公开(公告)号：WO1997008734A1

公开(公告)日：1997-03-06

申请号：PCT/US1996014157

申请日：1996-08-28

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： APPLIED MATERIALS, INC. ,  COLLINS, Kenneth ,  RICE, Michael ,  TROW, John ,  BUCHBERGER, Douglas ,  ASKARIAN, Eric ,  TSUI, Joshua ,  GROECHEL, David ,  HUNG, Raymond

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32458 ,  A21D2/185 ,  A23G3/346 ,  A23G9/52 ,  A23G2200/06 ,  A23L2/60 ,  A23L9/12 ,  A23L19/115 ,  A23L27/30 ,  A23L27/32 ,  A23L29/231 ,  A23L29/238 ,  A23L29/256 ,  A23L29/27 ,  A23L33/21 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/3345 ,  H01J2237/3346 ,  H01L21/6831

Abstract: The invention is embodied by a plasma reactor for processing a workpiece, including a reactor enclosure (105) defining a processing chamber (100), a semiconductor window (110), a base (120) within the chamber (100) for supporting the workpiece (125) during processing thereof, a gas inlet system (137) for admitting a plasma precursor gas into the chamber (100), and an inductive antenna (145) adjacent a side of the semiconductor window (110) opposite the base (120) for coupling power into the interior of the chamber (100) through the semiconductor window electrode (110).

Abstract translation: 本发明通过用于加工工件的等离子体反应器来实现，该反应器包括限定处理室（100）的反应器壳体（105），半导体窗口（110），腔室（100）内的基座（120） （125），用于将等离子体前体气体引入所述室（100）中的气体入口系统（137）以及与所述半导体窗口（110）的与所述基座（120）相对的一侧附近的感应天线（145） 用于通过半导体窗口电极（110）将动力耦合到腔室（100）的内部。