公开(公告)号：WO2006095894A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：PCT/JP2006/304835

申请日：2006-03-07

Applicant: 株式会社トクヤマ ,  松永 智徳 ,  綿引 ゆき

Inventor： 松永 智徳 ,  綿引 ゆき

IPC: C10M169/04 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  G11B5/31 ,  C10M101/02 ,  C10M105/02 ,  C10M129/06 ,  C10M129/16 ,  C10M129/40 ,  C10M133/04 ,  C10M133/16

CPC classification number: C10M169/04 ,  C10M141/06 ,  C10M2203/0206 ,  C10M2203/045 ,  C10M2203/065 ,  C10M2203/1006 ,  C10M2207/021 ,  C10M2207/04 ,  C10M2207/10 ,  C10M2207/125 ,  C10M2207/126 ,  C10M2215/02 ,  C10M2215/086 ,  C10M2219/044 ,  C10N2240/20 ,  C10N2240/204 ,  G11B5/102 ,  G11B5/1871 ,  G11B5/3169

Abstract: A lubricant composition for use in the bonded-abrasive polishing of magnetic heads. It comprises 100 parts by mass of a hydrocarbon solvent and, incorporated therein, 0.001-4.999 parts by mass of an organic onium salt, e.g., tetraoctylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, and 0.001-4.999 parts by mass of a C 8-25 fatty acid, the sum of the organic onium salt and the fatty acid being 0.01-5 parts by mass. With the lubricant composition, sufficient productivity can be maintained in the step of finish polishing of magnetic heads without arousing the breaking or reliability decrease caused by static buildup.

Abstract translation: 用于磁头研磨研磨的润滑剂组合物。 其包含100质量份烃溶剂，并且在其中加入0.001-4.999质量份有机鎓盐，例如双（三氟甲磺酰基）酰亚胺四辛基铵和0.001〜4.999质量份的C 8 -25脂肪酸，有机鎓盐和脂肪酸的总和为0.01-5质量份。 使用润滑剂组合物，可以在磁头的精加工步骤中保持足够的生产率，而不会引起由静电积聚引起的断裂或可靠性降低。

公开(公告)号：WO2008152702A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：PCT/JP2007/061889

申请日：2007-06-13

Applicant: 富士通株式会社 ,  鈴木 健太郎 ,  橘 雅典 ,  山本 保 ,  竹下 弘人

Inventor： 鈴木 健太郎 ,  橘 雅典 ,  山本 保 ,  竹下 弘人

IPC: G11B5/31

CPC classification number: G11B5/3169 ,  G11B5/102 ,  G11B5/1278 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/6005

Abstract: 　主磁極等の鍍金層の高さを、研磨を用いて正確に設定することの可能な鍍金層の研磨方法、および、それを用いて主磁極の高さを正確に設定することの可能な磁気記録ヘッドの製造方法を提供する。 　基板上にパターニングされた鍍金層８０ａの上面および側面に第１のストッパ層８３を形成する工程と、第１のストッパ層８３上から鍍金層８０ａを覆う、鍍金層８０ａの高さとほぼ同じ層厚の絶縁層８１を形成する工程と、鍍金層８０ａ上を除く絶縁層８１の表面に、第２のストッパ層８６を形成する工程と、第２のストッパ層８６から露出した、鍍金層８０ａ上の絶縁層８１を、第１のストッパ層８３の上部および第２のストッパ層８６と同じ高さにまで平坦化する工程と、鍍金層８０ａ上面の第１のストッパ層８３、および、第２のストッパ層８６を除去する工程と、絶縁層８１および鍍金層８０ａを研磨して平坦化する工程とを含む。  

Abstract translation: 可以通过研磨精确地设定主磁极的镀层的高度等的镀层的研磨方法; 以及用于制造磁记录头的方法，其中通过使用该方法可以精确地设定主磁极的高度。 该方法包括在基板上的图案化镀层（80a）的上表面和侧面上形成第一阻挡层（83）的步骤; 形成厚度基本上等于镀层（80a）的高度的绝缘层（81），以从第一阻挡层（83）的上方覆盖电镀层（80a）; 在除了镀层（80a）上的区域之外的绝缘层（81）的表面上形成第二阻挡层（86） 使从第二阻挡层（86）暴露的镀层（80a）上的绝缘层（81）变平至与第二阻挡层（86）和第一阻挡层（83）的上部相同的高度; 除去镀层（80a）的上表面上的第一阻挡层（83），还除去第二阻挡层（86）。 并对绝缘层（81）和镀层（80a）进行抛光，从而得到平坦化。

公开(公告)号：WO2007105477A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：PCT/JP2007/053556

申请日：2007-02-26

Applicant: 京セラ株式会社 ,  須恵 敏幸 ,  中原 正博 ,  源通 拓哉

Inventor： 須恵 敏幸 ,  中原 正博 ,  源通 拓哉

IPC: G11B5/60 ,  C04B35/10 ,  G11B5/31 ,  G11B5/39 ,  G11B21/21

CPC classification number: G11B5/3173 ,  B82Y30/00 ,  C04B35/488 ,  C04B35/5626 ,  C04B35/58007 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/62655 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3847 ,  C04B2235/3856 ,  C04B2235/3886 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/5454 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/781 ,  C04B2235/785 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/963 ,  G11B5/3106 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3169 ,  G11B5/6064 ,  G11B5/6082

Abstract: 　本発明は、アルミナを３５質量％以上６０質量％以下、導電性化合物を４０質量％以上６５質量％以下含有する焼結体からなる磁気ヘッド用基板に関する。導電性化合物は、タングステンの炭化物、窒化物および炭窒化物のうちから選択される少なくとも１種を含んでいる。前記焼結体の最大結晶粒径が４μｍ以下（但し、０μｍを除く）である。本発明ではさらに、前記磁気ヘッド用基板から形成されたスライダを備えた磁気ヘッド、およびその磁気ヘッドを備えた記録媒体駆動装置が提供される。

Abstract translation: 本发明提供一种由含有35质量％以上但不高于60质量％的氧化铝的烧结体和40质量％以上且不高于65质量％的导电性化合物构成的磁头基板。 导电化合物包括选自钨的碳酸盐，氮化物和碳氮化物中的至少一种材料。 烧结体的最大结晶粒径为4μm以下（不包括0μm）。 此外，还提供了一种设置有由磁头基板形成的滑块的磁头和具有这种磁头的记录介质驱动装置。

公开(公告)号：WO2003068882A1

公开(公告)日：2003-08-21

申请号：PCT/US2003/004144

申请日：2003-02-11

Applicant: EKC TECHNOLOGY, INC.

Inventor： SMALL, Robert, J. ,  SCOTT, Brandon, S.

IPC: C09G1/02

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/044 ,  C03C19/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1445 ,  C09K3/1463 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3169 ,  Y02P20/582

Abstract: The present invention provides a composition for chemical-mechanical polishing which comprises at least one abrasive particle having a surface at least partially coated by a activator. The activator comprises a metal other than a metal of Group 4(b), Group 5(b) or Group 6(b). The composition further comprises at least one oxidizing agent. The composition is believed to be effective by virtue of the interaction between the activator coated on the surface of the abrasive particles and the oxidizing agent, at the activator surface, to form free radicals. The invention further provides a method that employs the composition in the polishing of a feature or layer, such as a metal film, on a substrate surface. The invention additionally provides a substrate produced this method.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于化学机械抛光的组合物，其包括至少一种具有至少部分地被活化剂涂覆的表面的磨料颗粒。 活化剂包括不同于第4组（b），第5组（b）或第6组（b）组的金属的金属。 组合物还包含至少一种氧化剂。 认为组合物由于在活化剂表面上涂覆在磨料颗粒表面上的活化剂与氧化剂之间的相互作用而有效，以形成自由基。 本发明进一步提供了一种在基底表面上抛光特征或层如金属膜的组合物的方法。 本发明另外提供了制造这种方法的基材。

公开(公告)号：WO2010119585A1

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：PCT/JP2009/069420

申请日：2009-11-16

Applicant: 株式会社日立製作所 ,  三間 彬 ,  難波 明博 ,  須賀 卓 ,  佐々木 新治 ,  高橋 俊雄

Inventor： 三間　彬 ,  難波　明博 ,  須賀　卓 ,  佐々木　新治 ,  高橋　俊雄

IPC: G11B5/31 ,  B24B37/04 ,  B24B49/02 ,  B24B49/10

CPC classification number: G11B5/3169 ,  B24B37/04 ,  B24B49/02 ,  B24B49/10 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/455

Abstract: 　ワイヤボンディングによる接続なしで研磨量などの加工量検知を実現する技術を提供するために、研磨装置において、被研磨物２上に研磨により体積が変化する伝導性パターンで形成した容量５と、伝導性パターンで形成した被研磨物側インダクタ４を有し、容量５と被研磨物側インダクタ４はＬＣ共振器を構成している。また、研磨量検出器７に接続した検出用基板１に伝導性パターンで形成した検出側インダクタ３を有し、被研磨物側インダクタ４と検出側インダクタ３の電磁結合を介して、検出側から被研磨物側を見たインピーダンスをＲＦ検出する。研磨により被研磨物２上の容量５が変化し、それに応じてＬＣ共振器の共振周波数変量を研磨量検出器７でモニタすることで研磨量を算出する。

Abstract translation: 为了提供一种技术，通过该技术可以在没有引线接合的情况下检测诸如研磨量的处理量，研磨装置具有通过导电图案形成在磨耗对象（2）上的容量（5） 其体积由磨损变化，以及由导电图案形成的磨耗目标侧电感器（4）; 并且容量（5）和磨耗目标侧电感器（4）构成LC谐振器。 检测侧电感器（3）由与磨损量检测器（7）连接的检测基板（1）上的导电图案形成。 通过磨耗目标侧电感器（4）和检测侧电感器（3）的电磁耦合，RF检测从检测侧到磨损对象侧的阻抗。 磨损目标（2）上的容量（5）通过研磨而变化，并且根据此，由磨损量检测器（7）监测LC谐振器的共振频率变化量，从而计算磨损量。

公开(公告)号：WO2009057658A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：PCT/JP2008/069685

申请日：2008-10-29

Applicant: 京セラ株式会社 ,  王 雨叢 ,  中澤 秀司 ,  源通 拓哉

Inventor： 王 雨叢 ,  中澤 秀司 ,  源通 拓哉

IPC: G11B5/60 ,  C04B35/10 ,  G11B5/31 ,  G11B21/21

CPC classification number: G11B5/3106 ,  C04B35/117 ,  C04B35/62695 ,  C04B35/645 ,  C04B35/6455 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3856 ,  C04B2235/3886 ,  C04B2235/3895 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6581 ,  C04B2235/661 ,  C04B2235/785 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/963 ,  G11B5/102 ,  G11B5/255 ,  G11B5/3169 ,  G11B5/3173 ,  G11B5/6082 ,  Y10T428/1157 ,  Y10T428/1179

Abstract: 　本発明は、Ａｌ ２ Ｏ ３ が６０質量％以上７０質量％以下、ＴｉＣ Ｘ Ｏ Ｙ Ｎ Ｚ （但し、Ｘ、ＹおよびＺは、０．５≦Ｘ≦０．９９３、０．００５≦Ｙ≦０．３０、０．００２≦Ｚ≦０．２０、０．５０７≦Ｘ＋Ｙ＋Ｚ≦１である。）が３０質量％以上４０質量％以下の範囲の焼結体からなる磁気ヘッド用基板に関する。焼結体は、切断面における任意の１０μｍ以上の直線上に存在するＡｌ ２ Ｏ ３ の結晶粒子およびＴｉＣ Ｘ Ｏ Ｙ Ｎ Ｚ の結晶粒子の個数の合計に対して、前記ＴｉＣ Ｘ Ｏ Ｙ Ｎ Ｚ の結晶粒子の個数の比率が５５％以上７５％以下である。本発明はさらに、前記磁気ヘッド用基板から得られる磁気ヘッド、および前記磁気ヘッドを備えた記録媒体駆動装置に関する。

Abstract translation: 一种磁头用基材，由含有60-70质量％Al2O3和30-40质量％TiCXOYNZ（其中X，Y和Z满足0.5 = X = 0.993,0.005 = Y = 0.30,0.002 = Z = 0.20和0.507 = X + Y + Z = 1）。 在烧结体的一部分中，存在于长度为10μm以上的任何直线上存在的TiCXOYNZ晶粒数量的比例为55-75％，基于存在于管线上的Al 2 O 3晶粒数和 TiCXOYNZ晶粒的晶粒。 还提供有：从磁头基板获得的磁头; 以及采用磁头的记录媒体驱动。

公开(公告)号：WO2008139513A1

公开(公告)日：2008-11-20

申请号：PCT/JP2007/059147

申请日：2007-04-27

Applicant: 富士通株式会社 ,  小室 勉

Inventor： 小室 勉

IPC: G11B5/31 ,  G11B5/455

CPC classification number: G11B5/3166 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3169

Abstract: 　外面がストッパ膜等の第１非磁性膜で覆われ、その第１非磁性膜の上からさらにアルミナ膜等の第２非磁性膜で覆われた磁極を研磨加工して、被研磨面において露出した磁極の幅を測定する際に、磁極の幅を高精度に測定することが可能な磁極幅測定方法を提供する。 　外面が第１非磁性膜８３で覆われ、第１非磁性膜８３の上からさらに第２非磁性膜８１で覆われた磁極８０ａを研磨加工して、研磨加工の被研磨面において少なくとも磁極８０ａの一部を第１および第２非磁性膜８３，８１から露出させ、露出した磁極８０ａの幅を測定する磁極幅測定方法であって、前記被研磨面に、磁極８０ａおよび第２非磁性膜８１よりも第１非磁性膜８３に対する除去レートの高い除去加工を行った後、前記露出した磁極８０ａの幅ｗを測定する。

Abstract translation: 提供一种能够高精度地测量外露极的宽度的极宽测量方法，该极具有涂覆有第一非磁性膜（例如阻挡膜）的外表面，该第一非磁性膜涂覆有第二非磁性膜 ，例如氧化铝膜，涂覆有第一和第二非磁性膜的极被抛光，使得极在抛光面部分地暴露。 根据极宽度测定方法，将极（80a）的外表面涂覆有第一非磁性膜（83），并通过第一非磁性膜（83）进一步涂覆有第二非磁性膜（81）， 抛光所得的极（80a）以去除第一和第二非磁性膜（83,81），使得极（80a）的至少一部分在抛光面处露出，并且测量暴露极（80a）的宽度 。 对待抛光的面进行去除处理，使得除去第一非磁性膜（83）的速度高于去除极（80a）和第二非磁性膜（81）的速度，之后，宽度（ 测量曝光极（80a）的宽度（w）。

公开(公告)号：WO1998018596A1

公开(公告)日：1998-05-07

申请号：PCT/US1997001324

申请日：1997-01-30

Applicant: SEAGATE TECHNOLOGY, INC. ,  HAO, Shanlin, X. ,  STOVER, Lance, E. ,  KEEL, Beat, G.

Inventor： SEAGATE TECHNOLOGY, INC.

IPC: B24B49/00

CPC classification number: B24B37/00 ,  B23Q15/02 ,  B24B37/048 ,  B24B41/06 ,  B24B49/02 ,  B24B49/10 ,  G11B5/102 ,  G11B5/1871 ,  G11B5/232 ,  G11B5/3106 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/313 ,  G11B5/3166 ,  G11B5/3169 ,  G11B5/3903 ,  Y10T29/49037

Abstract: An electrical lap guide (ELG) system and method are disclosed for use in lapping a bar (10) of magnetic transducer carrying sliders to a desired transducer height. A first ELG (ELG1) contained within the bar has at least two first ELG resistive elements (R11, R12). A second ELG (ELG2) contained within the bar has at least two second ELG resistive elements (R21, R23). A first of the at least two first ELG resistive elements is electrically coupled to a first of the at least two second ELG resistive elements to thereby reduce a total number of leads needed between a data acquisition unit (100) and the bar (10) during lapping. The reduction in required data acquisition unit (100) leads (L) allows more ELGs to be included on each bar (10) in order to more accurately control the lapping process

Abstract translation: 公开了一种用于将携带滑块的磁性换能器的杆（10）研磨到期望的换能器高度的电牵引导引（ELG）系统和方法。 包含在棒内的第一ELG（ELG1）具有至少两个第一ELG电阻元件（R11，R12）。 包含在棒内的第二ELG（ELG2）具有至少两个第二ELG电阻元件（R21，R23）。 所述至少两个第一ELG电阻元件中的第一个电耦合到所述至少两个第二ELG电阻元件中的第一ELG电阻元件，从而在数据采集单元（100）和所述条（10）期间减少所需导线的总数 研磨。 所需数据采集单元（100）引线（L）的减少允许在每个条（10）上包括更多的ELG，以便更精确地控制研磨过程

公开(公告)号：WO2015106033A1

公开(公告)日：2015-07-16

申请号：PCT/US2015/010698

申请日：2015-01-08

Applicant: WESTERN DIGITAL (FREMONT), LLC

Inventor： MIRANDA, Leo Michael, C. ,  MORAVEC, Mark, D. ,  LIM, Tang Hyok ,  ILAW, Reymon, G.

IPC: G11B5/127

CPC classification number: G11B5/3166 ,  B24B37/042 ,  B24B37/048 ,  B24B37/07 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3169 ,  G11B5/3173 ,  G11B5/3196 ,  G11B5/455 ,  Y10T29/49032 ,  Y10T29/49036 ,  Y10T29/49041 ,  Y10T29/49053

Abstract: Systems and methods are provided for manufacturing magneto-resistive devices utilized in magneto-resistive read elements by depositing a plurality of rows of magnetic transducers on a wafer. The wafer may then be diced/cut into bars of active device regions for incorporation into a magnetic recording head. Sampling of a subset of bars from one or more bar sections of the wafer may be processed to obtain feedback associated with magnetic erase width (MEW). An air bearing surface (ABS) tilt angle based on the MEW feedback may then be applied to the one or more bar sections of the wafer during subsequent processing to optimize the magnetic performance of each resulting magneto-resistive device.

Abstract translation: 提供了通过在晶片上沉积多行磁性换能器来制造用于磁阻读取元件的磁阻器件的系统和方法。 然后可以将晶片切割/切割成有源器件区域的条，以结合到磁记录头中。 可以处理来自晶片的一个或多个条部分的棒子集的取样以获得与磁擦除宽度（MEW）相关联的反馈。 然后可以在后续处理期间将基于MEW反馈的空气轴承表面（ABS）倾斜角施加到晶片的一个或多个杆部分，以优化每个所得到的磁阻装置的磁性能。

公开(公告)号：WO2014062222A1

公开(公告)日：2014-04-24

申请号：PCT/US2013/030659

申请日：2013-03-13

Applicant: SEAGATE TECHNOLOGY LLC ,  PITCHER, Philip, George ,  BRAND, John, L. ,  REJDA, Edwin, F. ,  FULLER, Richard, M.

Inventor： PITCHER, Philip, George ,  BRAND, John, L. ,  REJDA, Edwin, F. ,  FULLER, Richard, M.

IPC: G11B5/31

CPC classification number: H01F10/30 ,  G11B5/313 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3169 ,  H01F41/00 ,  Y10T428/1193 ,  Y10T428/261 ,  Y10T428/265

Abstract: Articles that include a magnetic structure; an intermediate layer, the intermediate layer positioned on the magnetic structure, the intermediate layer having a thickness from about 3 Å to about 50 Å, the intermediate layer including a bottom interface layer, the bottom interface layer positioned adjacent the magnetic structure, the bottom interface layer including atoms of a metal bonded to atoms, compounds, or both of the magnetic structure; an interlayer, the interlayer positioned on the bottom interface layer, the interlayer including oxides of the metal; and a top interface layer, the top interface layer positioned adjacent the interlayer, the top interface layer including atoms of the metal, oxides of the metal, or some combination thereof bonded to atoms or compounds of the adjacent overcoat layer; and an overcoat layer, the overcoat layer positioned on the top interface layer of the intermediate layer.

Abstract translation: 包括磁性结构的文章; 中间层，位于磁性结构上的中间层，中间层的厚度约为约至约为50埃，中间层包括底部界面层，底部界面层位于磁性结构附近，底部界面 层，包括键合到原子，化合物或两者的磁性结构的金属的原子; 中间层，位于底部界面层上的中间层，包含金属的氧化物的中间层; 以及顶部界面层，所述顶部界面层位于所述中间层附近，所述顶部界面层包括所述金属的原子，所述金属的氧化物或其结合到所述相邻外涂层的原子或化合物的某些组合; 和外涂层，该外涂层位于中间层的顶部界面层上。