用于在腔室内感测基板的方法及设备

    公开(公告)号:CN105742201B

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201610130295.3

    申请日:2012-08-10

    IPC分类号: H01L21/66 H01L21/67

    CPC分类号: G01N21/55 H01L21/67259

    摘要: 本发明提供了用于在腔室中感测基板的方法、设备与系统。本发明包含发出至少两种不同波长的辐射;向着腔室的内部引导所发出的第波长的辐射通过该腔室的视口;向着基板载具的叶片中的孔的位置引导所发出的第二波长的辐射通过该腔室的该视口;检测由该叶片、该腔室的内部、或在该叶片上的基板反射的任何所发出的辐射;以及根据检测到的反射的辐射确定在该叶片上是否存在基板。许多其他方面亦被公开。

    半导体处理设备的远程访问网关

    公开(公告)号:CN102197454B

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN200980142493.X

    申请日:2009-10-22

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/02 G06F3/01

    CPC分类号: G05B19/409

    摘要: 本发明揭示一种为半导体处理设备提供接口的装置。在一些实施例中,一种用于为具有适配卡的半导体处理设备提供接口的装置包括:显示逻辑子系统,其用以经由数据及控制总线以对一或多个装置(诸如视频及信息显示器、光笔、键盘、计算机鼠标及警告灯网络及警报器)提供接口;桥接器,其用以提供对该数据及控制总线的存取;及本地(local)计算机子系统,其连接至该桥接器及该显示逻辑子系统,其中该本地计算机子系统是提供对一或多个远程装置的存取。

    用于在腔室内感测基板的方法及设备

    公开(公告)号:CN103748669B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201280039886.X

    申请日:2012-08-10

    IPC分类号: H01L21/66 H01L21/02

    CPC分类号: G01N21/55 H01L21/67259

    摘要: 本发明提供了用于在腔室中感测基板的方法、设备与系统。本发明包含发出至少两种不同波长的辐射;向着腔室的内部引导所发出的第一波长的辐射通过该腔室的视口;向着基板载具的叶片中的孔的位置引导所发出的第二波长的辐射通过该腔室的该视口;检测由该叶片、该腔室的内部、或在该叶片上的基板反射的任何所发出的辐射;以及根据检测到的反射的辐射确定在该叶片上是否存在基板。许多其他方面亦被公开。

    用于在腔室内感测基板的方法及设备

    公开(公告)号:CN105742201A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201610130295.3

    申请日:2012-08-10

    IPC分类号: H01L21/66 H01L21/67

    摘要: 本发明提供了用于在腔室中感测基板的方法、设备与系统。本发明包含发出至少两种不同波长的辐射;向着腔室的内部引导所发出的第一波长的辐射通过该腔室的视口;向着基板载具的叶片中的孔的位置引导所发出的第二波长的辐射通过该腔室的该视口;检测由该叶片、该腔室的内部、或在该叶片上的基板反射的任何所发出的辐射;以及根据检测到的反射的辐射确定在该叶片上是否存在基板。许多其他方面亦被公开。