公开(公告)号：WO2010100268A3

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：PCT/EP2010052860

申请日：2010-03-05

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  SANDSTROEM TORBJOERN

发明人： SANDSTROEM TORBJOERN

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01B11/303 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70366 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70783

摘要： The technology disclosed relates to methods and devices that compensate for displacements in a pattern or deformations of workpiece. In particular, that relates to using timing to compensate for displacements along a first axis along the scanning direction while using resampling, interpolation or a similar method to compensate for displacements along a second axis that is substantially orthogonal to the first axis. The scanning direction may be an actual direction of movement of the scanning head or it may be a direction perpendicular to an orientation of an image projected onto a workpiece.

摘要翻译： 所公开的技术涉及补偿图案中的位移或工件的变形的方法和装置。 特别地，这涉及使用定时来补偿沿着扫描方向沿着第一轴的位移，同时使用重采样，内插或类似的方法来补偿沿着与第一轴基本正交的第二轴的位移。 扫描方向可以是扫描头的实际运动方向，也可以是垂直于投影到工件上的图像的方向的方向。

公开(公告)号：WO2010100273A2

公开(公告)日：2010-09-10

申请号：PCT/EP2010/052865

申请日：2010-03-05

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  SANDSTRÖM, Torbjörn ,  ÖSTERBERG, Anders ,  IVANSEN, Lars ,  LINDAU, Sten

发明人： SANDSTRÖM, Torbjörn ,  ÖSTERBERG, Anders ,  IVANSEN, Lars ,  LINDAU, Sten

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01B11/303 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70366 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70783

摘要： The technology disclosed relates to variable tapers to resolve varying overlaps between adjacent strips that are lithographically printed. Technology disclosed combines an aperture taper function with the variable overlap taper function to transform data and compensate for varying overlaps. The variable taper function varies according to overlap variation, including variation resulting from workpiece distortions, rotor arm position, or which rotor arm printed the last stripe. Particular aspects of the present invention are described in the claims, specification and drawings.

摘要翻译： 所公开的技术涉及可变锥度以解决光刻印刷的相邻条之间的不同重叠。 公开的技术将孔径锥度函数与可变重叠锥度函数组合以转换数据并补偿变化的重叠。 可变锥度函数根据重叠变化而变化，包括由工件变形，转子臂位置或哪个转子臂打印最后一个条纹引起的变化。 在权利要求书，说明书和附图中描述了本发明的特定方面。

公开(公告)号：WO2009141720A1

公开(公告)日：2009-11-26

申请号：PCT/IB2009/005685

申请日：2009-05-22

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  FREDRIK, Sjostrom ,  WAHLSTEN, Mikael

发明人： FREDRIK, Sjostrom ,  WAHLSTEN, Mikael

IPC分类号： G01B11/30 ,  B41J2/435 ,  G01B11/25 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G03F1/26 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70466

摘要： Methods and apparatuses for patterning workpieces are provided. The methods and apparatuses described herein improve overlay between subsequently patterned layers on a workpiece by introducing an improved alignment method that compensates for workpiece distortions.

摘要翻译： 提供用于图案化工件的方法和装置。 本文描述的方法和装置通过引入补偿工件变形的改进的对准方法来改善工件上的后续图案化层之间的覆盖。

公开(公告)号：WO2009037360A3

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：PCT/EP2008062641

申请日：2008-09-22

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  BRING MARTIN ,  ENOKSSON PETER

发明人： BRING MARTIN ,  ENOKSSON PETER

IPC分类号： B81C1/00 ,  G02B26/08

CPC分类号： B81C1/00174 ,  B81B2201/042 ,  G02B26/0841

摘要： A novel silicon micromirror structure for improving image fidelity in laser pattern generators is presented. In some embodiments, the micromirror is formed from monocrystalline silicon. Analytical- and finite element analysis of the structure as well as an outline of a fabrication scheme to realize the structure are given. The spring constant of the micromirror structure can be designed independently of the stiffness of the mirror-surface. This makes it possible to design a mirror with very good planarity, resistance to sagging during actuation, and it reduces influence from stress in reflectivity-increasing multilayer coatings.

摘要翻译： 提出了一种用于提高激光图案发生器图像保真度的新型硅微镜结构。 在一些实施例中，微镜由单晶硅形成。 给出了结构的分析和有限元分析以及实现结构的制造方案的概要。 微镜结构的弹簧常数可以独立于镜面的刚度来设计。 这使得可以设计具有非常好的平面性，在致动期间的下垂阻力的反射镜，并且其减小了增加反射率的多层涂层中的应力的影响。

公开(公告)号：WO2008052600A1

公开(公告)日：2008-05-08

申请号：PCT/EP2007/003229

申请日：2007-04-11

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  SJÖSTRÖM, Fredrik

发明人： SJÖSTRÖM, Fredrik

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70791 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088

摘要： The present invention relates to a method to determine a position of at least one mark provided on a substrate, comprising the actions of: detecting a first mark on said substrate by using a first detector, detecting a first set of marks comprising at least a second mark on said substrate by using a second detector, computing a first list of relative distance(s) between said first mark and mark(s) in said first set of marks, detecting the second mark on said substrate by using one of said first or said second detectors, detecting a second set of marks comprising at least said first mark on said substrate by using an available detector, computing a second list of relative distance(s) between said second mark and mark(s) in said second set of marks, determining the position of at least one mark by using the information in said first and said second lists of relative distance(s).

摘要翻译： 本发明涉及一种确定衬底上提供的至少一个标记的位置的方法，包括以下动作：通过使用第一检测器检测所述衬底上的第一标记，检测包含至少第二个 通过使用第二检测器在所述基板上标记，计算所述第一标记中的所述第一标记和标记之间的相对距离的第一列表，通过使用所述第一或第二标记中的一个检测所述基板上的第二标记， 所述第二检测器，通过使用可用的检测器来检测包括所述基板上的至少所述第一标记的第二组标记，计算所述第二标记和所述第二组标记之间的标记之间的相对距离的第二列表 通过使用相对距离的所述第一和所述第二列表中的信息来确定至少一个标记的位置。

公开(公告)号：WO2007080130A2

公开(公告)日：2007-07-19

申请号：PCT/EP2007/000296

申请日：2007-01-15

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  WAHLSTEN, Mikael

发明人： WAHLSTEN, Mikael

IPC分类号： G06T7/00

CPC分类号： G06T5/003 ,  G06T5/10 ,  G06T2207/30148

摘要： In a method for measuring lithographic features on a surface with an optical system, a laser beam is scanned over lithographic features on the surface and the laser beam is reflected or transmitted. An image of the lithographic features is formed by the reflected or transmitted laser beam. The image is filtered using a filter, which is an inverse convolution based on a kernel representing the optical system. The filtering provides a threshold that is equal for all line widths and provides the same relative difference from the nominal critical dimension for all line widths. The surface is a wafer or a work piece.

摘要翻译： 在用光学系统测量表面上的光刻特征的方法中，在表面上的光刻特征上扫描激光束，并且激光束被反射或透射。 光刻特征的图像由反射或透射的激光束形成。 使用滤波器对图像进行滤波，滤波器是基于表示光学系统的核的反卷积。 滤波提供了所有线宽相等的阈值，并提供与所有线宽的标称临界尺寸相同的相对差。 表面是晶片或工件。

公开(公告)号：WO2007018464A2

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：PCT/SE2006/000932

申请日：2006-08-08

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  SANDSTRÖM, Torbjörn ,  IVONIN, Igor

发明人： SANDSTRÖM, Torbjörn ,  IVONIN, Igor

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70566

摘要： A method, apparatus for and a device manufactured by the same, for printing a microlithographic pattern with high fidelity and resolution using simultaneously optimized illuminator and pupil filters having semi-continuous transmission profiles. The optimization can be further improved if the illuminator and pupil filters are polarization selective. The optimization method becomes a linear programming problem and uses a set of relevant features in the merit function. With a suitably chosen merit function and a representative feature set both neutral printing without long-range proximity effects and good resolution of small features can be achieved. With only short-range proximity effects OPC correction is simple and can be done in real time using a perturbation method.

摘要翻译： 一种用于使用其制造的方法，装置和装置，用于使用具有半连续透射轮廓的同时优化的照明器和瞳孔滤光器，以高保真度和分辨率打印微光刻图案。 如果照明器和光瞳滤光器是偏振选择的，则可以进一步改善优化。 优化方法成为线性规划问题，并在优值函数中使用一组相关特征。 通过适当选择的优点功能和具有代表性的特征，可以实现不具有远距离邻近效应的中性打印和小特征的良好分辨率。 只有短距离邻近效应OPC校正很简单，可以使用扰动方法实时完成。

公开(公告)号：WO2006021406A3

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：PCT/EP2005009056

申请日：2005-08-22

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  SANDSTROEM TORBJOERN ,  IVONIN IGOR

发明人： SANDSTROEM TORBJOERN ,  IVONIN IGOR

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70091 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70625

摘要： A pattern generator may include an electromagnetic radiation source and an optical system. The electromagnetic radiation source may emit electromagnetic radiation to create a pattern on a workpiece. The optical system may include an optical path for the electromagnetic radiation emitted from the electromagnetic radiation source and may be configured such that an apodization of the electromagnetic radiation is sufficient to optimize a critical dimension linearity for the created pattern.

摘要翻译： 图案发生器可以包括电磁辐射源和光学系统。 电磁辐射源可以发射电磁辐射以在工件上形成图案。 光学系统可以包括用于从电磁辐射源发射的电磁辐射的光路，并且可以被配置为使得电磁辐射的变迹足以优化所形成的图案的临界尺寸线性。

公开(公告)号：WO2005078527A1

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：PCT/SE2005/000077

申请日：2005-01-25

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  EKBERG, Peter

发明人： EKBERG, Peter

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70433 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70383 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/146

摘要： An aspect of the present invention includes a method for patterning a workpiece covered at least partly with a layer sensitive to electromagnetic radiation by using a plurality of exposure beams having a predetermined separation in at least a first direction for exposing a pattern onto said workpiece, where said predetermined separation is fixed to an initial system pitch in said first direction, comprising the actions of: scaling a pattern pitch in said first direction to be an integer multiple of said system pitch, adjusting the initial system pitch in said first direction to be an adjusted system pitch to maintain a scale of said pattern, adjusting said predetermined separation of exposure beams to said adjusted system pitch. Other aspects of the present invention are reflected in the detailed description, figures and claims.

摘要翻译： 本发明的一个方面包括一种用于使至少部分地具有对电磁辐射敏感的层的工件图案化的方法，所述方法是通过使用多个在至少第一方向上具有预定间隔的曝光光束将图案曝光到所述工件上，其中 所述预定分离被固定在所述第一方向上的初始系统间距，包括以下动作：将所述第一方向上的图案间距缩放为所述系统间距的整数倍，将所述第一方向上的初始系统间距调整为 调节的系统间距以保持所述图案的比例，将曝光光束的所述预定分离调整到所述调整的系统间距。 本发明的其它方面在详细描述，附图和权利要求中被体现。

公开(公告)号：WO2005057291A1

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：PCT/SE2004/001848

申请日：2004-12-10

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB

发明人： LJUNGBLAD, Ulric

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G02B5/1871 ,  G02B26/0841 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： An apparatus for patterning a work piece including a source, and at least one reflective tilting surface adapted to induce a phase difference using at least one of a phase shifting plate and a difference in step height. A method corresponding to the apparatus for patterning a work piece. A method of manufacturing the apparatus for patterning a work piece and a Spatial Light Modulator, which may be included therein.

摘要翻译： 一种用于对包括源的工件进行图案化的装置，以及适于使用相移板中的至少一个和台阶高度中的至少一个来引起相位差的至少一个反射倾斜表面。 对应于用于图案化工件的装置的方法。 一种制造用于图案化工件的设备的方法和可以包括在其中的空间调光器。