Abstract:
Gezeigt werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Konfektionieren von befüllbaren Polstern, insbesondere luftbefüllbaren Polstern, bei welchem zumindest zwei Lagen von für Infrarotstrahlung durchlässigen Kunststofffolien (1) entlang einer Kontur (2) des Polsters so miteinander mittels Infrarot-Schweißen verschweißt werden, dass ein befüllbarer Hohlraum entsteht. Das Verfahren bzw. die Vorrichtung sieht vor, dass die aufeinander liegenden Kunststofffolien von einer Seite aus zumindest einer Strahlungsquelle (3) mit Strahlung im Infrarotbereich bestrahlt werden, während auf der anderen Seite der Kunststofffolien eine Kontrastmatrize (4) mit diesen in Eingriff gebracht wird, auf welcher zumindest eine die Infrarotstrahlung absorbierende Kontur (2) aufgebracht ist, sodass die sich erwärmende Kontur die Wärme auf die Kunststofffolien überträgt und diese miteinander verschweißt.
Abstract:
Es wird eine Vorrichtung (1) zum wenigstens Entleeren eines Transportbehälters (2) gezeigt, der einen Stapel (3) an plattenförmigen Gegenständen (4), umfassend Halbleiterwafer (5) und/oder Verpackungsmaterial (6), aufweist, mit mindestens einer Messeinrichtung (11), mit einem in den Transportbehälter (2) zumindest teilweise einfahrbaren Halter (7), der eine Haltefläche (8), mehrere Haltedüsen (9) zum wenigstens Halten eines Gegenstands (4) des Stapels (3) und im Bereich der Haltefläche (8) zumindest eine Ausnehmung (10) für die Messeinrichtung (11) zur Messdatenerfassung vom Gegenstand (4) des Stapels (3) aufweist. Um ein standfestes Entleeren des Transportbehälters zu ermöglichen, wird vorgeschlagen, dass der Halter (7) mindestens eine außerhalb der Haltefläche (8) derart von einer Ruhelage (14, 15) in eine Separierlage (1 6, 17) beweglich am Halter (7) angeordnete Separierdüse (12, 13) aufweist, dass sich in der Separierlage (16, 17) der Separierdüse (12, 13) eine auf die Stirnseite (20) des Stapels (3) gerichtete Gasströmung (18, 19) ausbildet, um damit mindestens einen am vom Halter (7) gehaltenen Gegenstand (21) anhaftenden anderen Gegenstand (22) des Stapels (3) zu lösen.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1), insbesondere Endeffektor, zum Aufnehmen, Transportieren und/oder Positionieren eines Waferrahmens (2), der mit einer Trägerfolie (3) zum Tragen eines Wafers (4) bespannt ist, mit einer Halterung (5) die Vakuumdüsen (6) zum Halten des Waferrahmens (2) an der Vorrichtung aufweist, und mit einer Zentriereinrichtung (28), die mindestens einen in eine Aussparung (8) des Waferrahmens (2) eingreifbaren Anschlag (7) zur Zentrierung des Waferrahmens (2) aufweist. Um eine genaue Positionierung des Waferrahmens zu erreichen wird vorgeschlagen, dass die Halterung (5) Bernoullidüsen (9, 90) zum berührungslosen Halten und Bewegen des Waferrahmens (2) in Richtung des Anschlags (7) aufweist, und dass der Anschlag (7) entgegen der von den Bernoullidüsen (9, 90) erzeugten Bewegungsrichtung (11) von einer Ausgangslage (12) in eine davon unterschiedliche Zentrierlage (13) zum Zentrieren des Waferrahmens (2) verstellbar gelagert ist.
Abstract:
Gezeigt wird eine Vorrichtung zum Ein -oder Auspacken von stapelbaren Gegenständen, wie Wafern, insbesondere Siliziumwafern, in oder aus Transportbehältern, oder zum Sortieren von stapelbaren Gegenständen, wie Wafern, insbesondere Siliziumwafern, in Transportbehältern, wobei mehrere Magazine (1-6) vorgesehen sind, die jeweils Verpackungsmaterial oder Transportbehälter aufnehmen können, und wobei ein Roboter vorgesehen ist, der stapelbare Gegenstände aus Transportbehältern entnehmen oder in Transportbehälter einlegen kann. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Magazine (1-6) um eine gemeinsame waagrechte Achse drehbar und in der gleichen senkrechten Ebene angeordnet sind. Dadurch kann eine Vorrichtung zur Verfügung gestellt werden, die weniger Platz, insbesondere in Reinraumatmosphäre, benötigt.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Vorausrichten eines flachen Substrats, insbesondere eines Wafers, welches über eine Folie an einem Rahmen angeordnet ist, vor einem nachfolgenden Bearbeitungsprozess. Damit eine solche Vorausrichtung auf einfache Weise durchgeführt werden kann, ist folgendes vorgesehen: a) der Rahmen mit dem daran befindlichen flachen Substrat wird in einer Messvorrichtung, insbesondere auf einer Auflageeinrichtung der Messvorrichtung, angeordnet; b) in der Messvorrichtung werden mittels wenigstens eines Sensorelements Versatzwerte bezüglich des Versatzes des Substrats zum Zentrum der Messvorrichtung und/oder des Versatzes des Rahmens zum Zentrum der Messvorrichtung, insbesondere zum Zentrum der Auflageeinrichtung, ermittelt; c) die ermittelten Versatzwerte werden über eine der Messvorrichtung zugeordnete Schnittstelle an eine Handhabungseinrichtung zum Handhaben des Substrats übertragen; d) die Handhabungseinrichtung wird anhand der empfangenen Versatzwerte entsprechend bewegt, derart, dass der Rahmen mit dem daran befindlichen Substrat ausgerichtet aufgenommen wird oder dass der Rahmen mit dem daran befindlichen Substrat ausgerichtet an einer Zielposition abgeladen wird.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft unter anderem eine Schweißvorrichtung (10) zum Anschweißen einer Folie an einem Substrat, mit einem Schweißkopf (11). Um insbesondere ein ungewolltes Ablösen beziehungsweise Abreißen der Folie oder ein Einreißen der Schweißverbindung verhindert zu können, insbesondere dann, wenn die Folie von unten an das Substrat angeschweißt wird, ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass der Schweißkopf (11) einen beheizbaren Schweißstempel (16) zum Erzeugen einer Schweißverbindung und eine benachbart zum Schweißstempel (16) vorgesehene Kühleinrichtung (21) zum Kühlen der Schweißverbindung oder einer Schweißzone aufweist.
Abstract:
Es wird eine Vorrichtung (1) zum Halten eines flächigen Substrats (4), insbesondere für einen Wafer oder eWLB, mit einer für das Substrat (2) eine Auflagefläche (3) ausbildende Auflage (2), die wenigstens eine im Bereich der Auflagefläche (3) für das Substrat (2) vorgesehene Ausnehmung (5) aufweist, und mit wenigstens einem mit dieser Ausnehmung (6) strömungsverbundenen Haltemittel zur Befestigung des Substrats (2) an der Vorrichtung (1) mit Hilfe eines zwischen Auflage (2) und Substrat (4) erzeugten Unterdrucks gezeigt. Um eine Vielzahl an unterschiedlich geometrisch verlaufenden Substraten greifen zu können, wird vorgeschlagen, dass die Auflage (2) wenigstens eine Ausnehmung (6) mit einer elastischen Dichtung (7) aufweist, die von einer dem Rand (8) der Ausnehmung (6) vorstehenden in eine gegenüber dem Rand (8) der Ausnehmung (6) zurückgezogene bzw. höchsten mit diesem übereinstimmende Lage (9, 10) bewegbar ausgebildet ist und die mit der Ausnehmung (5) zum vollflächigen Ansaugen des Substrats (4) an die Auflage (2) zusammenwirkt.
Abstract:
Es wird eine Vorrichtung (1) zum Entfernen eines ringförmigen Verstärkungsrands (2) von einem geschliffenen Halbleiterwafer (3), der mit einer elastischen Trägerfolie (4) stoffschlüssig verbunden und über diese Trägerfolie (4) an einem umlaufenden Waferrahmen (11) befestigt ist, mit einer Halteeinrichtung (7), die eine Auflage (8) mit Ansaugöffnungen (9) zum Halten des Halbleiterwafers (3) an der Auflagefläche (16) der Auflage (8) aufweist, und mit einer Trenneinrichtung (6) gezeigt, die Mittel zum einstückigen Lösen des Verstärkungsrands (2) von der Trägerfolie (4) umfasst. Um beschädigungsfrei den Verstärkungsrand von der Trägerfolie (4) lösen zu können, wird vorgeschlagen, dass die Haltereinrichtung (7) eine die Auflage (8) umfassende Spanneinrichtung (10) zum Einspannen des Waferrahmens (11) und/oder der Trägerfolie (4) aufweist, wobei die Spanneinrichtung (10) mit der Auflage (8) zur Streckung der Trägerfolie (4) zusammenwirkt, und dass die Trenneinrichtung (6) eine Werkzeugführung (13) mit einem Zerteilwerkzeug (12) zum Bewegen des Zerteilwerkzeugs (12) zwischen Trägerfolie (4) und Verstärkungsrand (2) aufweist, um den Verstärkungsrand (2) in einem Stück von der durch ein Zusammenwirken von Spanneinrichtung (10) und Auflage (8) gestreckten Trägerfolie (4) zu lösen.
Abstract:
The invention relates to a fillable cushioning element (30, 31) for protecting four corners, two edges and a surface of an essentially cuboid object (19) to be packed. Said cushioning element consists of at least two layers of plastic film and respectively comprises a recess close to the longitudinal ends thereof, enabling the cushioning element to be placed over at least one corner of the cuboid object. The inventive cushioning element is dimensioned in such a way that the longitudinal extension thereof between the two recesses corresponds to the length of the two edges to be protected plus the length of the diagonal of the surface to be protected. According to the inventive method and device for producing fillable cushioning elements, the welding is carried out by ultrasound, a sonotrode being rotated about an axis normal to the welding plane, for curved contours, in such a way that it is oriented tangentially to the contour. According to the inventive method for filling empty cushioning elements, at least one nozzle is arranged at a distance from an opening, especially a punched-out opening, in one of the plastic films of the cushioning element, diagonally to the surface of the cushioning element, and gas is blown out of said nozzle towards the opening.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft unter anderem eine Vakuumspannvorrichtung zum Aufspannen von Werkstücken, insbesondere zum Aufspannen von flachen Substraten, mit einer Vakuumspannplatte (10), die über ihre Fläche verteilt eine Anzahl von Ansaugöffnungen (16) aufweist, die in einer Ansaugoberfläche (14) der Vakuumspannplatte (10) ausgebildet sind, oder die mit einer Anzahl von Ansaugnuten (15) in Verbindung stehen, die in einer Ansaugoberfläche (14) der Vakuumspannplatte (10) ausgebildet sind, wobei die Vakuumspannplatte (10) zwei oder mehr voneinander getrennte, einzeln schaltbare Vakuumzonen (11, 12) aufweist, wobei jede Vakuumzone (11, 12) entsprechende Ansaugöffnungen (16) und/oder Ansaugnuten (15) mit Ansaugöffnungen (16) aufweist. Um die Vakuumspannvorrichtung derart weiterzubilden, dass mit dieser gezielt große Haltekräfte erzeugt werden können, wobei gleichzeitig eine Beschädigung der aufzuspannenden Werkstücke vermieden wird, ist vorgesehen, dass die Vakuumspannvorrichtung zwei oder mehr voneinander unabhängige Vakuumkreise aufweist, dass jede Vakuumzone (11, 12) einem der Vakuumkreise zugeordnet ist oder Bestandteil eines der Vakuumkreise ist, und dass jeder Vakuumkreis zum Erzeugen eines eigenständigen Vakuums ausgebildet ist.