薄膜容量素子用組成物、高誘電率絶縁膜、薄膜容量素子、薄膜積層コンデンサおよび薄膜容量素子の製造方法
    71.
    发明申请
    薄膜容量素子用組成物、高誘電率絶縁膜、薄膜容量素子、薄膜積層コンデンサおよび薄膜容量素子の製造方法 审中-公开
    薄膜电容元件的组合物,高介电常数的绝缘膜,薄膜电容元件,薄膜层压电容器和制造薄膜电容元件的方法

    公开(公告)号:WO2004065669A1

    公开(公告)日:2004-08-05

    申请号:PCT/JP2004/000273

    申请日:2004-01-16

    Abstract:  c軸が基板面に対して垂直に配向しているビスマス層状化合物が、組成式:(Bi 2  O 2  ) 2+ (A m−1  B m  O 3m+1 ) 2− 、またはBi 2  A m−1  B m  O 3m+3 で表され、前記組成式中の記号mが奇数、記号AがNa、K、Pb、Ba、Sr、CaおよびBiから選ばれる少なくとも1つの元素、記号BがFe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、MoおよびWから選ばれる少なくとも1つの元素であり、前記ビスマス層状化合物のBiが、前記組成式:(Bi 2  O 2  ) 2+ (A m−1  B m  O 3m+1 ) 2− 、またはBi 2  A m−1  B m  O 3m+3 に対して、過剰に含有してあり、そのBiの過剰含有量が、Bi換算で、0<Bi<0.6×mモルの範囲である。

    Abstract translation: 用于薄膜电容元件的组合物,其中其c轴垂直于衬底表面的铋层化合物由经验式表示:(Bi 2 O 2)2+(Am-1BmO 3m + 1)<2- >或Bi2Am-1BmO3m + 3,其中m是奇数,A表示选自Na,K,Pb,Ba,Sr,Ca和Bi中的至少一种元素,B表示选自Fe,Co中的至少一种元素 ,Cr,Ga,Ti,Nb,Ta,Sb,V,Mo和W,其特征在于上述铋层化合物含有超过上述经验式的Bi:(Bi 2 O 2)2+(Am-1BmO 3m +1)<2->或Bi2Am-1BmO3m + 3,并且Bi的过量量以Bi计为0

    誘電体磁器組成物、および誘電体素子
    80.
    发明申请
    誘電体磁器組成物、および誘電体素子 审中-公开
    电介质陶瓷组合物和电介质元件

    公开(公告)号:WO2014156302A1

    公开(公告)日:2014-10-02

    申请号:PCT/JP2014/052480

    申请日:2014-02-04

    Abstract: 【課題】5V/μmのDCバイアス変化率が-15%以内と非常に小さく、かつ1000以上の比較的高い比誘電率を有する誘電体磁器組成物と、その誘電体磁器組成物を用いた誘電体素子を提供すること。 【解決手段】下記式(1)で表される複合酸化物である誘電体磁器組成物。 {[(Bi s Na t ) a  (Bi u K v ) b Ba c ] 1-d A d } x Ti 1-d Nb d O 3 …(1) [式(1)中、AはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも一種の元素を示す。a、b、c、d、s、t、u、v及びxは、それぞれ、下記式を満たす数である。] 0.10≦a<0.95 0.00<b≦0.85 0.05≦c≦0.70 a+b+c=1 0.10≦d≦0.50 0.90≦s+u≦1.00 0.45≦t≦0.50 0.45≦v≦0.50 0.95≦x≦1.05

    Abstract translation: 本发明提供一种电介质陶瓷组合物,当施加5V /μm的DC偏压时,其电容变化率非常小,为0〜-15%,介电常数为1000 或者更多; 以及使用该介电陶瓷组合物的电介质元件。 [溶液]由式(1){[(BisNat)a(BiuKv)bBac] 1-dAd} x Ti1-dNbdO3 [式中:A为至少一种选自Li, Na和K; a,b,c,d,s,t,u,v和x分别为满足式0.10≤a<0.95 0.00

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