Abstract:
A mirror assembly (20) includes a frame (30) having a central opening and a mirror plate, which is contained within the central opening of the frame and is shaped to define separate first and second mirrors (22, 24) connected by a bridge (26) extending between the first and second mirrors. A pair of hinges (28) are connected between the frame and the mirror plate at locations on the central axis on opposing sides of the frame so as to enable rotation of the mirror plate about the central axis relative to the frame.
Abstract:
Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung (120) mit einer dreidimensionalen magnetischen Struktur (132) umfassend einen Schritt des Auf- oder Einbringens von magnetischen Partikeln (130) auf oder in ein Trägerelement (122), wobei zwischen den magnetischen Partikeln eine Vielzahl von zumindest teilweise miteinander verbundenerer Hohlräume gebildet wird und wobei die magnetischen Partikel an Berührungspunkten miteinander in Kontakt treten. Das Verfahren umfasst ferner einen Schritt des Verbindens der magnetischen Partikel an den Berührungspunkten durch Beschichten der Anordnung aus magnetischen Partikeln und Trägerelement, wobei die Hohlräume zumindest teilweise von der beim Beschichten erzeugten Schicht durchdrungen werden. Die Vorrichtung umfasst eine Leiterschleifenanordnung (124) auf dem Trägerelement oder einem weiteren Trägerelement, so dass bei einem Stromfluss durch die Leiterschleifenanordnung (1) eine Induktivität der Leiterschleifenanordnung durch die dreidimensionale magnetische Struktur verändert wird, oder (2) eine Kraft auf die dreidimensionale magnetische Struktur oder die Leiterschleifenanordnung durch ein durch den Stromfluss hervorgerufenes magnetisches Feld wirkt, oder (3) bei einer Lageänderung der dreidimensionalen magnetischen Struktur ein Stromfluß durch die Leiterschleifenanordnung induziert wird.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit Bereitstellen eines Substrats mit einer Elektrode beschrieben, die an einer Hauptseite des Substrats freiliegt. Ferner umfasst das Verfahren das Bilden einer Mikro- oder Nanostruktur, die einen Abstandshalter aufweist, der auf der Elektrode fußt, wobei das Bilden folgende Schritte aufweist: Abscheiden einer Opferschicht auf der Hauptseite, wobei die Opferschicht amorphes Silizium (a-Si) oder Siliziumdioxid (SiO 2 ) enthält; Strukturieren eines Loches und/oder Grabens in die Opferschicht mittels eines DRiE-Prozesses; Beschichten der Opferschicht mittels ALD oder MOCVD, so dass sich Material der Nano- oder Mikrostruktur an dem Loch und/oder Graben bildet sowie Entfernen der Opferschicht.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung offenbart eine Mikrospiegelanordnung mit einer Spiegelmembran, mit mindestens einem ersten Trägerelement, mit einem ersten Koppelelement für jedes erste Trägerelement, welches zwischen der Spiegelmembran und dem jeweiligen ersten Trägerelement angeordnet ist und ausgebildet ist, das jeweilige erste Trägerelement mit der Spiegelmembran mechanisch zu koppeln, mit mindestens einem zweiten Trägerelement, welches mit dem mindesten einen ersten Trägerelement mechanisch gekoppelt ist, und mit einem zweiten Koppelelement für jedes zweite Trägerelement, welches ausgebildet ist, mechanisch kontaktiert zu werden. Ferner offenbart die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Mikrospiegelanordnung.
Abstract:
A scanning device (64, 220, 230) includes a substrate (68), which is etched to define an array of two or more parallel rotating members (102) and a gimbal (72, 232) surrounding the rotating members. First hinges (106, 234) connect the gimbal to the substrate and defining a first axis of rotation, about which the gimbal rotates relative to the substrate. Second hinges (74) connect the rotating members to the support and defining respective second, mutually-parallel axes of rotation of the rotating members relative to the support, which are not parallel to the first axis.
Abstract:
Es wird eine Mikrospiegelanordnung vorgeschlagen, die umfasst einen ersten Feder-Masse-Schwinger, der einen eine Spiegelplatte (1) bildenden Schwingkörper und erste Federelemente (2) aufweist, einen zweiten Feder-Masse-Schwinger, der eine Antriebsplatte (3) und zweite Federelemente (4) aufweist und der über die zweiten Federelemente (4) mit einer Trägeranordnung {5, 8, 9) verbunden ist, wobei der erste Feder-Masse-Schwinger über die ersten Federelemente (2) in dem zweiten Feder-Masse-Schwinger aufgehängt ist, und eine Antriebsanordnung (11), die der Antriebsplatte zugeordnet ist und ausgebildet ist, die Antriebsplatte (3) zum Schwingen anzuregen. Der Schwingkörper (1) ist zweiachsig beweglich über die ersten Federelemente (2) an der Antriebsplatte (3) aufgehängt und die Antriebsplatte (3) ist zweiachsig beweglich mit der Trägeranordnung (5, 8, 9) verbunden, wobei die Antriebsanordnung (11) als zweiachsiger Antrieb ausgeführt und ausgebildet ist, die Antriebsplatte (3) zweiachsig anzutreiben, derart, dass der Schwingkörper (1) zweiachsig mit jeweils einer seiner orthogonalen Eigenmoden oder nahe dieser Eigenmoden schwingt.
Abstract:
Provided is a technique capable of keeping a tilt angle constant even in a case where a warp in a direction along a tilting axis occurs on a tilting plate in a MEMS device which includes the tilting plate tilting with respect to a substrate. A MEMS device disclosed in the present description includes a substrate, a tilting plate arranged at an interval from the substrate, a support member fixed to the substrate, and a support beam having a first end connected to the support member and a second end connected to the tilting plate, and tiltably supporting the tilting plate around a tilting axis. In the MEMS device, one of the substrate and the tilting plate is formed with a protruding portion. In the MEMS device, at least a part of the protruding portion is included in a plane perpendicular to the tilting axis, and including a connecting portion of the tilting plate and the support beam. In the MEMS device, the at least a part of the protruding portion comes into contact with the other of the substrate and the tilting plate, when the tilting plate tilts.