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公开(公告)号：CN104221122A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201380008973.3
申请日：2013-02-13
Applicant: 日新离子机器株式会社 , 株式会社爱发科
IPC: H01J37/317 , B65G49/06 , H01L21/265 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776
Abstract: 离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A-23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A-23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。
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公开(公告)号：CN104221122B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201380008973.3
申请日：2013-02-13
Applicant: 日新离子机器株式会社 , 株式会社爱发科
IPC: H01J37/317 , B65G49/06 , H01L21/265 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776
Abstract: 离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A‑23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A‑23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。
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公开(公告)号：CN111601910B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN201980006855.6
申请日：2019-06-14
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/31 , H05H1/46
Abstract: 本发明的真空处理装置进行等离子体处理，具有：电极凸缘，在腔室内与高频电源连接；簇射极板，具有与所述电极凸缘相对的第一面和与所述第一面相反侧的第二面，所述簇射极板与所述电极凸缘分离相对并与所述电极凸缘一同作为阴极；处理室，面向所述簇射极板的所述第二面，并且供被处理基板配置；和支撑轴，与所述簇射极板的所述第一面连接并支撑所述簇射极板。在所述簇射极板上形成有多个气体流路，该多个气体流路从所述电极凸缘与所述第一面之间的空间连通到所述处理室，并且具有规定的电导率，在所述支撑轴与所述簇射极板连接的部分，以所述电导率在所述簇射极板的面内方向上不发生变化的方式设置有沿所述支撑轴的轴向延伸的轴气体流路。
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公开(公告)号：CN112563158A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202010933390.3
申请日：2020-09-08
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/67 , H01L21/205 , H01J37/32
Abstract: 本发明的真空处理装置具备电极框。电极框具有上板部、下板部和纵板部。上板部被安装在电极法兰上，在俯视中形成为框形状且具有上外侧区域。下板部具有与滑动板的一部分接触的接触面且与上板部平行延伸，在俯视中形成为框形状且具有下外侧区域。纵板部具有固定在上板部的上外侧区域的上固定端和固定在下板部的下外侧区域的下固定端，纵板部从下板部向上板部竖立设置，被固定在上板部与下板部之间，且厚度小于上板部和下板部的厚度。
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公开(公告)号：CN108885994A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780020497.5
申请日：2017-09-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/31 , C23C16/455 , H01L21/3065 , H01L21/318 , H05H1/46
CPC classification number: C23C16/455 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/318 , H05H1/46
Abstract: 本发明实现等离子体密度的面内偏差的均匀化。本发明的一方式的簇射头具有头主体和簇射板。上述头主体具有内部空间。上述簇射板具有与上述内部空间连通的多个气体喷射口、从上述多个气体喷射口喷射气体的气体喷射面、配置在上述气体喷射面的多个孔部。在上述簇射板中的构成方式为，上述多个孔部的表面积从上述气体喷射面的中心呈放射状阶段性增大。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102598293B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201080050150.3
申请日：2010-08-30
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B23K26/36 , B23K26/40 , B23K2103/172 , H01L31/046 , H01L31/0463 , H01L31/18 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供一种可以防止分流及裂纹的产生的、包括激光除边工序的太阳能电池制造方法及用于该方法的制造装置。通过从透明基板(2)侧向层叠体(1)照射第一激光(L1)，除去第一激光(L1)所照射的第一区域(A1)内的光电转换层(4)及里侧电极层(5)，其中，层叠体(1)包括在透明基板(2)上顺次形成的透明电极层(3)、光电转换层(4)及里侧电极层(5)；并且，通过在区域(A1)内以与区域(A1)分离的方式照射具有与第一激光(L1)不同的特性的第二激光(L2)，除去第二激光(L2)所照射的包含在第一区域(A1)内的第二区域(A2)上的透明电极层(3)。
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公开(公告)号：CN113261078B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN201980087734.9
申请日：2019-12-27
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/50
Abstract: 本发明的真空处理装置是用于进行等离子体处理的真空处理装置。真空处理装置包括：连接到高频电源的电极凸缘；簇射极板，与所述电极凸缘隔开对置并与所述电极凸缘一起构成阴极；设置在所述簇射极板的周围的绝缘屏蔽；处理室，在所述簇射极板的与所述电极凸缘相反的一侧配置被处理基板；电极框，安装在所述电极凸缘的所述簇射极板侧；以及滑动板，安装在所述簇射极板的作为所述电极框侧的周缘部。所述电极框与所述滑动板对应于所述簇射极板的升降温时产生的热变形而能够滑动，而且由所述簇射极板、所述电极凸缘和所述电极框包围的空间能够密封。所述簇射极板通过贯穿设置在所述簇射极板的周缘部的长孔的支撑部件而被支撑到所述电极框。所述长孔被形成为所述支撑部件对应于所述簇射极板的升降温时产生的热变形而能够在所述长孔内相对移动。在所述长孔中设置有与所述长孔连通并供给吹扫气体的气孔。所述气孔与由所述簇射极板、所述电极凸缘、所述电极框和所述滑动板包围的空间连通。
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公开(公告)号：CN110073484B
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN201880004839.9
申请日：2018-08-06
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L21/31
Abstract: 本发明的升降销为与具有处理面及非处理面的基板接触的升降销，具备：中央部件，具备具有第一表面粗糙度及电绝缘部的第一面和作为导电性部件的主体，所述中央部件与所述基板的所述非处理面相对；和周围部件，具备具有小于所述第一表面粗糙度的第二表面粗糙度及电绝缘部的第二面，所述周围部件包围所述中央部件的周围且与所述基板的所述非处理面相对。
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公开(公告)号：CN108885994B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201780020497.5
申请日：2017-09-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/31 , C23C16/455 , H01L21/3065 , H01L21/318 , H05H1/46
Abstract: 本发明实现等离子体密度的面内偏差的均匀化。本发明的一方式的簇射头具有头主体和簇射板。上述头主体具有内部空间。上述簇射板具有与上述内部空间连通的多个气体喷射口、从上述多个气体喷射口喷射气体的气体喷射面、配置在上述气体喷射面的多个孔部。在上述簇射板中的构成方式为，上述多个孔部的表面积从上述气体喷射面的中心呈放射状阶段性增大。
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