公开(公告)号：WO2006078408A3

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：PCT/US2005046342

申请日：2005-12-19

Applicant: TOKYO ELECTRON LTD ,  O'MEARA DAVID L ,  MAKU SHINGO

Inventor： O'MEARA DAVID L ,  MAKU SHINGO

IPC: H01L21/302

CPC classification number: C03C17/001 ,  C03C17/22 ,  C03C17/23 ,  C03C2217/228 ,  C03C2217/258 ,  C03C2218/31 ,  C03C2218/33 ,  C23C16/4405 ,  Y10S438/905

Abstract: A method and control system for treating a hafnium-based dielectric processing system (23) in which a system component of the processing system is exposed to a chlorine-containing gas (94). A residual hafnium by-product remaining in the processing system after a hafnium removal process is reacted with a chlorine- containing etchant derived from the chlorine-containing gas. A chlorinated hafnium product is volatilized for exhaustion from the processing system (23). The control system (90) can utilize a computer readable medium (1208) to introduce a chlorine-containing gas to the processing system, to adjust at least one of a temperature and a pressure in the processing system to produce from the chlorine-containing gas a chlorine-containing etchant (94) for dissolution of a residual hafnium by-product remaining in the processing system after a hafnium silicate, hafnium oxide, or hafnium oxynitride removal process and to exhaust a chlorinated hafnium product from the processing system 23).

Abstract translation: 一种用于处理铪系介电处理系统（23）的方法和控制系统，其中处理系统的系统部件暴露于含氯气体（94）。 在除去铪之后残留在处理系统中的铪副产物与来自含氯气体的含氯腐蚀剂反应。 氯化铪产物从处理系统（23）中挥发以用尽。 控制系统（90）可利用计算机可读介质（1208）向处理系统引入含氯气体，以调节处理系统中的温度和压力中的至少一个以从含氯气体中产生 用于在硅酸铪，氧化铪或氮氧化铪去除工艺之后残留在处理系统中的残余铪副产物溶解并从处理系统23中排出氯化铪产品的含氯蚀刻剂（94）。

公开(公告)号：WO2017122575A1

公开(公告)日：2017-07-20

申请号：PCT/JP2017/000160

申请日：2017-01-05

Applicant: 富士電機株式会社

Inventor： 内田　真治 ,  中田　仁志 ,  森谷　友博 ,  古田　旭 ,  島津　武仁

IPC: G11B5/738 ,  C23C14/06 ,  C23C14/14 ,  G11B5/65

CPC classification number: G11B5/732 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3642 ,  C03C17/3649 ,  C03C2217/216 ,  C03C2217/228 ,  C03C2217/252 ,  C03C2217/254 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/259 ,  C03C2217/261 ,  C03C2218/156 ,  C23C14/06 ,  C23C14/14 ,  G11B5/65 ,  G11B5/653 ,  G11B5/7325

Abstract: 本発明の目的は、（００２）配向したｈｃｐ構造を有するＲｕシード層を用いた、垂直磁気記録に適切な（００１）配向したＬ１ 0 型規則合金を含む磁気記録層を有する垂直磁気記録媒体を提供することである。本発明の磁気記録媒体は、基板と、Ｒｕを含む第１シード層と、ＺｎＯを含む第２シード層と、ＭｇＯを含む第３シード層と、規則合金を含む磁気記録層とをこの順に含み、第１シード層は（００２）配向した六方最密充填構造を有する。

Abstract translation:

本发明的目的，（002）与具有hcp结构的Ru籽晶层，适合于垂直磁记录（001）取向的取向L1 <子> 0 并且提供一种具有含有类型合金的磁记录层的垂直磁记录介质。 本发明的磁记录介质包括基板，含有Ru的第一晶种层，含有ZnO的第二晶种层，含有MgO的第三晶种层和含有有序合金的磁记录层 并且第一晶种层具有（002）取向的六方密排结构。

公开(公告)号：WO2017146770A1

公开(公告)日：2017-08-31

申请号：PCT/US2016/048913

申请日：2016-08-26

Applicant: VITRO, S.A.B. de C.V.

Inventor： WAGNER, Andrew V. ,  BUCHANAN, Michael J.

IPC: C03C17/36 ,  E06B3/66

CPC classification number: C03C17/366 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/3681 ,  C03C17/3689 ,  C03C2217/24 ,  C03C2217/256 ,  C03C2217/258 ,  C03C2218/152 ,  C03C2218/156 ,  E06B3/6715 ,  E06B9/24 ,  E06B2009/2417

Abstract: A low emissivity coating (30) includes a plurality of phase adjustment layers (40, 50, 62); a first metal functional layer (46); and a second metal functional layer (58) located over and spaced from the first metal functional layer (46). A ratio of the geometric thickness of the first metal functional layer divided by the geometric thickness of the second metal functional layer is in the range of 0.6 to 1. The low emissivity coating (30) provides a reference IGU summer/day SHGC of at least 0.4 and a reference IGU winter/night U factor of no greater than 0.4 BTU/hr-ft 2 -°F (2.27 W/m2-K).

Abstract translation: 低辐射率涂层（30）包括多个相位调整层（40,50,62）;以及其中， 第一金属功能层（46）; 和位于第一金属功能层（46）之上并与第一金属功能层（46）隔开的第二金属功能层（58）。 第一金属功能层的几何厚度除以第二金属功能层的几何厚度的比例在0.6至1的范围内。低辐射率涂层（30）提供至少一个参考IGU夏季/天SHGC，其至少为 0.4和参考IGU冬/夜U因子不大于0.4BTU / hr-ft 2→-F（2.27W / m 2 -K）。

公开(公告)号：WO2017054779A1

公开(公告)日：2017-04-06

申请号：PCT/CN2016/101413

申请日：2016-09-30

Applicant: HONG KONG BAPTIST UNIVERSITY

Inventor： CHEAH, Kok Wai ,  CHING, Suet Ying

IPC: G02B5/22 ,  G02B1/02

CPC classification number: G02B5/22 ,  C03C17/007 ,  C03C17/09 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/38 ,  C03C2217/252 ,  C03C2217/253 ,  C03C2217/256 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/26 ,  C03C2217/445 ,  C03C2217/45 ,  C03C2217/479 ,  C03C2218/151 ,  C23C14/18 ,  C23C14/20 ,  G02B1/14 ,  G02B5/008 ,  G02B5/0808

Abstract: A nano bi-material (A,B), electromagnetic spectrum shifter based on said nano bi-material (A,B) and method to produce said electromagnetic spectrum shifter using said nano bi-material (A,B) are described. In particular, nano bi-material (A,B) based electromagnetic spectrum shifter, e.g. color filters, with a wide range of transmission and color tunability and methods to produce said color filters are presented. The applications in color filters and production of color filters, reflectors and production of reflectors, and electromagnetic spectrum shifters and production of electromagnetic spectrum shifters are provided.

Abstract translation: 描述了基于所述纳米双材料（A，B）的纳米双材料（A，B），电磁光谱移位器和使用所述纳米双材料（A，B）产生所述电磁光谱移位器的方法。 特别地，基于纳米双材料（A，B）的电磁光谱移位器，例如， 提供具有广泛的透射和颜色可调性的滤色器以及产生所述滤色器的方法。 提供了滤色器的应用和滤色器的生产，反射器的反射器和反射器的生产，以及电磁光谱移位器的生产和电磁光谱变换器的生产。

公开(公告)号：WO2015124823A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/ES2015/070116

申请日：2015-02-20

Applicant: UNIVERSITAT DE BARCELONA ,  ADVANCED NANOTECHONOLOGIES, S. L.

Inventor： BERTRÁN SERRA, Enric ,  AMADE ROVIRA, Roger

IPC: C03C17/00

CPC classification number: C03C17/09 ,  C03C17/008 ,  C03C17/245 ,  C03C23/0075 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/26 ,  C03C2217/27 ,  C03C2217/29 ,  C03C2217/42 ,  C03C2217/75 ,  C03C2218/112 ,  C03C2218/151 ,  C03C2218/152 ,  C03C2218/156 ,  C03C2218/345 ,  C23C14/028 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/35 ,  C23C16/0254 ,  C23C16/18 ,  C23C18/04 ,  C23C18/08

Abstract: Superficie con propiedades de reducción de la luz difusa por condensación de agua y procedimiento de obtención de esta Superficie con propiedades de reducción de la luz difusa por condensación de agua, en la que los medios antivaho consisten en agregados atómicos adheridos a la superficie y dispersados por esta, en la que los agregados se seleccionan de entre los metales de transición y el silicio. También se refiere a un procedimiento de obtención de una superficie con propiedades de reducción de la difusión por condensación de agua a una longitud de onda seleccionada en el intervalo que va de 100 nm a 50 micrómetros, que comprende las etapas de seleccionar la longitud de onda, obtener una superficie de vidrio o polímero que ha sido sometida a un pulido óptico y adherir a la superficie agregados atómicos que se seleccionan de entre los metales de transición y el silicio con una separación entre estos del orden de la longitud de onda seleccionada o inferior. De este modo se obtiene una superficie antivaho duradera.

Abstract translation: 本发明涉及具有通过水凝缩减少光散射的性质的表面，其中除雾装置由固定在表面上并分散在其上的原子团组成，其中簇选自过渡金属和硅。 本发明还涉及一种生产表面的方法，该表面具有通过在100nm和50微米之间的范围内水凝结到选定波长的散射的性质，所述方法包括以下步骤：选择波长，获得玻璃或聚合物表面， 已经进行了光学抛光，并且将原子簇固定在表面上，所述簇选自过渡金属和硅，并且彼此间隔一定距离的所选波长或更小的数量级。 以这种方式，本发明可用于获得耐用的除油表面。

公开(公告)号：WO01071055A1

公开(公告)日：2001-09-27

申请号：PCT/JP2001/002037

申请日：2001-03-15

IPC: B32B9/00 ,  B01J21/06 ,  B01J23/20 ,  B01J23/745 ,  B01J23/755 ,  B01J35/02 ,  B01J37/02 ,  B32B15/04 ,  C03C17/00 ,  C03C17/245 ,  C03C17/34 ,  C23C14/02 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58 ,  C23C14/00

CPC classification number: C23C14/5806 ,  C03C17/008 ,  C03C17/2456 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/214 ,  C03C2217/217 ,  C03C2217/218 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/15 ,  C03C2218/154 ,  C23C14/024 ,  C23C14/083 ,  C23C14/58 ,  C23C14/5853 ,  Y10T428/131

Abstract: The surface resistance of a titanium oxide film can be controlled in 10 to 10 OMEGA /c by coating a titanium oxide film on a substrate by sputtering a target containing metallic titanium under an atmosphere at reduced pressure and then subjecting the film to heat treatment under an oxidizing, inert or reducing atmosphere, depending on the oxygen-deficient state of the film. It is possible that a small amount of niobium oxide is contained in the titanium oxide, or a niobium oxide film is provided as an underlying film.

Abstract translation: 通过在减压气氛下溅射含有金属钛的靶，在基板上涂覆氧化钛膜，可以将氧化钛膜的表面电阻控制在10 -9〜10 13Ω/ cm 3， 膜在氧化，惰性或还原气氛下进行热处理，这取决于膜的缺氧状态。 氧化钛中含有少量的氧化铌，或者可以提供铌氧化物膜作为下面的膜。

公开(公告)号：WO2016202801A1

公开(公告)日：2016-12-22

申请号：PCT/EP2016/063636

申请日：2016-06-14

Applicant: AGC GLASS EUROPE

Inventor： LAMBRICHT, Thomas ,  DEPAUW, Jean-Michel ,  MARENNE, Ingrid ,  BOLAND, François ,  DOGIMONT, Audrey ,  DEGAND, Aline ,  HEVESI, Kadosa

IPC: C03C3/087 ,  C03C4/00 ,  C03C4/02 ,  C03C17/36

CPC classification number: C03C3/087 ,  C03C4/0092 ,  C03C4/02 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3642 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/216 ,  C03C2217/256 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/281 ,  C03C2218/156

Abstract: L'invention porte sur des substrats, en particulier des substrats transparents, éventuellement colorés, revêtus d'une couche réfléchissant les infrarouges et pouvant être utilisés en tant que vitrages de bâtiments ou de véhicules. Ces substrats revêtus sont formés par la combinaison d'un substrat en verre dont la composition présente un rédox inférieur à 15%, caractérisé par une réflexion infrarouge RIR V telle que RIR V ≥ 1.087 * TL V , TL V étant la transmission lumineuse du verre, et d'une couche réfléchissant les infrarouges caractérisée par une transmission lumineuse TL C telle que TL C ≥ 1.3 * TIR C , TIR C étant la transmission infrarouge de la couche.

Abstract translation: 本发明涉及基材，特别是涉及透明基材，任选地着色，涂覆有红外反射层，并且能够用作建筑物或车辆中的玻璃窗。 所述涂覆的基材由组合物具有小于15％的氧化还原反应的玻璃基板的组合构成，其特征在于红外反射RIRV，使得RVV≥1.087* TLV，其中TLV是玻璃的透光率;以及 红外反射层，其特征在于透光TLC，使得TLC≥1.3* TIRC，其中TIRC是该层的红外透射。

公开(公告)号：WO2016012325A1

公开(公告)日：2016-01-28

申请号：PCT/EP2015/066140

申请日：2015-07-15

Applicant: AGC GLASS EUROPE

Inventor： DUMONT, Jacques ,  DEPAUW, Jean-Michel

IPC: C03C17/36

CPC classification number: C03C17/3684 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/252 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/268 ,  C03C2217/281 ,  C03C2217/72 ,  C03C2218/156

Abstract: L'invention se rapport à un panneau de verre décoratif quasiment opaque comprenant un substrat en matière vitreuse portant un empilage multicouches incluant au moins une couche fonctionnelle absorbant la lumière et des revêtements diélectriques transparents de telle sorte que la couche fonctionnelle absorbant la lumière soit enfermée entre des revêtements diélectriques. La couche fonctionnelle absorbant la lumière a une épaisseur géométrique comprise entre 25 et 140 nm, et un coefficient d'extinction k d'au moins 1,8; l'empilage multicouches comprend de plus au moins une couche d'atténuation disposée entre le substrat et la couche fonctionnelle absorbant la lumière ayant une épaisseu comprise entre 1 et 50 nm, ayant un indice de réfraction n supérieur à 1 et 10 un coefficient d'extinction k d'au moins 0,5, et un revêtement diélectrique transparent dont l'épaisseur optique est comprise entre 30 et 160 nm, et dont l'indice de réfraction n est supérieur à 1,5, est disposé adjacent à la couche d'atténuation du côté opposé à la couche fonctionnelle absorbant la lumière. L'invention fournit un panneau décoratif procurant un effet esthétique agréable.

Abstract translation: 本发明涉及一种几乎不透明的装饰玻璃面板，其包括由玻璃质材料制成的衬底，该衬底具有包括至少一个光吸收功能层和透明电介质涂层的多层叠层，使得光吸收功能层被包封在电介质涂层之间。 光吸收功能层的几何厚度为25〜140nm，消光系数k为1.8以上。 此外，多层叠层还包括至少一个设置在基板和光吸收功能层之间的衰减层，其厚度为1至50nm，折射率n高于1，消光系数k为至少0.5 。 此外，将光学厚度为30〜160nm，折射率n高于1.5的透明电介质涂层放置在与吸光功能层相反一侧的衰减层附近。 本发明提供了一种提供愉悦的美学效果的装饰面板。

公开(公告)号：WO2015194485A1

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：PCT/JP2015/067072

申请日：2015-06-12

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 稲本　美砂 ,  澁谷　崇 ,  世良　洋一 ,  岡田　崇嗣

IPC: G02B5/28 ,  B32B15/04 ,  G02B5/22 ,  B44C3/02 ,  B44F1/02

CPC classification number: B44F1/02 ,  B32B3/18 ,  B32B3/26 ,  B32B7/02 ,  B32B15/04 ,  B32B15/20 ,  B32B2307/40 ,  B32B2307/416 ,  B44C1/227 ,  B44C3/02 ,  B44F1/06 ,  C03C15/02 ,  C03C17/09 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3642 ,  C03C17/3649 ,  C03C2217/252 ,  C03C2217/253 ,  C03C2217/256 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/259 ,  C03C2217/268 ,  C03C2217/27 ,  C03C2217/72 ,  C03C2218/156 ,  C23F1/00 ,  G02B5/0294 ,  G02B5/0808 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G02B5/286

Abstract: 　基体を有する積層体であって、前記基体は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、当該積層体は、前記基体の前記第１の表面側に金属膜を有し、前記基体と前記金属膜の間には、可視光領域の光に対して光学的な影響を及ぼす空隙が分散されており、当該積層体の前記基体の第２の表面側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上であり、反射率（波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下であり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ ＊ が７０以下であることを特徴とする積層体。

Abstract translation: 一种具有基板的层叠体，其中，所述基板包括彼此相对的第一和第二表面，所述层压体在所述基板的第一表面侧设置有金属膜，并且在光学上影响可见光区域中的光的空隙分散在 基板和金属膜，所述层叠体的特征在于，当从层叠体的基板的第二面侧测定时，对可见光的吸收率（波长范围为400〜700nm）为50％以上 ，其反射率（400-700nm的波长范围的平均值）为40％以下，D65光源的10°视野的亮度（L *）为70以下。

公开(公告)号：WO2014188127A1

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/FR2014/051193

申请日：2014-05-21

Applicant: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE

Inventor： NADAUD, Nicolas ,  MIMOUN, Emmanuel ,  DUBOST, Brice

IPC: B23K26/00 ,  B23K26/08

CPC classification number: C22F1/183 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0066 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/0624 ,  B23K26/0626 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/08 ,  B23K26/352 ,  B23K2203/50 ,  C03C17/09 ,  C03C2217/258 ,  C03C2218/328 ,  C21D1/34 ,  C21D9/0068

Abstract: Ce procédé pour l'obtention d'un substrat muni d'un revêtement, où le revêtement comporte un motif à modulation spatiale d'au moins une propriété du revêtement, comprend une étape de traitement thermique au moyen d'un rayonnement laser d'un revêtement continu déposé sur le substrat. L'étape de traitement thermique étant telle qu'on irradie le substrat avec le rayonnement laser focalisé sur le revêtement sous la forme d'au moins une ligne laser, en conservant le revêtement continu et sans fusion du revêtement, et on impose un déplacement relatif du substrat et de la ligne laser focalisée sur le revêtement selon une direction (X) transversale à la direction longitudinale (Y) de la ligne laser, tout en modulant temporellement au cours de ce déplacement relatif la puissance (P las ) de la ligne laser en fonction de la vitesse (v) de déplacement relatif et des dimensions du motif selon la direction (X) de déplacement relatif.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于生产具有涂层的基底的方法，其中涂层包括具有至少涂层性质的空间调制的图案，所述方法包括通过连续的激光辐射进行热处理的步骤 涂层沉积在基材上。 热处理的步骤是这样的，即以至少一条激光线形式聚焦在涂层上的激光照射衬底，保持连续涂层并且不熔化涂层，以及衬底和激光器的相对运动 在横向于激光线的纵向（Y）的方向（X）施加聚焦在涂层上的线，在所述相对运动期间，根据速度（v）在时间上调制激光线的功率（Plas） 相对运动的方向（X）的相对运动和图案的尺寸。