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公开(公告)号：WO2006070649A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/JP2005/023406
申请日：2005-12-20
CPC classification number: H01J11/12 , H01J9/20 , H01J2211/442
Abstract: A pattern forming method by which a pattern for an electronic circuit and the like can be formed by a small number of steps without using a strongly acidic or strongly alkaline etching solution. The pattern forming method is provided with a stacked body forming step for forming a stacked body (15) of a reflection preventing layer (13) and a thin film layer (14) by successively forming the reflection preventing layer (13) and the thin film layer (14) on one main plane of a transparent substrate (10), and a stacked body opening section forming step for forming an opening section on the stacked body (15) by irradiating the stacked body (15) with a first laser beam (L1).
Abstract translation: 可以通过少量步骤而不使用强酸性或强碱性蚀刻溶液来形成电子电路等的图案的图案形成方法。 图案形成方法具有层叠体形成步骤，用于通过依次形成反射防止层（13）和薄膜来形成防反射层（13）和薄膜层（14）的层叠体（15） 在透明基板（10）的一个主平面上的层（14）和用于通过用第一激光束（15）照射层叠体（15）而在层叠体（15）上形成开口部的层叠体开口部形成工序 L1）。
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公开(公告)号：WO2006068153A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：PCT/JP2005/023404
申请日：2005-12-20
CPC classification number: H01J9/02
Abstract: A low cost pattern forming method having a low environmental load, an electronic circuit manufactured by the pattern forming method, and an electronic device using the electronic circuit. The pattern forming method is provided with a step of forming reflection preventing layers (22, 23) on one main plane of a transparent substrate (20); a step of forming an opening section by irradiating the reflection preventing layers (22, 23) with a first laser beam (26); a step of forming a mask layer (28) on the transparent substrate (20) and the reflection preventing layers (22, 23); a step of forming an opening section on the mask layer (28); a step of forming a first thin film layer (32) on the reflection preventing layers (22, 23) and the mask layer (28); and a step of peeling the mask layer (28) from the transparent substrate (20).
Abstract translation: 具有低环境负荷的低成本图案形成方法，通过图案形成方法制造的电子电路和使用该电子电路的电子装置。 图案形成方法具有在透明基板（20）的一个主平面上形成防反射层（22,23）的步骤。 通过用第一激光束（26）照射防反射层（22,23）来形成开口部的步骤; 在透明基板（20）和反射防止层（22,23）上形成掩模层（28）的步骤; 在所述掩模层（28）上形成开口部的步骤; 在反射防止层（22,23）和掩模层（28）上形成第一薄膜层（32）的步骤; 以及从所述透明基板（20）剥离所述掩模层（28）的工序。
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公开(公告)号：WO2013047244A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/JP2012/073675
申请日：2012-09-14
CPC classification number: C03C17/36 , C03C17/3649 , C03C17/3655 , C03C17/3671
Abstract: ＩＴＯレス化された導電層付き基板を提供する。本発明は、第１主面と当該第１主面に対向する第２主面とを有するガラス基板と、前記第１主面上に形成された酸化チタンまたは酸化ジルコニウムを含有する低反射層と、前記低反射層上に形成されたアルミニウムまたはアルミニウム合金を含有する導電層と、前記導電層上に形成された酸化スズを含有する保護層と、を備える、導電層付き基板を提供する。
Abstract translation: 提供具有不使用ITO的导电层的基板。 本发明提供一种具有导电层的基板，包括：玻璃基板，其具有与所述第一主表面相对的第一主表面和第二主表面; 形成在上述第一主面上并含有氧化钛或氧化锆的低反射层; 导电层，其形成在低反射层的顶部并且包含铝或铝合金; 以及保护层，其形成在导电层的顶部并且包含氧化锡。
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公开(公告)号：WO2007015507A1
公开(公告)日：2007-02-08
申请号：PCT/JP2006/315279
申请日：2006-08-02
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 株式会社ザイキューブ , 佐藤 了平 , 盆子原 學 , 岩田 剛治 , 安田 尚平
IPC: H01L23/12 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC classification number: H01L23/49833 , H01L21/768 , H01L23/522 , H01L23/66 , H01L2221/68345 , H01L2223/6627 , H01L2224/16 , H01L2924/09701 , H01L2924/13091 , H01L2924/19033 , H01L2924/19051 , H01L2924/00
Abstract: 比較的簡単な製造工程によって膨大な数の配線を実装することができると共に、極めて高い歩留まりで製造することが可能な電子回路装置とその製造方法を提供し、併せてクロック信号のＧＨｚオーダーへの高周波化に伴う高速信号伝送を実現可能な配線構造を実現する。複数の電子回路素子と、当該電子回路素子を相互接続する配線層とを有する半導体基板１００と、多層配線層を内蔵する多層配線構造２００とを備える。半導体基板１００の前記配線層の表面と多層配線構造２００の接合面とが、接続用電極を用いてあるいは接続用電極を用いずに電気的・機械的に相互接続されることによって、前記半導体基板と前記多層配線構造とが一体化される。
Abstract translation: 一种电子电路装置，其可以通过相对简单的制造工艺安装大量布线并且可以以极高的产量制造，并且提供了一种用于制造这种电子电路装置的方法。 同时，提供了可以实现由时钟信号的GHz频率的高频所需的高速信号传输的布线结构。 所述电子电路装置具备：多个电子电路元件的半导体基板（100）和连接所述电子电路元件的布线层; 以及并入多层布线层的多层布线结构（200）。 通过使用或不使用连接电极，将半导体衬底（100）的布线层的表面和多层布线结构（200）的接合面电连接和机械连接。 因此，半导体衬底和多层布线结构被集成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2013047245A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/JP2012/073678
申请日：2012-09-14
Abstract: 本発明は、ＩＴＯレスの電極付き基板を提供する。本発明は、第１主面（１２）と当該第１主面に対向する第２主面（１４）とを有する透明基板（１０）と、前記第１主面上に形成された金属酸化物層（２０）と、前記金属酸化物層上に形成された金属電極（３０）と、を備え、前記金属酸化物層は、当該層上に前記金属電極が形成されている電極部（２１）と、当該層上に前記金属電極が形成されていない非電極部（２２）と、を有し、前記電極部は前記非電極部よりも光吸収性が高い、電極付き基板を提供する。
Abstract translation: 本发明提供一种不含ITO的电极的基板。 本发明提供一种具有电极的基板，包括：具有与第一主表面相对的第一主表面（12）和第二主表面（14）的透明基板（10） 形成在上述第一主面的顶部的金属氧化物层（20） 和形成在金属氧化物层顶部的金属电极（30）。 金属氧化物层具有形成金属电极的电极承载部（21），在其上没有形成金属电极的无电极部（22）。 电极承载部具有比无电极部更高的光密度。
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公开(公告)号：WO2005045911A1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：PCT/JP2004/016599
申请日：2004-11-09
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/76838 , H01L21/0272
Abstract: 低コストおよび低環境負荷で、かつ連続した薄膜回路パターンを精度よく実現できるパターン形成方法、およびこれにより製造される電子回路、並びにこれを用いた電子機器を提供する。 基板１上にマスク層２を形成する工程と、上記マスク層２に開口パターンを形成する工程と、上記基板１上およびマスク層２上に薄膜３を形成する工程と、上記マスク層２および該マスク層２上に形成された薄膜３を基板１から剥離する工程とを含み、開口パターンを乾式条件下で形成する。
Abstract translation: 提供了一种能够精确地实现环境负荷低且成本低的连续薄膜电路图案的图案形成方法，通过该方法制造的电子电路和使用该电子设备的电子设备。 该方法包括：在基板（1）上形成掩模层（2）的步骤，在掩模层（2）中形成开口图案的步骤，在基板上形成薄膜（3）的步骤 1）和掩模层（2）的工序，以及从基板（1）剥离形成在掩模层（2）上的薄膜（3）的掩模层（2）的步骤。 在干燥状态下形成开口图案。
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公开(公告)号：WO2006070648A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/JP2005/023405
申请日：2005-12-20
CPC classification number: H01J11/12 , H01J9/20 , H01J2211/442 , H05K3/0082 , H05K3/048 , H05K2201/0108 , H05K2203/0551
Abstract: 本発明は、ウェットエッチングを行うことなく、工程数の削減とコストの低減を図ることが可能なパターン形成方法を提供することを課題とする。本発明のパターン形成方法は、透明基板についての反射防止層形成工程と、反射防止層開口部形成工程と、マスク層形成工程と、マスク層開口部形成工程と、薄膜層形成工程と、剥離工程とを備え、前記反射防止層形成工程の前段、前記反射防止層開口部形成工程の後段または前記剥離工程の後段に、透明層形成工程と、透明層開口部形成工程とを備える。
Abstract translation: 一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以在不进行湿蚀刻的情况下降低多个步骤和成本。 图案形成方法具有防反射层形成工序，防反射层开口部形成工序，掩模层形成工序，掩模层开口部形成工序，薄膜层形成工序和剥离工序， 将被执行到透明基板。 在反射防止层形成工序的预备阶段，在反射防止层开口部形成工序的后期或剥离工序的后期，设置透明层形成工序和透明层开口部形成工序 。
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公开(公告)号：WO2013021995A1
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：PCT/JP2012/070091
申请日：2012-08-07
CPC classification number: B23K26/0626 , B23K26/361
Abstract: 低エネルギーで行われ、かつ、加工精度や加工品質にも優れた、膜加工方法を提供する。基板の一方の面上に形成された膜の除去予定部位をレーザ光の照射により除去して、除去部を形成する膜加工方法であって、上記レーザ光の照射は、パルスレーザ光源からレーザ光を２ショット以上照射するものであり、１ショット目の上記レーザ光が、上記除去予定部位における膜平面に垂直な方向の５０％以上１００％未満を除去するエネルギー密度を有し、２ショット目以降の各ショットの上記レーザ光が、上記１ショット目の上記レーザ光が有するエネルギー密度の５０～１００％のエネルギー密度を有し、上記レーザ光のショット間隔が、１秒以上である、膜加工方法。
Abstract translation: 提供了一种以低能量进行的，具有优异的工作精度和工作质量的薄膜加工方法。 薄膜加工方法通过投射激光束在形成在基板的一个面上的膜上除去待除去的部位，形成去除区域。 激光束投影从脉冲激光光源投射两束以上的激光束。 激光束的第一次照射具有在膜平面的垂直方向上去除待除去部位的50％以上且小于100％的能量密度。 激光束的第二次和连续拍摄中的每一个具有激光束的第一次射击所具有的能量密度的50％-100％。 激光束的间隔为1秒以上。
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公开(公告)号：WO2006035565A1
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/JP2005/015683
申请日：2005-08-29
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J11/22 , H01J11/44 , H01J2211/444
Abstract: プラズマディスプレイパネルの表示電極、バス電極、および場合によりブラックストライプを、同一材料で、同一のドライ工程で形成することにより、環境低負荷で、安価で、低抵抗で、誘電体による侵食がなく、かつＰＤＰ表示装置上に反射防止をした鮮明な画像を表示できるプラズマディスプレイ基板用、電極および／またはブラックストライプの製造方法を提供する。 透明基板上に形成したマスク層に、レーザ光を照射して、表示電極、バス電極、および、場合によりブラックストライプの各パターンに相当する領域に開口部を形成した後、全面に反射防止の効果をもたらす反射防止層と、電極層を連続形成し、再びレーザ光を照射して前記マスク層を剥離し、不要な薄膜層を同時に除去する、プラズマディスプレイ基板用、電極および／またはブラックストライプの製造方法。
Abstract translation: 提供一种用于制造用于形成等离子体显示面板显示电极，总线电极和黑条纹的等离子体显示器的电极和/或黑色条纹的方法，具有相同的材料和相同的干燥步骤。 这使得能够以合理的成本在低电阻下以低负载制造低电阻，而不会由于电介质体的侵蚀和通过防止PDP显示装置上的反射来显示清晰的图像。 将激光束施加到形成在透明基板上的掩模层上，以在壳体中形成与显示电极，总线电极和黑色条纹图案相对应的区域中的开口。 此后，在整个表面上依次形成防反射防反射层和电极层。 再次施加激光束并剥离掩模层。 同时，也去除了不必要的薄膜层。
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