도전성 패턴 형성용 조성물, 이를 사용한 도전성 패턴 형성 방법과, 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체
    1.
    发明申请
    도전성 패턴 형성용 조성물, 이를 사용한 도전성 패턴 형성 방법과, 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체 审中-公开
    用于形成导电图案的组合物,使用其形成导电图案的方法和具有导电图案的树脂结构

    公开(公告)号:WO2016039548A1

    公开(公告)日:2016-03-17

    申请号:PCT/KR2015/009195

    申请日:2015-09-01

    Abstract: 본 발명은 각종 고분자 수지 제품 또는 수지층 상에 매우 단순화된 공정으로 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있게 하는 도전성 패턴 형성용 조성물, 이를 사용한 도전성 패턴 형성 방법과, 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체에 관한 것이다. 상기 도전성 패턴 형성용 조성물은 고분자 수지; 및 제 1 금속, 제 2 금속 및 제 3 금속을 포함하는 비도전성 금속 화합물로서, 상기 제 1 금속, 제 2 금속 및 제 3 금속 중 2종의 금속을 포함하고 모서리를 공유하는 8면체들이 서로 2차원적으로 연결된 구조를 갖는 복수의 제 1 층(edge-shared octahedral layer)과, 상기 제 1 층과 다른 종류의 금속을 포함하고 서로 인접하는 제 1 층 사이에 배열된 제 2 층을 포함하는 입체 구조를 갖는 비도전성 금속 화합물을 포함하고, 전자기파 조사에 의해, 상기 비도전성 금속 화합물로부터, 상기 제 1 금속, 제 2 금속 또는 제 3 금속이나 그 이온을 포함하는 금속핵이 형성되는 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及用于形成导电图案的组合物,其允许通过非常简化的工艺在各种聚合树脂产品或树脂层上形成微导电图案,使用该组合物形成导电图案的方法,以及具有 导电图案。 用于形成导电图案的组合物包括:聚合物树脂; 以及包含第一金属,第二金属和第三金属的非导电金属化合物,其中所述非导电金属化合物具有三维结构,所述三维结构包括多个第一层(边缘共享八面体层),其具有以下结构:八面体包含两个 第一金属,第二金属和第三金属中的彼此分开的边缘的金属彼此二维连接,第二层包括与第一层不同类型的金属并被布置 在相邻的第一层之间,并且其中通过电磁辐射由非导电金属化合物形成包括第一金属,第二金属或第三金属或其离子的金属芯。

    GALVANISIERVERFAHREN FÜR INSELSTRUKTUREN
    2.
    发明申请
    GALVANISIERVERFAHREN FÜR INSELSTRUKTUREN 审中-公开
    电镀FOR岛状结构

    公开(公告)号:WO2015169495A1

    公开(公告)日:2015-11-12

    申请号:PCT/EP2015/055659

    申请日:2015-03-18

    Applicant: PREH GMBH

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines partiell galvanisch beschichteten Substrats (10,11): Bereitstellen eines Substrats (10, 11) mit wenigstens einer elektrisch leitenden Oberfläche; Partielles Aufbringen einer Nichtleiterschicht (2) auf der elektrisch leitenden Oberfläche des Substrats (10, 11) unter Ausbildung wenigstens einer verbleibenden, in der Nichtleiterschicht (2) eingebetteten Insel (1) der elektrisch leitenden Oberfläche des Substrats; Galvanisches Beschichten wenigstens der Insel (1) mit einer metallischen Schicht (13), wobei beim Schritt des galvanischen Beschichtens des Substrats das Substrat (10, 11) im Bereich außerhalb der Insel (1) elektrisch kontaktiert wird.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备的局部电镀涂覆的基底(10,11)提供衬底(10,11)与至少一个导电表面的方法; 嵌入有至少一个剩余的电介质层中的形成在基板(10,11)的导电表面上部分地施加介电层(2)在衬底的导电表面(2)的岛(1); 的(1)具有一个金属层(13),其中,在电沉积步骤至少岛上岛(1)以外的涂覆在该地区的基底,在基底(10,11)电涂层电接触。

    METHODS OF PATTERNING A DEPOSIT METAL ON A POLYMERIC SUBSTRATE
    9.
    发明申请
    METHODS OF PATTERNING A DEPOSIT METAL ON A POLYMERIC SUBSTRATE 审中-公开
    在聚合物基体上沉积金属的方法

    公开(公告)号:WO2008048840A3

    公开(公告)日:2008-06-12

    申请号:PCT/US2007081027

    申请日:2007-10-11

    Abstract: A method of patterning a deposit metal on a polymeric substrate is described. The method includes providing a polymeric film substrate having a major surface with a relief pattern having a recessed region and an adjacent raised region, depositing a first material onto the major surface of the polymeric film substrate to form a coated polymeric film substrate, forming a layer of a functionalizing material selectively onto the raised region of the coated polymeric film substrate to form a functionalized raised region and an unfunctionalized recessed region, and depositing electrolessly a deposit metal selectively on the unfunctionalized recessed region.

    Abstract translation: 描述了在聚合物基底上图案化沉积金属的方法。 该方法包括提供具有主表面的聚合物膜基底,具有凹陷区域和相邻凸起区域的浮雕图案,将第一材料沉积到聚合物膜基材的主表面上以形成涂覆的聚合物膜基材,形成层 的官能化材料选择性地涂覆到涂覆的聚合物膜基材的凸起区域上以形成官能化的凸起区域和未功能化的凹陷区域,并且将沉积金属选择性地沉积在未功能化的凹陷区域上。

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