure. A modified data structure is produced to represent the layout, which associates a circuit network description with one, and only one, polygon data structure, wherein the geometrical differences between the instantiations of this circuit network description are taken into account by variants in the polygon data structure.

摘要翻译： 在计算机系统的存储器单元上的集成电路的布局包括至少一个电路网络描述的一个或多个实例以及关于该实例的信息。 原始数据结构表示布局的逻辑配置，并将每个实例化与一个且仅一个多边形数据结构相关联。 生成修改的数据结构以表示布局，其将电路网络描述与一个且仅一个多边形数据结构相关联，其中通过多边形数据中的变体来考虑该电路网络描述的实例之间的几何差异 结构体。