公开(公告)号：US08057983B2

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：US12425942

申请日：2009-04-17

申请人： Yusuke Fuji ,  Junji Shigematsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Nobuo Ando ,  Ichiki Takemoto

发明人： Yusuke Fuji ,  Junji Shigematsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Nobuo Ando ,  Ichiki Takemoto

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising: a resin (A) which contains no fluorine atom and a structural unit (a1) having an acid-labile group in a side chain, a resin (B) which contains a structural unit (b2) having a fluorine-containing group in a side chain and at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit (b1) having an acid-labile group, a structural unit (b3) having a hydroxyl group and a structural unit (b4) having a lactone structure in a side chain, and an acid generator, wherein the amount of the resin (B) is 2 parts by weight or less per 100 parts by weight of the resin (A).

摘要翻译： 本发明提供了一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含：不含氟原子的树脂（A）和侧链具有酸不稳定基团的结构单元（a1），含有结构单元的树脂（B） b2）和具有酸不稳定基团的结构单元（b1），具有羟基的结构单元（b3）和结构单元（b3）的至少一种结构单元，在侧链中具有含氟基团， 在侧链中具有内酯结构的单元（b4）和酸产生剂，其中树脂（B）的量相对于树脂（A）每100重量份为2重量份以下。

公开(公告)号：US08062830B2

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：US12425759

申请日：2009-04-17

申请人： Yusuke Fuji ,  Junji Shigematsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Nobuo Ando ,  Ichiki Takemoto

发明人： Yusuke Fuji ,  Junji Shigematsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Nobuo Ando ,  Ichiki Takemoto

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising: a resin (A) which contains no fluorine atom and a structural unit (a1) having an acid-labile group in a side chain, a resin (B) which contains a structural unit (b2) having a fluorine-containing group in a side chain and at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit (b1) having an acid-labile group, a structural unit (b3) having a hydroxyl group and a structural unit (b4) having a lactone structure in a side chain, and an acid generator, wherein the content of the structural unit (b1) based on the total units of the resin (B) is less than 10 mol %.

摘要翻译： 本发明提供了一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含：不含氟原子的树脂（A）和侧链具有酸不稳定基团的结构单元（a1），含有结构单元的树脂（B） b2）和具有酸不稳定基团的结构单元（b1），具有羟基的结构单元（b3）和结构单元（b3）的至少一种结构单元，在侧链中具有含氟基团， 在侧链中具有内酯结构的单元（b4）和酸产生剂，其中基于树脂（B）的总单元的结构单元（b1）的含量小于10摩尔％。

公开(公告)号：US20090269695A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12425942

申请日：2009-04-17

申请人： Yusuke Fuji ,  Junji Shigematsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Nobuo Ando ,  Ichiki Takemoto

发明人： Yusuke Fuji ,  Junji Shigematsu ,  Takayuki Miyagawa ,  Nobuo Ando ,  Ichiki Takemoto

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising: a resin (A) which contains no fluorine atom and a structural unit (a1) having an acid-labile group in a side chain, a resin (B) which contains a structural unit (b2) having a fluorine-containing group in a side chain and at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit (b1) having an acid-labile group, a structural unit (b3) having a hydroxyl group and a structural unit (b4) having a lactone structure in a side chain, and an acid generator, wherein the amount of the resin (B) is 2 parts by weight or less per 100 parts by weight of the resin (A).

摘要翻译： 本发明提供了一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含：不含氟原子的树脂（A）和侧链具有酸不稳定基团的结构单元（a1），含有结构单元的树脂（B） b2）和具有酸不稳定基团的结构单元（b1），具有羟基的结构单元（b3）和结构单元（b3）的至少一种结构单元，在侧链中具有含氟基团， 在侧链中具有内酯结构的单元（b4）和酸产生剂，其中树脂（B）的量相对于树脂（A）每100重量份为2重量份以下。

公开(公告)号：US20080248417A1

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：US11976197

申请日：2007-10-22

申请人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando ,  Junji Shigematsu

发明人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando ,  Junji Shigematsu

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C39/12

CPC分类号： C07C39/15 ,  C07C67/31 ,  C07C69/712 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides a polyhydric phenol compound represented by the formula (I): wherein at least one selected from R1, R2, R3, R4, and R5 is a group represented by the formula (II): wherein X1, X2, X3 and X4 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, n represents an integer of 0 to 3, Z1 represents a C1-C6 alkyl group or a C3-C12 cycloalkyl group, and ring Y represents an alicyclic hydrocarbon group, and the others are hydrogen atoms, and a chemically amplified resist composition containing the same.

摘要翻译： 本发明提供由式（I）表示的多元酚化合物：其中选自R 1，R 2，R 3，O， >，R 4，R 5和R 5是由式（II）表示的基团：其中X 1，X 2， X 3，X 3和X 4各自独立地表示氢原子或C 1 -C 4烷基，n表示0〜3的整数，Z < 1表示C1-C6烷基或C3-C12环烷基，Y表示脂环族烃基，其余为氢原子，含有该烷氧基的化学放大型抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07494763B2

公开(公告)日：2009-02-24

申请号：US11976197

申请日：2007-10-22

申请人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando ,  Junji Shigematsu

发明人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando ,  Junji Shigematsu

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/74

CPC分类号： C07C39/15 ,  C07C67/31 ,  C07C69/712 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides a polyhydric phenol compound represented by the formula (I): wherein at least one selected from R1, R2, R3, R4, and R5 is a group represented by the formula (II): wherein X1, X2, X3 and X4 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, n represents an integer of 0 to 3, Z1 represents a C1-C6 alkyl group or a C3-C12 cycloalkyl group, and ring Y represents an alicyclic hydrocarbon group, and the others are hydrogen atoms, and a chemically amplified resist composition containing the same.

摘要翻译： 本发明提供由式（I）表示的多元酚化合物：其中，选自R 1，R 2，R 3，R 4和R 5中的至少一种为式（II）表示的基团：其中X 1，X 2，X 3和 X4各自独立地表示氢原子或C1-C4烷基，n表示0〜3的整数，Z1表示C1-C6烷基或C3-C12环烷基，Y表示脂环族烃基， 其他的是氢原子，和含有它们的化学放大抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07794914B2

公开(公告)日：2010-09-14

申请号：US11705138

申请日：2007-02-12

申请人： Nobuo Ando ,  Yusuke Fuji ,  Ichiki Takemoto

发明人： Nobuo Ando ,  Yusuke Fuji ,  Ichiki Takemoto

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising: a resin (A) which contains no fluorine atom and a structural unit (a1) having an acid-labile group, a resin (B) which contains a structural unit (b2) having a fluorine-containing group and at least one structural unit selected from a structural unit (b1) having an acid-labile group, a structural unit (b3) having a hydroxyl group and a structural unit (b4) having a lactone structure, and an acid generator.

摘要翻译： 本发明提供一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含：不含氟原子的树脂（A）和具有酸不稳定基团的结构单元（a1），含有结构单元（b2）的树脂（B）具有 氟系基团和选自具有酸不稳定基团的结构单元（b1），具有羟基的结构单元（b3）和具有内酯结构的结构单元（b4）的至少一种结构单元和酸 发电机。

公开(公告)号：US20070218401A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：US11705138

申请日：2007-02-12

申请人： Nobuo Ando ,  Yusuke Fuji ,  Ichiki Takemoto

发明人： Nobuo Ando ,  Yusuke Fuji ,  Ichiki Takemoto

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising: a resin (A) which contains no fluorine atom and a structural unit (a1) having an acid-labile group, a resin (B) which contains a structural unit (b2) having a fluorine-containing group and at least one structural unit selected from a structural unit (b1) having an acid-labile group, a structural unit (b3) having a hydroxyl group and a structural unit (b4) having a lactone structure, and an acid generator.

摘要翻译： 本发明提供一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含：不含氟原子的树脂（A）和具有酸不稳定基团的结构单元（a1），含有结构单元（b2）的树脂（B）具有 氟系基团和选自具有酸不稳定基团的结构单元（b1），具有羟基的结构单元（b3）和具有内酯结构的结构单元（b4）的至少一种结构单元和酸 发电机。

公开(公告)号：US08476473B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US12552085

申请日：2009-09-01

申请人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando ,  Mitsuhiro Hata

发明人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando ,  Mitsuhiro Hata

IPC分类号： C07C69/63 ,  C07C69/74

CPC分类号： C07C67/08 ,  C07C67/11 ,  C07C69/63 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

摘要： A compounds represented by the Formula (I) or the Formula (I′). wherein Z1 and Z2 independently represent a hydrogen atom, a C1 to C12 alkyl group or a C3 to C12 cyclic saturated hydrocarbon group, provided that at least one of Z1 and Z2 represent a C1 to C12 alkyl group or a C3 to C12 cyclic saturated hydrocarbon group; rings Y1 and Y2 independently represents an optionally substituted C3 to C20 alicyclic hydrocarbon group; Q1 to Q4 and Q′1 to Q′4 independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; and m and n independently represent an integer of 0 to 5.

摘要翻译： 由式（I）或式（I'）表示的化合物。 其中Z 1和Z 2独立地表示氢原子，C 1至C 12烷基或C 3至C 12环状饱和烃基，条件是Z 1和Z 2中的至少一个表示C 1至C 12烷基或C 3至C 12环状饱和烃 组; 环Y1和Y2独立地表示任选取代的C 3至C 20脂环族烃基; Q1至Q4和Q'1至Q'4独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基; m和n独立地表示0〜5的整数。

公开(公告)号：US20100151379A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12631061

申请日：2009-12-04

申请人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando

发明人： Ichiki Takemoto ,  Nobuo Ando

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D311/96 ,  C07D311/02

CPC分类号： C07D311/02 ,  C07D311/96 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： The present invention provides a compound represented by the formula (I): wherein P1, P2, P3, P4 and P5 each independently represents a hydrogen atom etc., and at least one selected from the group consisting of R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 is the group represented by the formula (II): wherein X1 and X2 each independently represent a hydrogen atom etc., n represents an integer of 1 to 4, Z1 represents a C1-C6 alkyl group etc., and ring Y represents an alicyclic hydrocarbon group, and the others each independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group or a hydroxyl group, and a chemically amplified resist composition containing the same.

摘要翻译： 本发明提供由式（I）表示的化合物：其中P1，P2，P3，P4和P5各自独立地表示氢原子等，以及选自由R1，R2，R3，R4 ，R 5，R 6，R 7，R 8和R 9为由式（II）表示的基团：其中X 1和X 2各自独立地表示氢原子等，n表示1至4的整数，Z 1表示C 1 -C 6烷基 基团等，环Y表示脂环烃基，其余各自独立地表示氢原子，C1-C6烷基或羟基，以及含有该烷氧基的化学放大抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20100055609A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：US12552085

申请日：2009-09-01

申请人： Ichiki TAKEMOTO ,  Nobuo Ando ,  Mitsuhiro Hata

发明人： Ichiki TAKEMOTO ,  Nobuo Ando ,  Mitsuhiro Hata

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/63

CPC分类号： C07C67/08 ,  C07C67/11 ,  C07C69/63 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

摘要： A compounds represented by the Formula (I) or the Formula (I′). wherein Z1 and Z2 independently represent a hydrogen atom, a C1 to C12 alkyl group or a C3 to C12 cyclic saturated hydrocarbon group, provided that at least one of Z1 and Z2 represent a C1 to C12 alkyl group or a C3 to C12 cyclic saturated hydrocarbon group; rings Y1 and Y2 independently represents an optionally substituted C3 to C20 alicyclic hydrocarbon group; Q1 to Q4 and Q′1 to Q′4 independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; and m and n independently represent an integer of 0 to 5.

摘要翻译： 由式（I）或式（I'）表示的化合物。 其中Z 1和Z 2独立地表示氢原子，C 1至C 12烷基或C 3至C 12环状饱和烃基，条件是Z 1和Z 2中的至少一个表示C 1至C 12烷基或C 3至C 12环状饱和烃 组; 环Y1和Y2独立地表示任选取代的C 3至C 20脂环族烃基; Q1至Q4和Q'1至Q'4独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基; m和n独立地表示0〜5的整数。