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    PROCESSES AND APPLICATIONS FOR TRANSITION METAL OXIDE COATED SUBSTRATES
    3.
    发明申请
    PROCESSES AND APPLICATIONS FOR TRANSITION METAL OXIDE COATED SUBSTRATES 审中-公开
    过渡金属氧化物涂层基体的工艺及应用

    公开(公告)号：WO1993003861A1

    公开(公告)日：1993-03-04

    申请号：PCT/US1992006758

    申请日：1992-08-08

    Applicant: ENSCI, INC. ,  CLOUGH, Thomas, J. ,  GROVESNOR, Victor, L. ,  PINSKY, Naum

    Inventor： ENSCI, INC.

    IPC: B05D05/12

    CPC classification number: B05D5/12 ,  C04B41/5027 ,  C04B41/5072 ,  C04B2111/94 ,  D01F11/123 ,  G11B5/133 ,  G11B5/8404 ,  G11B5/858 ,  H01B1/08 ,  H01F1/36 ,  C04B41/4523 ,  C04B41/4545 ,  C04B41/455 ,  C04B41/51

    Abstract: Processes for coating three dimensional inorganic substrates, with shielded surfaces, with transition metal oxide-containing coatings are disclosed. Such processes comprise contacting a substrate with a transition metal oxide precursor, preferably maintaining the precursor coated substrate at conditions to equilibrate the coating, and then oxidizing the precursor to form a substrate containing transition metal oxide on at least a portion of the three dimensions and shielded surfaces of the substrate. Also disclosed are substrates coated with transition metal oxide-containing coatings for use in various applications including catalysis, shielding, heating and electro rheological applications using elements such as inorganic, fluid, porous and polymer matrix elements.

    Abstract translation: 公开了用含有过渡金属氧化物的涂层涂覆具有屏蔽表面的三维无机基材的方法。 这样的方法包括使基底与过渡金属氧化物前体接触，优选地将前体涂覆的基底保持在使涂层平衡的条件下，然后氧化前体以在三维的至少一部分上形成含有过渡金属氧化物的基底并屏蔽 基板的表面。 还公开了涂覆有过渡金属氧化物的涂层的基材，其用于各种应用，包括使用诸如无机，流体，多孔和聚合物基质元素的元素的催化，屏蔽，加热和电流变应用。

    DEMAGNETIZATION OF MAGNETIC MEDIA BY C DOPING FOR HDD PATTERNED MEDIA APPLICATION
    4.
    发明申请
    DEMAGNETIZATION OF MAGNETIC MEDIA BY C DOPING FOR HDD PATTERNED MEDIA APPLICATION 审中-公开
    用于硬盘图形媒体应用程序的磁性介质的去磁

    公开(公告)号：WO2013090574A1

    公开(公告)日：2013-06-20

    申请号：PCT/US2012/069510

    申请日：2012-12-13

    Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  HILKENE, Martin ,  GOUK, Roman ,  SCOTNEY-CASTLE, Matthew D. ,  PORSHNEV, Peter I.

    Inventor： HILKENE, Martin ,  GOUK, Roman ,  SCOTNEY-CASTLE, Matthew D. ,  PORSHNEV, Peter I.

    IPC: G11B5/127

    CPC classification number: C23C14/5826 ,  C23C14/042 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/48 ,  C23C14/5873 ,  G11B5/62 ,  G11B5/85 ,  G11B5/851 ,  G11B5/858

    Abstract: Embodiments described herein provide methods and apparatus for treating a magnetic substrate having an imprinted, oxygen-reactive mask formed thereon by implanting ions into a magnetically active surface of the magnetic substrate through the imprinted oxygen-reactive mask, wherein the ions do not reduce the oxygen reactivity of the mask, and removing the mask by exposing the substrate to an oxygen-containing plasma. The mask may be amorphous carbon, through which carbon-containing ions are implanted into the magnetically active surface. The carbon-containing ions, which may also contain hydrogen, may be formed by activating a mixture of hydrocarbon gas and hydrogen. A ratio of the hydrogen and the hydrocarbon gas may be selected or adjusted to control the ion implantation.

    Abstract translation: 本文所述的实施方案提供了用于处理具有通过印刷的氧反应性掩模将离子注入到磁性基底的磁性活性表面中的其上形成有印记的氧反应性掩模的磁性基底的方法和装置，其中离子不会减少氧 掩模的反应性，以及通过将衬底暴露于含氧等离子体来除去掩模。 掩模可以是无定形碳，将含碳离子注入到磁性活性表面中。 也可以含有氢的含碳离子可以通过活化烃气体和氢气的混合物而形成。 可以选择或调节氢气和烃气体的比例以控制离子注入。

    ハードディスク用基板の製造方法及びハードディスク用基板
    5.
    发明申请
    ハードディスク用基板の製造方法及びハードディスク用基板 审中-公开
    硬盘用基板的制造方法以及硬盘用基板

    公开(公告)号：WO2012046712A1

    公开(公告)日：2012-04-12

    申请号：PCT/JP2011/072830

    申请日：2011-10-04

    Applicant: 東洋鋼鈑株式会社 ,  迎 展彰

    Inventor： 迎　展彰

    IPC: G11B5/84 ,  C23C18/36

    CPC classification number: G11B5/8404 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/1844 ,  C23C18/36 ,  G11B5/858

    Abstract: 　本発明は、無電解NiPめっきにより平滑なめっき皮膜の表面を得ることができ、酸耐食性も悪化することがないハードディスク用基板の製造方法及びハードディスク用基板を得ることを課題とする。本発明のハードディスク用基板の製造方法は、無電解NiPめっき皮膜を有するハードディスク用基板の製造方法であって、平滑化作用を有する添加剤を含有する第１の無電解NiPめっき浴に基板を浸漬して該基板の表面に、該表面よりも平均表面粗さが小さい前記無電解NiPめっき皮膜の下層を形成する第１のめっき工程と、該第１のめっき工程により前記無電解NiPめっき皮膜の下層が形成された基板を、第２の無電解NiPめっき浴に浸漬して酸耐食性を有する前記無電解NiPめっき皮膜の上層を形成する第２のめっき工程と、を含む。これにより、酸耐食性を悪化させることなく、表面が平滑なめっき皮膜を得る。

    Abstract translation: 本发明解决了提供一种用于制造硬盘用基板的方法的问题，其中可以通过无电镀Ni-P镀层获得具有光滑表面的镀覆层，并且耐酸腐蚀性不会劣化。 本发明还涉及提供用于硬盘的基板的问题。 本发明的硬盘用基板的制造方法，其特征在于，所述基板具有无电镀Ni-P镀覆层。 该方法包括：第一电镀步骤，用于在衬底的表面上形成具有比衬底表面更小的平均表面粗糙度的无电解Ni-P镀覆层的下层，将衬底浸入第一无电镀Ni -P镀浴，其含有施加平滑作用的添加剂; 以及第二电镀步骤，用于通过将形成有无电镀Ni-P电镀的下层的基板浸渍到第二非电解Ni-P电镀浴中，形成耐酸腐蚀的耐化学镀Ni-P镀层的上层 在第一电镀步骤中进行涂覆。 结果，获得了具有光滑表面的镀覆涂层，而不会劣化耐酸腐蚀性。

    FILM HAVING SOFT MAGNETIC PROPERTIES
    6.
    发明申请
    FILM HAVING SOFT MAGNETIC PROPERTIES 审中-公开
    具有软磁性的胶片

    公开(公告)号：WO2008002949A1

    公开(公告)日：2008-01-03

    申请号：PCT/US2007/072170

    申请日：2007-06-26

    Applicant: INTEL CORPORATION ,  PARK, Chang-Min ,  FAJARDO, Arnel M.

    Inventor： PARK, Chang-Min ,  FAJARDO, Arnel M.

    IPC: G11B5/68 ,  G11B5/70

    CPC classification number: G11B5/656 ,  C23C18/1673 ,  C23C18/50 ,  G11B5/85 ,  G11B5/852 ,  G11B5/858 ,  H01F10/16 ,  H01F41/24

    Abstract: A material capable of being applied as a film or coating on a substrate and of supplying suitable magnetic and electrical properties for magnetic applications includes cobalt, boron, and at least one of tungsten and phosphorus. The material has a resistivity between approximately 20 and 1000 μOhm-cm, a saturation magnetic flux density of between approximately 0.1 and 1.8 Tesla, a coercivity less than approximately 5 Oersted, and a relative permeability of between approximately 100 and 2000.

    Abstract translation: 能够作为基材上的膜或涂层施加并且为磁性应用提供合适的磁性和电性能的材料包括钴，硼以及钨和磷中的至少一种。 该材料具有介于约20和1000μOhm-​​cm之间的电阻率，约0.1至1.8特斯拉之间的饱和磁通密度，小于约5奥斯特的矫顽磁力和大约100至2000之间的相对磁导率。

    MAGNETIC RECORDING MATERIAL
    8.
    发明申请
    MAGNETIC RECORDING MATERIAL 审中-公开
    磁记录材料

    公开(公告)号：WO1988002538A1

    公开(公告)日：1988-04-07

    申请号：PCT/GB1987000692

    申请日：1987-10-02

    Applicant: THE UNIVERSITY OF TORONTO INNOVATIONS FOUNDATION ,  WALSH, Pauline, Margaret

    Inventor： THE UNIVERSITY OF TORONTO INNOVATIONS FOUNDATION ,  WALSH, Pauline, Margaret ,  MOSKOVITS, Martin ,  SCHMIDHALTER, Beat

    IPC: G11B05/858

    CPC classification number: G11B5/84 ,  G11B5/858 ,  Y10S205/922

    Abstract: Process for preparing magnetic recording material by depositing ferromagnetic material in particulate form into an aluminum substrate. The aluminum substrate is prepared by cleaning an aluminum or aluminum metal containing substrate; anodizing the cleaned metal substrate, to produce a suitably pitted or porous oxide substrate surface; and rinsing the anodized substrate,substantially to remove therefrom acid residues remaining from the anodizing step. The substrate in contact with a liquid solution of a salt of at least one ferromagnetic metal is then subjected to electrolysis with alternating current, to deposit the metal into the pores of the oxide in small-particle, ferromagnetic form while adjusting and controlling the frequency of the alternating current to obtain discrete particles in the pores assembled in an anisotropic configuration. Excess liquid solution is subsequently removed from the so-treated substrate. The material is then preferably coated with a suitable resin or polymer to seal the pores and then polished to generate a suitable surface for reading or writing by magnetic heads.

    Abstract translation: 通过将颗粒形式的铁磁材料沉积到铝基底中来制备磁记录材料的方法。 通过清洗含铝或铝金属的基材来制备铝基板; 阳极氧化清洁的金属基底，以产生适当的凹坑或多孔的氧化物衬底表面; 并漂洗阳极氧化的基底，基本上从其中除去残留在阳极氧化步骤中的酸残余物。 接触至少一种强磁性金属的盐的液体溶液的基片随后用交流电进行电解，将金属以小粒子铁磁形式沉积在氧化物的孔中，同时调节和控制 交流电流以获得在各向异性配置中组装的孔中的离散颗粒。 随后从经处理的底物中除去过量的液体溶液。 然后优选用合适的树脂或聚合物涂覆材料以密封孔，然后抛光以产生用于磁头读取或写入的合适表面。

    ハードディスク用基板の製造方法
    9.
    发明申请
    ハードディスク用基板の製造方法 审中-公开
    生产硬盘基板的方法

    公开(公告)号：WO2013153993A1

    公开(公告)日：2013-10-17

    申请号：PCT/JP2013/060096

    申请日：2013-04-02

    Applicant: 東洋鋼鈑株式会社

    Inventor： 石田　元 ,  迎　展彰 ,  吉田　隆広

    IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

    CPC classification number: G11B5/858 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/8404

    Abstract: 　本発明の課題は、無電解NiPめっきにより平滑なめっき皮膜の表面を得ることができ、酸耐食性も悪化することがないハードディスク用基板を得ることである。　本発明のハードディスク用基板の製造方法は、平滑化作用を有する添加剤を含有する第１の無電解NiPめっき浴に基板を浸漬して該基板の表面に、該表面よりも平均表面粗さが小さい前記無電解NiPめっき皮膜の下層を形成する第１のめっき工程と、第1のめっき工程により前記無電解NiPめっき皮膜の下層が形成された基板を、第2の無電解NiPめっき浴に浸漬して酸耐食性を有する無電解NiPめっき皮膜の上層を形成する第２のめっき工程とを含み、第１のめっき工程から第２のめっき工程に移行するまでの間、下層の大気への接触を抑制する。

    Abstract translation: 本发明的问题在于获得能够通过无电镀NiP获得光滑镀膜表面的硬盘基板，并且不会使耐酸腐蚀性恶化。 硬盘基板的制造方法包括：第一镀敷步骤，其中将基板浸渍在含有具有调平作用的添加剂的第一非电解NiP镀液中，在基板的表面形成无电镀NiP镀膜底层， 平均表面粗糙度低于表面; 以及第二电镀步骤，其中通过第一电镀步骤形成无电镀NiP镀膜底层的衬底浸入第二无电镀NiP电镀浴中，形成具有耐酸腐蚀性的无电镀NiP电镀膜顶层。 从第一电镀步骤直到转变到第二电镀步骤，抑制了底层与大气的接触。

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