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    POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    2.
    发明申请
    POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权
    正极光敏组合物和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20110136062A1

    公开(公告)日：2011-06-09

    申请号：US13059441

    申请日：2009-09-29

    申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Akinori Shibuya ,  Takayuki Kato

    发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Akinori Shibuya ,  Takayuki Kato

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： C08F20/28 ,  C08F20/26 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive photosensitive composition, includes: (A) a resin having a repeating unit represented by formula (1) as defined in the specification and a repeating unit represented by formula (2) as defined in the specification and being capable of increasing a solubility of the resin (A) in an alkali developer by an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and a solvent, and a pattern forming method uses the positive photosensitive composition.

    摘要翻译： 正型感光性组合物包括：（A）具有本说明书中定义的式（1）表示的重复单元的树脂和由说明书中定义的式（2）表示的重复单元，并且能够提高 通过酸的作用在碱性显影剂中的树脂（A）; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 和溶剂，并且图案形成方法使用正性感光性组合物。

    ACTINIC-RAY-OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH
    6.
    发明申请
    ACTINIC-RAY-OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH 审中-公开
    抗紫外线或辐射敏感性树脂组合物及其形成方法

    公开(公告)号：US20130130178A1

    公开(公告)日：2013-05-23

    申请号：US13807623

    申请日：2011-08-26

    申请人： Yusuke Iizuka ,  Akinori Shibuya

    发明人： Yusuke Iizuka ,  Akinori Shibuya

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/004 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08L25/18 ,  C09D133/062 ,  C09D133/16 ,  C09D143/04 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

    摘要： Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a resin (B) containing at least either a fluorine atom or a silicon atom, the resin (B) containing any of repeating units of general formulae (I-1) and (I-2) below: Wherein each of R1s independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom, X1 represents a bivalent organic group, X2 represents a single bond or a bivalent organic group, each of Ar1s independently represents a monovalent aromatic ring group, Ar2 represents a bivalent aromatic ring group, and each of L's independently represents a single bond or a bivalent organic group.

    摘要翻译： 本发明提供包含含有至少含有氟原子或硅原子的树脂（B）的光化射线或辐射敏感性树脂组合物，所述树脂（B）含有通式（I-1）和 （I-2）：其中R1各自独立地表示氢原子，烷基或卤素原子，X1表示二价有机基团，X2表示单键或二价有机基团，Ar1各自独立地表示一价 芳环基团，Ar 2表示二价芳环基团，L 1各自独立地表示单键或二价有机基团。

    ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    7.
    发明申请
    ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
    化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀性膜和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20120164573A1

    公开(公告)日：2012-06-28

    申请号：US13323179

    申请日：2011-12-12

    申请人： Naohiro Tango ,  Yusuke Iizuka ,  Akinori Shibuya ,  Shuhei Yamaguchi ,  Shohei Kataoka

    发明人： Naohiro Tango ,  Yusuke Iizuka ,  Akinori Shibuya ,  Shuhei Yamaguchi ,  Shohei Kataoka

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

    摘要： An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern having excellent critical dimension uniformity (CDU) in the line width, and a pattern forming method using the same are provided.The actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the present invention includes (A) a resin containing a repeating unit having a specific lactone structure and a repeating unit having a specific monocyclic alicyclic structure, which increases a solubility in an alkaline developer by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure, which generates an acid upon irradiation with an actinic-ray or a radiation.

    摘要翻译： 提供能够形成在线宽度上具有优异临界尺寸均匀性（CDU）的图案的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法。 本发明的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包括（A）含有具有特定内酯结构的重复单元的树脂和具有特定单环脂肪结构的重复单元，其增加了在碱性显影剂中的溶解度 通过酸的作用，和（B）具有特定结构的化合物，其在用光化射线或辐射照射时产生酸。