公开(公告)号：US07229752B2

公开(公告)日：2007-06-12

申请号：US11194547

申请日：2005-08-02

申请人： Koji Kuwano ,  Takayuki Sasaki

发明人： Koji Kuwano ,  Takayuki Sasaki

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C1/76 ,  G03C1/85

CPC分类号： G03C1/49872 ,  G03C1/485 ,  G03C1/498 ,  G03C1/49845 ,  G03C1/49881 ,  G03C2001/7635 ,  G03C2001/7952 ,  G03C2200/09 ,  G03C2200/50

摘要： A photothermographic imaging material containing a support having thereon: (i) a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains, light-insensitive organic silver salt grains, a binder, and a reducing agent for silver ions; and (ii) one or more non-photosensitive layers, wherein a powder compound which is preliminarily dried at a lower temperature than a temperature used for thermal development is incorporated in the photosensitive layer or in the non-photosensitive layer.

摘要翻译： 含有其上的载体的光热成像材料：（i）含有感光卤化银颗粒，不透光有机银盐颗粒，粘合剂和银离子还原剂的感光层; 和（ii）一个或多个非感光层，其中在比用于热显影的温度低的温度下预先干燥的粉末化合物被并入感光层或非光敏层中。

公开(公告)号：US07172855B2

公开(公告)日：2007-02-06

申请号：US10941936

申请日：2004-09-16

申请人： Shoji Yasuda ,  Yoshihisa Tsukada

发明人： Shoji Yasuda ,  Yoshihisa Tsukada

IPC分类号： G03C1/46 ,  G03C1/76 ,  G03C1/005 ,  G03C1/494 ,  G03C1/85

CPC分类号： G03C1/385 ,  G03C1/043 ,  G03C1/38 ,  G03C1/795 ,  G03C1/7954 ,  G03C3/00

摘要： Disclosed is a silver halide photographic light-sensitive material having a layer containing a compound of the following formula and a fluorine compound, and has a gamma of 5.0 or more for the optical density range of 0.3 to 3.0: wherein R1 is alkyl or alkenyl, R2 are H, alkyl, alkenyl, aralkyl or aryl, l1 is 1–10, m1 is 1–30, n1 is 0–4, a is 0 or 1, and Z1 is OSO3M or SO3M where M is cation.

摘要翻译： 公开了具有含有下式化合物和氟化合物的层的卤化银照相感光材料，其光密度范围为0.3〜3.0的γ为5.0以上，其中R 1， R 2是烷基或链烯基，R 2是H，烷基，链烯基，芳烷基或芳基，L 1是1-10，m -1 >为1-30，n <1>为0-4，a为0或1，Z 1为OSO 3 M或SO 3， 其中M是阳离子。

公开(公告)号：US07157220B2

公开(公告)日：2007-01-02

申请号：US11072513

申请日：2005-03-07

申请人： Seiichi Yamamoto ,  Masahiko Taniguchi ,  Yasuhiro Yoshioka ,  Takanori Hioki ,  Hideo Hanawa

发明人： Seiichi Yamamoto ,  Masahiko Taniguchi ,  Yasuhiro Yoshioka ,  Takanori Hioki ,  Hideo Hanawa

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C1/76 ,  G03C1/85 ,  G03C1/08 ,  G03C7/26

CPC分类号： G03C1/833 ,  G03C1/49854

摘要： The present invention provides a silver halide photosensitive material and a photothermographic material having, on at least one side of a support, at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, and a reducing agent for the organic silver salt, wherein the silver halide photosensitive material and the photothermographic material contain a phthalocyanine compound represented by the following formula (PC-1): wherein, M represents a hydrogen atom or a metal atom; R1, R4, R5, R8, R9, R12, R13, and R16 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; at least one of R1, R4, R5, R8, R9, R12, R13, and R16 represents an electron-attracting group; and R2, R3, R6, R7, R10, R11, R14, and R15 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.

摘要翻译： 本发明提供一种卤化银感光材料和光热敏成像材料，其至少在载体的一侧至少含有感光卤化银，非感光性有机银盐和有机银盐的还原剂，其中 卤化银感光材料和光热敏成像材料含有由下式（PC-1）表示的酞菁化合物：其中，M表示氢原子或金属原子; R 1，R 4，R 5，R 8，R 9， R 12，R 13和R 16各自独立地表示氢原子或取代基; R 1，R 4，R 5，R 8，R 9，R 9， R 12，R 12，R 16和R 16表示吸电子基团; 和R 2，R 3，R 6，R 7，R 10， R 11，R 14和R 15各自独立地表示氢原子或取代基。

公开(公告)号：US07105285B2

公开(公告)日：2006-09-12

申请号：US10947196

申请日：2004-09-23

申请人： Toshitaka Ninomiya ,  Kiyoshi Morimoto ,  Koichi Yokota ,  Masahiko Taniguchi ,  Terukazu Yanagi

发明人： Toshitaka Ninomiya ,  Kiyoshi Morimoto ,  Koichi Yokota ,  Masahiko Taniguchi ,  Terukazu Yanagi

IPC分类号： G03C1/815 ,  G03C1/825 ,  G03C1/85 ,  G03C1/46 ,  G03C3/02

CPC分类号： G03C1/815 ,  G03C1/10 ,  G03C1/385 ,  G03C7/3041 ,  G03C2200/24

摘要： A silver halide color photosensitive material comprises a blue-sensitive layer, a green-sensitive layer, a red-sensitive layer and a non-light-sensitive layer on a support. The silver halide color photosensitive material contains a compound selected from the following type 1 and type 2 compounds, and wherein the blue-sensitive layer meets the relationship of the following formula (I): SB(370 nm)/SB(420 nm)

摘要翻译： 卤化银色感光材料在载体上包含蓝色敏感层，感光层，红色敏感层和非感光层。 卤化银色感光材料含有选自以下1型和2型化合物的化合物，其中蓝色感光层满足下式（I）的关系：<？in-line-formula description =“In- （370nm）/ S B（420nm）<0.7（I）<β在线公式描述中 其中S B（λ）表示波长为λ的光谱灵敏度，（类型1）能够经历单电子的化合物 从而形成其单电子氧化产物，其中单电子氧化产物能够进一步释放伴随随后的键断裂反应的一种或多种电子，和（类型2）能够进行单电子氧化的化合物 从而形成其单电子氧化产物，其中单电子氧化产物能够进一步释放一个或多个伴随着电子的电子 喹啉键形成反应。

公开(公告)号：US20050142505A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：US11017971

申请日：2004-12-22

申请人： Terukazu Yanagi ,  Katsuhiko Kanazawa

发明人： Terukazu Yanagi ,  Katsuhiko Kanazawa

IPC分类号： G03C1/85 ,  G03C1/005 ,  G03C1/38 ,  G03C1/494

CPC分类号： G03C1/385

摘要： A silver halide photographic light-sensitive material and an aqueous coating composition, each containing at least one compound represented by formula (1): in which, in formula (1), A1 and A2 each independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom, x and y each independently represent an integer of from 1 to 6, L1 and L2 each independently represent —CH2— or —CH2OCH2—, z represents the number of from 1 to 60, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R3, R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxymethyl group.

摘要翻译： 一种卤化银摄影感光材料和一种水性涂料组合物，每种含有至少一种由式（1）表示的化合物：其中，在式（1）中，A 1和A 2， 2个各自独立地表示氢原子或氟原子，x和y各自独立地表示1〜6的整数，L 1和L 2各自 独立地表示-CH 2 - 或-CH 2 OCH 2 - ，z表示1〜60的数，R 1 R 2和R 2各自独立地表示氢原子或取代基，R 3，R 4，R 5， R 6和R 6各自独立地表示氢原子，甲基或羟甲基。

公开(公告)号：US06897013B2

公开(公告)日：2005-05-24

申请号：US10386556

申请日：2003-03-13

申请人： Terukazu Yanagi ,  Yoshihisa Tsukada ,  Kouichi Yokota ,  Shinichi Ichikawa ,  Katsuhiko Kanazawa

发明人： Terukazu Yanagi ,  Yoshihisa Tsukada ,  Kouichi Yokota ,  Shinichi Ichikawa ,  Katsuhiko Kanazawa

IPC分类号： G03C1/38 ,  G03C1/89 ,  G03C1/85

CPC分类号： G03C1/895 ,  G03C1/385

摘要： A silver halide photographic light-sensitive material having one or more layers including at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, wherein any of the layers formed on the support contains a compound represented by the following formula (1) and a fluorine-containing surfactant (in the formula (1), R1 represents an alkyl group or alkenyl group having 6-25 carbon atoms, ml represents an integer of 0-30, n1 represents an integer of 0-4, a represents 0 or 1, and Z1 represents OSO3M or SO3M, where M represents a cation). There is provided a silver halide photographic light-sensitive material that shows superior antistatic property and can be stably produced.

摘要翻译： 一种卤化银照相感光材料，其具有一个或多个层，其在载体上包括至少一种感光卤化银乳剂层，其中形成在载体上的任何层包含由下式（1）表示的化合物和 含氟表面活性剂（式（1）中，R 1表示碳原子数为6〜25的烷基或烯基，m表示0〜30的整数，n < / SUP>表示0-4的整数，a表示0或1，Z 1表示OSO 3 M或SO 3 M， 其中M表示阳离子）。 提供了具有优异的抗静电性能并且可以稳定地生产的卤化银照相感光材料。

公开(公告)号：US20050100820A1

公开(公告)日：2005-05-12

申请号：US10969236

申请日：2004-10-21

申请人： Masayuki Satake ,  Hideo Abe

发明人： Masayuki Satake ,  Hideo Abe

IPC分类号： G02B5/30 ,  B32B27/00 ,  B32B27/06 ,  C09J7/02 ,  C09J133/00 ,  G02B1/10 ,  G03C1/85

CPC分类号： G02B1/14 ,  G02B1/105 ,  G02B1/16 ,  G02F2201/50 ,  H01J2211/446

摘要： Provided is a surface protective film capable of effectively suppressing formation of a scratch or a recess on an optical film and formation of an indentation on a pressure-sensitive adhesive layer while in transportation or storage even in a case where foreign matters intrudes into between layers of stacked optical films, which is “a roll product” or a punched product”. Furthermore, provided are an optical film to which the surface protective film is adhered and an image display. A surface protective film is of a structure in which a foreign matter absorbing layer is provided on one surface of a base film.

摘要翻译： 提供一种表面保护膜，其能够有效地抑制光学膜上的划痕或凹部的形成，并且即使在异物侵入到层间的情况下也能够在运送或保存时在压敏粘合剂层上形成压痕 作为“卷制品”或“冲孔制品”的叠层光学膜，另外还提供了粘合有表面保护膜的光学膜和图像显示器，表面保护膜具有这样的结构，其中异物 吸收层设置在基膜的一个表面上。

公开(公告)号：US20050082535A1

公开(公告)日：2005-04-21

申请号：US10926719

申请日：2004-08-26

申请人： Min-Wook Park ,  Sang-Jin Jeon ,  Jung-Joon Park ,  Jeong-Young Lee ,  Bum-Ki Baek ,  Se-Hwan Yu ,  Sang-Ki Kwak ,  Han-Ju Lee ,  Kwon-Young Choi

发明人： Min-Wook Park ,  Sang-Jin Jeon ,  Jung-Joon Park ,  Jeong-Young Lee ,  Bum-Ki Baek ,  Se-Hwan Yu ,  Sang-Ki Kwak ,  Han-Ju Lee ,  Kwon-Young Choi

IPC分类号： G02F1/136 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1368 ,  G03C1/85 ,  G03C5/00 ,  G09F9/30 ,  H01L21/00 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F1/1339

摘要： A method of manufacturing a thin film transistor array panel is provided, which includes: forming a gate line on a substrate; depositing a gate insulating layer and a semiconductor layer in sequence on the gate line; depositing a lower conductive film and an upper conductive film on the semiconductor layer; photo-etching the upper conductive film, the lower conductive film, and the semiconductor layer; depositing a passivation layer; photo-etching the passivation layer to expose first and second portions of the upper conductive film; removing the first and the second portions of the upper conductive film to expose first and second portions of the lower conductive film; forming a pixel electrode and a pair of redundant electrodes on the first and the second portions of the lower conductive film, respectively, the redundant electrodes exposing a part of the second portion of the lower conductive film; removing the exposed part of the second portion of the lower conductive film to expose a portion of the semiconductor layer; and forming a columnar spacer on the exposed portion of the semiconductor layer.

摘要翻译： 提供一种制造薄膜晶体管阵列面板的方法，包括：在基板上形成栅极线; 在栅极线上依次沉积栅极绝缘层和半导体层; 在半导体层上沉积下导电膜和上导电膜; 对上导电膜，下导电膜和半导体层进行光蚀刻; 沉积钝化层; 对所述钝化层进行光蚀刻以暴露所述上导电膜的第一和第二部分; 去除上导电膜的第一和第二部分以暴露下导电膜的第一和第二部分; 在下导电膜的第一和第二部分上形成像素电极和一对冗余电极，所述冗余电极暴露下导电膜的第二部分的一部分; 去除下导电膜的第二部分的暴露部分以暴露半导体层的一部分; 以及在半导体层的暴露部分上形成柱状间隔物。

公开(公告)号：US20050064152A1

公开(公告)日：2005-03-24

申请号：US10668386

申请日：2003-09-23

申请人： Peter Aylward ,  Debasis Majumdar ,  Robert Daly ,  Kelly Robinson ,  Barry Fitzgerald ,  Paul Christian

发明人： Peter Aylward ,  Debasis Majumdar ,  Robert Daly ,  Kelly Robinson ,  Barry Fitzgerald ,  Paul Christian

IPC分类号： B32B27/00 ,  B41M3/00 ,  C09D5/24 ,  G03C1/79 ,  G03C1/85 ,  G03C1/89 ,  G03F7/00 ,  G03G7/00

CPC分类号： C09D5/24 ,  B41M3/006 ,  G03C1/79 ,  G03C1/89 ,  G03F7/002 ,  G03G7/0053 ,  G03G7/008 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24934 ,  Y10T428/31855

摘要： The present invention relates to an antistatic article comprising a substrate or support having thereon at least one antistatic layer, wherein the antistatic layer comprises a conductive material having areas of patterned coverage.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗静电制品，其包括其上具有至少一个抗静电层的基底或载体，其中所述抗静电层包括具有图案化覆盖区域的导电材料。

公开(公告)号：US6120907A

公开(公告)日：2000-09-19

申请号：US177505

申请日：1998-10-23

申请人： Jean-Pierre Tahon ,  Bart Verlinden ,  Leo Vermeulen ,  Herman Van Gorp

发明人： Jean-Pierre Tahon ,  Bart Verlinden ,  Leo Vermeulen ,  Herman Van Gorp

IPC分类号： G06K19/06 ,  B32B17/10 ,  B32B27/32 ,  B32B27/36 ,  G02B1/11 ,  G02F1/1333 ,  G03C1/76 ,  G03C1/795 ,  G03C1/85 ,  G03C1/91 ,  G06K19/02 ,  G06K19/04 ,  G11B7/24 ,  H01L23/00 ,  H01L23/498 ,  H01L23/58 ,  H01L51/52 ,  B32B3/00

CPC分类号： B42D25/47 ,  B32B17/10018 ,  B32B17/10165 ,  B32B17/10174 ,  B32B17/1033 ,  B32B17/10981 ,  B32B27/32 ,  B32B27/36 ,  B42D25/373 ,  G02B1/116 ,  G02F1/1333 ,  G03C1/795 ,  G06K19/02 ,  G06K19/041 ,  G06K19/06009 ,  H01L23/49855 ,  H01L23/562 ,  H01L23/564 ,  H01L23/573 ,  H01L23/585 ,  B42D2033/32 ,  G02F1/133305 ,  G02F2001/133302 ,  G03C1/7614 ,  G03C1/7954 ,  G03C1/853 ,  G03C1/91 ,  H01L27/02 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  Y10S428/913 ,  Y10S430/146

摘要： According to the present invention a data card is provided which comprises a heat-mode laser recording medium on a support and wherein said laser recorder medium is covered by a thin flexible glass layer. The data card has a higher mechanical strength, an improved shelf-life and offers better security with regard to counterfeiting. The heat-mode laser recording medium is preferably a metal layer of which the optical reflectivity or density can be changed by laser exposure. The glass layer is preferably a borosilicate glass having a thickness less than 850 .mu.m.

摘要翻译： 根据本发明，提供一种数据卡，其包括在支撑体上的热模式激光记录介质，并且其中所述激光记录介质被薄柔性玻璃层覆盖。 数据卡具有较高的机械强度，改善了保质期，并且在假冒方面提供了更好的安全性。 热模式激光记录介质优选是通过激光曝光可以改变光学反射率或密度的金属层。 玻璃层优选为厚度小于850μm的硼硅酸盐玻璃。