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公开(公告)号:CN106605451A
公开(公告)日:2017-04-26
申请号:CN201580044209.0
申请日:2015-08-17
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
IPC分类号: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号: G05B9/02
摘要: 本文所公开的实施方式包括一种用于处理系统的控制器,该控制器用于减轻处理系统中所产生的排放物的危险性。
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公开(公告)号:CN106062921A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201580008206.1
申请日:2015-02-16
申请人: 应用材料公司
发明人: 西蒙·尼古拉斯·宾斯 , 布赖恩·T·韦斯特 , 罗纳德·维恩·肖尔 , 罗杰·M·约翰逊 , 迈克尔·S·考克斯
IPC分类号: H01L21/02 , H01L21/203
CPC分类号: H01J37/3476 , H01J37/32935 , H01J37/3405 , H01J37/3414 , H01J37/3479
摘要: 处理腔室包括腔室主体、一或多个监控装置,及一或多个天线,腔室主体具有设置于腔室主体上的腔室盖组件,一或多个监控装置与腔室盖组件耦接,一或多个天线邻近于与一或多个监控装置通信的腔室盖组件设置。
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公开(公告)号:CN102177576B
公开(公告)日:2013-12-18
申请号:CN200980140158.6
申请日:2009-10-07
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
IPC分类号: H01L21/66
CPC分类号: G05B19/41865 , G05B2219/31455 , G05B2219/34306 , G05B2219/45031 , Y02P70/163 , Y02P90/20
摘要: 本发明提供检测处理设备的闲置模式的方法及装置。在一些实施例中,一种监视处理系统的装置可包括第一系统适配器,其用于监视第一过程腔室及确定其状态;及第一支持适配器,其用于与连接至该第一过程腔室的第一支持系统及该第一系统适配器通信,该支持适配器经配置以响应于处于闲置模式的该第一过程腔室的该状态而将在低功率模式下操作该第一支持系统的预备状态传达至该支持系统的控制器。
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公开(公告)号:CN102177576A
公开(公告)日:2011-09-07
申请号:CN200980140158.6
申请日:2009-10-07
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
IPC分类号: H01L21/66
CPC分类号: G05B19/41865 , G05B2219/31455 , G05B2219/34306 , G05B2219/45031 , Y02P70/163 , Y02P90/20
摘要: 本发明提供检测处理设备的闲置模式的方法及装置。在一些实施例中,一种监视处理系统的装置可包括第一系统适配器,其用于监视第一过程腔室及确定其状态;及第一支持适配器,其用于与连接至该第一过程腔室的第一支持系统及该第一系统适配器通信,该支持适配器经配置以响应于处于闲置模式的该第一过程腔室的该状态而将在低功率模式下操作该第一支持系统的预备状态传达至该支持系统的控制器。
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公开(公告)号:CN105742201B
公开(公告)日:2018-07-27
申请号:CN201610130295.3
申请日:2012-08-10
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
CPC分类号: G01N21/55 , H01L21/67259
摘要: 本发明提供了用于在腔室中感测基板的方法、设备与系统。本发明包含发出至少两种不同波长的辐射;向着腔室的内部引导所发出的第波长的辐射通过该腔室的视口;向着基板载具的叶片中的孔的位置引导所发出的第二波长的辐射通过该腔室的该视口;检测由该叶片、该腔室的内部、或在该叶片上的基板反射的任何所发出的辐射;以及根据检测到的反射的辐射确定在该叶片上是否存在基板。许多其他方面亦被公开。
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公开(公告)号:CN102197454B
公开(公告)日:2013-12-18
申请号:CN200980142493.X
申请日:2009-10-22
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
CPC分类号: G05B19/409
摘要: 本发明揭示一种为半导体处理设备提供接口的装置。在一些实施例中,一种用于为具有适配卡的半导体处理设备提供接口的装置包括:显示逻辑子系统,其用以经由数据及控制总线以对一或多个装置(诸如视频及信息显示器、光笔、键盘、计算机鼠标及警告灯网络及警报器)提供接口;桥接器,其用以提供对该数据及控制总线的存取;及本地(local)计算机子系统,其连接至该桥接器及该显示逻辑子系统,其中该本地计算机子系统是提供对一或多个远程装置的存取。
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公开(公告)号:CN1333429C
公开(公告)日:2007-08-22
申请号:CN02824424.9
申请日:2002-12-10
申请人: 应用材料公司
IPC分类号: H01L21/00
CPC分类号: H01L21/68 , Y10T29/49895 , Y10T29/49899 , Y10T29/49902 , Y10T29/53052 , Y10T29/53978
摘要: 根据本发明优选实施例的承载体对准工具系统提供了一种工具和使用该工具的方法,其模仿具有可拆卸门的衬底承载体的门。该工具允许在开始衬底处理之前,将开门器机构与承载体在其上被支撑、被测试和校正的装载端口或其他搬运器对准,直到达到正确的对准。
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公开(公告)号:CN103748669B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201280039886.X
申请日:2012-08-10
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
CPC分类号: G01N21/55 , H01L21/67259
摘要: 本发明提供了用于在腔室中感测基板的方法、设备与系统。本发明包含发出至少两种不同波长的辐射;向着腔室的内部引导所发出的第一波长的辐射通过该腔室的视口;向着基板载具的叶片中的孔的位置引导所发出的第二波长的辐射通过该腔室的该视口;检测由该叶片、该腔室的内部、或在该叶片上的基板反射的任何所发出的辐射;以及根据检测到的反射的辐射确定在该叶片上是否存在基板。许多其他方面亦被公开。
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公开(公告)号:CN105742201A
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201610130295.3
申请日:2012-08-10
申请人: 应用材料公司
发明人: 罗纳德·维恩·肖尔
CPC分类号: G01N21/55 , H01L21/67259 , H01L22/12 , H01L21/67242
摘要: 本发明提供了用于在腔室中感测基板的方法、设备与系统。本发明包含发出至少两种不同波长的辐射;向着腔室的内部引导所发出的第一波长的辐射通过该腔室的视口;向着基板载具的叶片中的孔的位置引导所发出的第二波长的辐射通过该腔室的该视口;检测由该叶片、该腔室的内部、或在该叶片上的基板反射的任何所发出的辐射;以及根据检测到的反射的辐射确定在该叶片上是否存在基板。许多其他方面亦被公开。
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