公开(公告)号：CN105026609B

公开(公告)日：2018-12-14

申请号：CN201480011904.2

申请日：2014-02-25

申请人： 零件喷涂公司

发明人： D.T.克劳利 ,  P.L.摩斯 ,  J.R.杰曼

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3455 ,  H01J37/345 ,  H01J37/347 ,  H01J37/3476 ,  H01J37/3479

摘要： 一种用于旋转靶材阴极的磁控管组件包括刚性支撑结构；磁棒结构，所述磁棒结构可移动地附接到所述刚性支撑结构；和至少一个致动机构，所述至少一个致动机构耦接到所述刚性支撑结构并被配置以改变所述磁棒结构与可旋转靶筒的表面的距离。所述磁控管组件也包括位置指示机构，所述位置指示机构可操作以测量所述磁棒结构相对于所述可旋转靶筒的所述表面的位置。通信设备被配置以从所述磁控管组件的外部接收命令信号并将信息信号传输到所述磁控管组件的外部。

公开(公告)号：CN105555990B

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201480040877.1

申请日：2014-07-16

申请人： 先进能源工业公司

发明人： D·克里斯蒂

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  H01J37/34

CPC分类号： H01J37/3405 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  H01J37/32027 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3438 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/3464 ,  H01J37/3467 ,  H01J37/3479

摘要： 本发明公开了一种溅射系统和方法。所述系统具有至少一个具有第一磁控管和第二磁控管的双磁控管对，配置每个磁控管以支持靶材。所述系统还具有DMS组件，该DMS组件具有与开关组件和电压传感器连接的直流电源。配置所述DMS组件以独立地控制对每个磁控管的功率的施加，以及提供每个磁控管的电压的测量。所述系统还具有一个或多个致动器，配置所述致动器以使用由所述DMS组件提供的测量控制每个磁控管的电压。配置所述DMS组件和所述一个或多个致动器以响应每个磁控管的电压的测量，通过控制施加到每个磁控管的功率和电压，平衡靶材的消耗。

公开(公告)号：CN105793976A

公开(公告)日：2016-07-20

申请号：CN201480065908.9

申请日：2014-10-23

申请人： 梅耶博格(德国)股份有限公司

发明人： 约阿希姆·迈 ,  迪尔克·罗斯特 ,  赖纳·鲍姆格特纳

IPC分类号： H01L21/677 ,  C23C14/35 ,  H01J37/34

CPC分类号： C23C14/35 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3455 ,  H01J37/3458 ,  H01J37/3479 ,  H01L21/6776

摘要： 本发明涉及一种用于加工工件，优选大基底的表面的方法以及一种用于实施该方法的设备。提出的是，加工设备布置在真空室中的筒式承载件的周侧面上。工件在筒上方运输并且可选地进行旋转。筒式承载件被转动，从而使所想要的加工设备面向工件并且可以对该工件进行加工。通过平移和旋转工件可以选出要加工的表面区段。

公开(公告)号：CN105026609A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201480011904.2

申请日：2014-02-25

申请人： 零件喷涂公司

发明人： D.T.克劳利 ,  P.L.摩斯 ,  J.R.杰曼

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3455 ,  H01J37/345 ,  H01J37/347 ,  H01J37/3476 ,  H01J37/3479

摘要： 一种用于旋转靶材阴极的磁控管组件包括刚性支撑结构；磁棒结构，所述磁棒结构可移动地附接到所述刚性支撑结构；和至少一个致动机构，所述至少一个致动机构耦接到所述刚性支撑结构并被配置以改变所述磁棒结构与可旋转靶筒的表面的距离。所述磁控管组件也包括位置指示机构，所述位置指示机构可操作以测量所述磁棒结构相对于所述可旋转靶筒的所述表面的位置。通信设备被配置以从所述磁控管组件的外部接收命令信号并将信息信号传输到所述磁控管组件的外部。

公开(公告)号：CN106062921A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201580008206.1

申请日：2015-02-16

申请人： 应用材料公司

发明人： 西蒙·尼古拉斯·宾斯 ,  布赖恩·T·韦斯特 ,  罗纳德·维恩·肖尔 ,  罗杰·M·约翰逊 ,  迈克尔·S·考克斯

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/203

CPC分类号： H01J37/3476 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3414 ,  H01J37/3479

摘要： 处理腔室包括腔室主体、一或多个监控装置，及一或多个天线，腔室主体具有设置于腔室主体上的腔室盖组件，一或多个监控装置与腔室盖组件耦接，一或多个天线邻近于与一或多个监控装置通信的腔室盖组件设置。

公开(公告)号：CN105555990A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201480040877.1

申请日：2014-07-16

申请人： 先进能源工业公司

发明人： D·克里斯蒂

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  H01J37/34

CPC分类号： H01J37/3405 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  H01J37/32027 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3438 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/3464 ,  H01J37/3467 ,  H01J37/3479

摘要： 本发明公开了一种溅射系统和方法。所述系统具有至少一个具有第一磁控管和第二磁控管的双磁控管对，配置每个磁控管以支持靶材。所述系统还具有DMS组件，该DMS组件具有与开关组件和电压传感器连接的直流电源。配置所述DMS组件以独立地控制对每个磁控管的功率的施加，以及提供每个磁控管的电压的测量。所述系统还具有一个或多个致动器，配置所述致动器以使用由所述DMS组件提供的测量控制每个磁控管的电压。配置所述DMS组件和所述一个或多个致动器以响应每个磁控管的电压的测量，通过控制施加到每个磁控管的功率和电压，平衡靶材的消耗。