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公开(公告)号:CN1554116A
公开(公告)日:2004-12-08
申请号:CN02817825.4
申请日:2002-08-20
申请人: 自由度半导体公司
IPC分类号: H01L21/60 , H01L23/485
CPC分类号: H01L24/05 , H01L24/03 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/85 , H01L2224/02166 , H01L2224/04042 , H01L2224/05093 , H01L2224/05096 , H01L2224/05546 , H01L2224/05551 , H01L2224/05556 , H01L2224/05557 , H01L2224/05647 , H01L2224/45139 , H01L2224/45147 , H01L2224/4807 , H01L2224/48453 , H01L2224/48463 , H01L2224/48847 , H01L2224/85205 , H01L2924/00011 , H01L2924/01006 , H01L2924/01007 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01018 , H01L2924/01022 , H01L2924/01023 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/01031 , H01L2924/01032 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01075 , H01L2924/01078 , H01L2924/04953 , H01L2924/05042 , H01L2924/10329 , H01L2924/19043 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/01049
摘要: 一种焊盘(100),通过首先在一个焊盘区域中提供铜(18)与氧化硅功能部件(14)的平整化组合而形成。氧化硅功能部件(14)经过蚀刻处理,来在焊盘区域上的铜中形成多个凹槽(15)。在所述铜上和所述凹槽中的氧化硅功能部件上形成一个腐蚀阻隔层(22)。通过直接将探针贴附到所述铜上来对晶片(10)进行探测。一个丝焊部(24)被直接固附在铜(18)上。由于凹陷功能部件(15)的存在,防止了探针(80)完全刺穿铜(18)。利用所述铜中的凹槽(15),丝焊部(24)更易于破坏和刺穿腐蚀阻隔层,并且不太易于在焊盘(100)上滑动。
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公开(公告)号:CN1296980C
公开(公告)日:2007-01-24
申请号:CN02817825.4
申请日:2002-08-20
申请人: 自由度半导体公司
IPC分类号: H01L21/60 , H01L23/485
CPC分类号: H01L24/05 , H01L24/03 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/85 , H01L2224/02166 , H01L2224/04042 , H01L2224/05093 , H01L2224/05096 , H01L2224/05546 , H01L2224/05551 , H01L2224/05556 , H01L2224/05557 , H01L2224/05647 , H01L2224/45139 , H01L2224/45147 , H01L2224/4807 , H01L2224/48453 , H01L2224/48463 , H01L2224/48847 , H01L2224/85205 , H01L2924/00011 , H01L2924/01006 , H01L2924/01007 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01018 , H01L2924/01022 , H01L2924/01023 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/01031 , H01L2924/01032 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01075 , H01L2924/01078 , H01L2924/04953 , H01L2924/05042 , H01L2924/10329 , H01L2924/19043 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/01049
摘要: 一种焊盘(100),通过首先在一个焊盘区域中提供铜(18)与氧化硅功能部件(14)的平整化组合而形成。氧化硅功能部件(14)经过蚀刻处理,来在焊盘区域上的铜中形成多个凹槽(15)。在所述铜上和所述凹槽中的氧化硅功能部件上形成一个腐蚀阻隔层(22)。通过直接将探针贴附到所述铜上来对晶片(10)进行探测。一个丝焊部(24)被直接固附在铜(18)上。由于凹陷功能部件(15)的存在,防止了探针(80)完全刺穿铜(18)。利用所述铜中的凹槽(15),丝焊部(24)更易于破坏和刺穿腐蚀阻隔层,并且不太易于在焊盘(100)上滑动。
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