摘要:
A microwave generating system includes a modular architecture which is configurable to provide power output from under 1-kilowatt to over 100-kilowatts. The various power levels are achieved by combining the RF outputs of multiple RF power amplifiers in a corporate structure. The system can be used on any ISM band. Each system component incorporates a dedicated embedded microcontroller for high performance real-time control response. The components are connected to a high speed digital data bus, and are commanded and supervised by a control program running on a host computer.
摘要:
Use of care areas in scanning electron microscopes or other review tools can provide improved sensitivity and throughput. A care area is received at a controller of a scanning electron microscope from, for example, an inspector tool. The inspector tool may be a broad band plasma tool. The care area is applied to a field of view of a scanning electron microscope image to identify at least one area of interest. Defects are detected only within the area of interest using the scanning electron microscope. The care areas can be design-based or some other type of care area. Use of care areas in SEM tools can provide improved sensitivity and throughput.
摘要:
A secondary projection imaging system in a multi-beam apparatus is proposed, which makes the secondary electron detection with high collection efficiency and low cross¬ talk. The system employs one zoom lens, one projection lens and one anti-scanning deflection unit. The zoom lens and the projection lens respectively perform the zoom function and the anti-rotating function to remain the total imaging magnification and the total image rotation with respect to the landing energies and/or the currents of the plural primary beamlets. The anti- scanning deflection unit performs the anti- scanning function to eliminate the dynamic image displacement due to the deflection scanning of the plural primary beamlets.
摘要:
The disclosed invention consists of a detector supplement device (4) for integration in a spectroscopy setup (0), wherein the spectroscopy setup (0) comprises a vacuum chamber (1), a light source (2), a sample (3) irradiating a reflected photon beam (30) and a charged particle beam (31) in the same direction of propagation into a radiation detector (5), which is able to detect ultrafast electric currents originating from charged particles. This is achieved introducing the detector supplement device (4) comprising a Rogowski coil (40) placeable inside the vacuum chamber (1) between sample (3) and radiation detector (5), wherein the charged particle beam (31) is guided through the hollow core of the Rogowski coil (40) allowing synchronized measurements of electrical currents due to the charged particle beam (31) correlated to the reflected photon beam (30), while irradiation of the reflected photon beam (30) and the charged particle beam (31) takes place in the same direction of propagation.
摘要:
Beschrieben ist ein Teilchenstrahl-System mit einer Teilchenquelle (301), welche dazu konfiguriert ist, einen ersten Strahl (309) geladener Teilchen zu erzeugen. Das Teilchenstrahl-System weist einen Vielstrahlerzeuger (305) auf, der dazu konfiguriert ist, aus einem ersten einfallenden Strahl geladener Teilchen eine Mehrzahl von Teilstrahlen (13) zu erzeugen, die in einer Richtung senkrecht zu einer Ausbreitungsrichtung der Teilstrahlen räumlich voneinander beabstandet sind, wobei die Mehrzahl an Teilstrahlen mindestens einen ersten Teilstrahl und einen zweiten Teilstrahl umfasst. Das Teilchenstrahl-System weist ein Objektiv (102) auf, das dazu konfiguriert ist, einfallende Teilstrahlen in einer ersten Ebene zu fokussieren, derart, dass ein erster Bereich, auf den der erste Teilstrahl in der ersten Ebene einfällt, von einem zweiten Bereich getrennt ist, auf den ein zweiter Teilstrahl einfällt. Das Teilchenstrahl-System weist ein Detektorsystem mit mehreren Detektionsbereichen (209) und einem Projektivsystem (205) auf, wobei das Projektivsystem dazu konfiguriert ist, Wechselwirkungsprodukte, die die erste Ebene aufgrund der einfallenden Teilstrahlen verlassen, auf das Detektorsystem zu projizieren. Das Projektivsystem und die mehrerer Detektionsbereiche sind so aufeinander abgestimmt sind, dass Wechselwirkungsprodukte, die von dem ersten Bereich der ersten Ebene ausgehen, auf einen ersten Detektionsbereich des Detektorsystems projiziert werden und Wechselwirkungsprodukte, die von dem zweiten Bereich der ersten Ebene ausgehen, auf einen zweiten Detektionsbereich projiziert werden, der vom ersten Detektionsbereich verschiedenen ist. Weiterhin weist das Detektorsystem eine Filtereinrichtung (208) zur Filterung der Wechselwirkungsprodukte entsprechend ihres jeweiligen Bahnverlaufs auf.
摘要:
An arc treatment device (14) comprises: a. An arc detection device (21) detecting an arc being present in a plasma chamber (30); b. An arc energy determination device (22) for determining an arc energy value which is a value corresponding to the energy supplied to the plasma chamber (30) while the arc is present in the plasma chamber (30); c. A break time determination device (24) for determining a break time from the determined arc energy value.