公开(公告)号：CN108735564B

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：CN201711224060.1

申请日：2017-11-29

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 甲斐裕章 ,  西村一平

IPC: H01J37/08 ,  H01J27/02

Abstract: 本发明提供一种定位销及离子源，所述定位销的固定结构得到了简化。所述定位销(P)用于构成离子源的引出电极系统的电极的安装，在定位销(P)的长边方向的两个端部中，在第一端部(11)形成有螺丝(S)，与第一端部(11)相反侧的第二端部(12)为锥形。

公开(公告)号：CN110137063A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201811472876.0

申请日：2018-12-04

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 山元徹朗

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供离子源和离子注入装置，改善了带状束的束输送效率。离子源(1)包括：等离子体生成容器(11)，在端部形成有束引出口(H)；以及遮挡构件(13)，封闭束引出口(H)，在遮挡构件(13)上，沿相同方向形成有三个以上的长孔(13a)，上述长孔(13a)在通过遮挡构件(13)引出的带状束的长度方向上长，各长孔(13a)的长度尺寸如下设置：配置在中央的长孔(13a)的长度尺寸比配置在端部的长孔(13a)的长度尺寸短。

公开(公告)号：CN109690724A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780042671.6

申请日：2017-10-27

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 萨米·K·哈托 ,  乔治·沙科

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08

Abstract: 本发明提供一种离子源，包括：气体源，用于供应气体：以及电离室，其定义延伸穿过所述电离室的纵轴，并包括沿着所述电离室的侧壁的出口孔。所述离子源还包括位于所述电离室的所述出口孔处的一个或多个引出电极，其用于从所述电离室引出一离子束形式的离子。所述引出电极中的至少一者包括离散杆集合，其在所述至少一引出电极中形成多个狭缝，以便能够实现增加所述离子束的电流或者实现控制所述离子束从所述电离室引出的角度中的至少一者。所述离散杆集合中的各杆平行于所述电离室的所述纵轴。

公开(公告)号：CN109559963A

公开(公告)日：2019-04-02

申请号：CN201810725722.1

申请日：2018-07-04

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 平井裕也 ,  松本武

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/32009

Abstract: 本发明涉及一种离子源和离子源的运转方法，不论灯丝的丝径为何都可谋求与灯丝更换相关的离子源的稼动损失的降低。该离子源具备有：多根灯丝；控制装置，其个别地设定供给于各灯丝的通电电流；以及电压计，其量测在各灯丝的电压；其中，控制装置从设定的电流值与量测的电压值算出各灯丝的目前的电阻值，且根据基准的电阻值与目前的电阻值的差，将供给于各灯丝的通电电流进行再设定，以使各灯丝的目前的电阻值成为基准的电阻值。

公开(公告)号：CN107424892B

公开(公告)日：2019-02-12

申请号：CN201610860614.6

申请日：2016-09-28

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 山元徹朗 ,  萨米·K·哈托

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明涉及束电流密度分布调整装置和离子注入机。提供了一种束电流密度分布调整装置。该装置包括在带状束的长侧方向上的构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，所述构件对中的每一个构件对的构件被布置成使得带状束在所述构件中间。在带状束的长侧方向上彼此相邻的构件对的相对表面部分地不平行于带状束的行进方向。

公开(公告)号：CN109119314A

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：CN201810036200.0

申请日：2018-01-15

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 藤田秀树 ,  糸井骏

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子或电子的引出效率高的等离子体源。等离子体源(1)包括：室(11)，具有用于将在内侧生成的离子或电子向外辐射的开口部(11a)；气体导入部(31)，向室(11)内导入气体；真空连接器(14)，设置在周壁(111)的与开口部(11a)相对的位置上；天线(15)，基端部(15a)与真空连接器(14)连接，在室(11)内朝向开口部(11a)延伸；第一绝缘体部(21)，覆盖天线(15)的位于室(11)内的前端部(15b)一侧的第一部位(P1)；第二绝缘体部(13)，覆盖天线(15)的位于室(11)内的基端部(15a)一侧的第二部位(P2)；以及导体部(16)，覆盖第二绝缘体部(13)。

公开(公告)号：CN108735647A

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201810035305.4

申请日：2018-01-15

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 糸井骏 ,  高桥直也

IPC: H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，能够遍及晶片支承面的大范围地形成槽，并且能够稳定地支承晶片。静电吸盘(E)具有晶片支承面，在支承面(S)上形成有多个槽(G、G1、G2)，槽之间相互连通。

公开(公告)号：CN108346551A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201710059911.5

申请日：2017-01-24

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 内藤胜男

IPC: H01J37/065 ,  H01J37/317

Abstract: 质量分析电磁铁具备一对主线圈和多个副线圈，主线圈具备与离子束的行进方向平行的第1平行部及相对于第1平行部弯折的第1弯折部，一对主线圈相对于离子束的行进方向而上下对称配置，离子束在主线圈以及副线圈形成的磁场下沿着离子束的行进方向，通过由第1平行部以及第1弯折部形成的空间，多个副线圈具有与离子束的行进方向平行的第2平行部以及相对于第2平行部弯折的第2弯折部，且与主线圈的第1平行部以及第1弯折部紧密相接地匹配，相对于离子束的行进方向而上下对称配置，通过主线圈产生质量分析所需磁场，通过调整副线圈中的电流朝向及大小对主线圈产生的磁场进行微调整。可对磁场控制进行微调整且易于修正离子束形状。

公开(公告)号：CN104051208B

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201310684726.7

申请日：2013-12-13

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 萨米·K·哈托 ,  滨本成显

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/141

CPC classification number: H01J27/022 ,  H01J27/205

Abstract: 本发明涉及用于离子源的磁场源。提供了一种离子源，包括电离室和两个磁场源。电离室具有贯穿其延伸的纵轴并且包括两个相对的室壁，每个室壁平行于纵轴。两个磁场源各自包括（i）芯和（ii）大致缠绕芯的线圈。每一磁场源与相对的室壁中相应一个的外部表面对准并与其接近，并且取向大致平行于纵轴。磁场源的芯彼此在物理上分开并且电隔离。

公开(公告)号：CN104221122B

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201380008973.3

申请日：2013-02-13

Applicant: 日新离子机器株式会社 ,  株式会社爱发科

Inventor： 山本良明 ,  金永杜 ,  带施兴司德 ,  冈山智彦

IPC: H01J37/317 ,  B65G49/06 ,  H01L21/265 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20292 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776

Abstract: 离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A‑23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A‑23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。