Abstract:
Die Erfindung bezieht sich auf ein telezentrisches Mikroskopsystem mit einem Objektiv, einem dem Objektiv nachgeordneten afokalen Vergrößerungssystem mit kontinuierlicher variabler Vergrößerung, dessen Eintrittspupille (EP) im bildseitigen Brennpunkt des Objektivs liegt, und einem dem Vergrößerungssystem nachgeordneten Tubussystem. Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf ein afokales Vergrößerungssystem mit variabler Vergrößerung für telezentrische Mikroskopsysteme. Erfindungsgemäß ist das Vergrößerungssystem als afokales Vergrößerungssystem mit negativer Fernrohrvergrößerung ausgebildet, die Austrittspupille (AP) ist reell nach der letzten beweglichen Linsengruppe, und im Bereich zwischen der Eintrittspupille (EP) und der Austrittspupille (AP) ist ein Zwischenbild (ZB) ausgebildet, das bei Änderung der Vergrößerung seine Lage ändert.
Abstract:
Die Erfindung betrifft Objektiv (4) und ein Verfahren zur Planung dieses Objektivs (4) für eine Dentalkamera (1), wobei das Objektiv (4) mindestens zwei Linsen (9, 10, 20, 21) umfasst, wobei die Dentalkamera (1) eine Lichtquelle (3) und einen Bildsensor (7) umfasst, wobei ein von der Lichtquelle (3) ausgestrahlter Beleuchtungsstrahl (11) durch das Objektiv (4) fokussiert wird, auf einem zu vermessenden Messobjekt (8) abgebildet wird und als ein Beobachtungsstrahl (12) vom Messobjekt (8) zurückgestrahlt wird, wobei der Beobachtungsstrahl (12) das Objektiv (4) durchstrahlt und auf den Bildsensor (7) gelenkt wird, wobei der Beleuchtungsstrahl (11) teilweise von Oberflächen (9', 9', 9'', 10', 10", 20', 20", 21', 21") der Linsen (9, 10, 20, 21) als Reflektionsstrahlen (17.1 bis 17.8) reflektiert wird. Das Objektiv (4) weist Mittel (27) auf, um jede der Linsen (9, 10, 20, 21) zum Beleuchtungsstrahl (11) so zu verkippen, dass eine optische Achse (9'", 10'", 15.1, 15.2) jeder Linse (9, 10, 20, 21) zum Beleuchtungsstrahl (11) einen Verkippungswinkel (α) bildet, der so groß wählbar ist, dass die Reflektionsstrahlen (17.1 bis 17.8) in eine Richtung außerhalb einer Pupille des Beobachtungsstrahls (12) reflektierbar sind.
Abstract:
A telecentricity corrector is incorporated into a microlithographic projection system to achieve telecentricity targets at the output of the microlithographic projection system. The telecentricity corrector is located between an illuminator and a projection lens of the projection system, preferably just in advance of a reticle for controlling angular distributions of light illuminating the reticle.
Abstract:
A catoptric, wide-angle optical system includes at least three mirrors. Only the last mirror on the beam path (22) has a positive optical power and all other mirrors have negative optical power. The sum of the optical powers of the mirrors is zero. An external posterior aperture stop (35) is located on the beam path (22) between the last mirror and the image plane (24). The back focal length of the optical system (20) is equal to or greater than an effective focal length of the optical system (20). The field of view is large, and typically at least 30-40 degrees in one plane.
Abstract:
An objective lens optical system for an endoscope is disclosed. The system comprises a front and a rear optical sub-system and an aperture stop therebetween. The rear optical sub-system comprises a compound achromatic component and a rear positive lens disposed between said component and the image plane of the system in close proximity to the image plane. The rear positive lens satisfies the following condition: f R ≥ 4f, where f is the composite focal length of the total system and f R is the focal length of the rear positive lens.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Objektivanordnung (1) für eine Bildverarbeitung, welche ein Objektiv (10) mit mindestens einer Linse zur Abbildung eines Objektes (20) aufweist, wobei im Abstand der Brennweite (11) des Objektives (10) bildseitig eine Aperturblende (30) angeordnet ist, wobei die Aperturblende (30) als Blendengruppe mit variabler Apertur ausgebildet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Reduzierung von Bildfehlern einer Objektivanordnung bei einer Bildverarbeitung, wobei die Objektivanordnung (1) ein Objektiv (10) mit mindestens einer Linse zur Abbildung eines Objektes (20) aufweist, wobei im Abstand der Brennweite (11) des Objektives (10) bildseitig eine Aperturblende (30) angeordnet ist, wobei die Apertur der Aperturblende (30) im Strahlengang verändert und eine Bildänderung detektiert wird. Die zuvor beschriebene Objektivanordnung (1) eignet sich insbesondere für Kameravermessungssysteme mit entsprechenden Bildverarbeitungssystemen. Mit der speziellen Anordnung und dem erfindungsgemäßen Verfahrensansatz kann erreicht werden, dass insbesondere ein Tiefenmessfehler, der bei einer Teilabschattung des Strahlengangs auftreten kann, kompensiert werden kann. Insbesondere ist dies bei der Vermessung von engen, tiefen Aussparungen, z.B. Bohrungen bzw. Öffnungen, vorteilhaft, bei denen diese Teilabschattungen auftreten können. Mit geeigneten Blenden kann das System zur direkten Abstandsmessung eingesetzt werden.
Abstract:
In one aspect, the invention relates to an optical apparatus for producing light of a predetermined intensity from light sources of less than the predetermined intensity. In one embodiment the apparatus includes a first light source; a second light source; a double dove anti-Gaussian generator in optical communication with the first light source; and a compensator in optical communication with the second light source. Light from the first light source passes through the double dove anti-Gaussian generator and light from the second light source passes through the compensator, and are combined to produce a flattened Gaussian intensity distribution. In another aspect, the invention relates to a method and apparatus for separating an image into subunits and reading the separate subimages out of the detectors in parallel.
Abstract:
A confocal three dimensional inspection system (120), and process for use thereof, allows for rapid inspecting of bumps and other three dimensional (3D) features on wafers (S), other semiconductor substrates (S) and other large format micro topographies. The sensor eliminates out of focus light using a confocal principal to create a narrow depth response in the micron range.
Abstract:
A single method and apparatus for producing many of the most common types of hologram from digital data is disclosed. The data are generated entirely by a computer as a 3-D (animated) model or from multiple 2-D camera images taken of a real 3-D(moving) object or scene from a plurality of different camera positions. The data are digitally processed and displayed on a small high resolution spatial light modulator (SLM). A compact low energy pulsed laser is used to record composite holograms. The present invention permits the creation of restricted or full parallax master transmission or reflection type composite holograms, known as H1 holograms, that can be copied using traditional methods. Alternatively the same invention and apparatus permits the direct writing of holograms without the need to pass through the intermediate stage of the H1 transmission hologram.
Abstract:
A refraction projection optical system preferable to a projection exposure apparatus used for lithography process in manufacturing a microdevice such as a semiconductor device. The projection optical system includes a positive front lens group (GF), an aperture stop (AS), and a positive rear lens group (GR), is a both side telecentric optical system, and satisfies the inequalities 0.075