公开(公告)号：CN113286841A

公开(公告)日：2021-08-20

申请号：CN202080008610.X

申请日：2020-01-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  山本拓央 ,  堀内淳矢 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08G61/00 ,  C08K5/00 ,  C08L65/00

Abstract: 一种多环多酚树脂，其具有源自选自由式(1A)和式(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。(式(1A)中，X表示氧原子、硫原子、单键或为未桥接，Y为碳数1～60的2n价的基团或单键，此处，X为未桥接时，Y为前述2n价的基团。另外，式(1B)中，A表示苯环或稠环。进而，式(1A)和式(1B)中，R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基，此处，R0中的至少1者为羟基，m各自独立地为1～9的整数。n为1～4的整数，p各自独立地为0～3的整数。)

公开(公告)号：CN119451998A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380050145.X

申请日：2023-06-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  片冈健太郎 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  小熊威 ,  堀内淳矢 ,  山本拓央 ,  饭沼雅崇 ,  松浦耕大 ,  佐藤隆 ,  冈田悠 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08F12/00 ,  C08F246/00 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种组合物，其包含下述式(1)所示的化合物(A)与下述式(2)所示的化合物(B)。(式(1)中，各定义示于说明书中。)(式(2)中，X、L1、Y、Ra、Rb、Rc、A、Z、p、m、n及r与式(1)的记载为相同内容，k表示0以上且2以下的整数。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN116964528A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202280018243.0

申请日：2022-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀内淳矢 ,  山本拓央 ,  大松祯 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11

Abstract: 为了提供具有高的成膜性和溶剂溶解性且能够应用湿式工艺，固化性、膜的耐热性、膜的耐蚀刻性、向台阶基板的埋入性以及膜的平坦性优异，对形成光致抗蚀剂下层膜有用的光刻用膜形成材料等，本公开的光刻用膜形成材料包含：具有键合于芳香环的氨基的化合物，该化合物例如由说明书中记载的式(1A)、式(1B)、式(2)、式(3)、式(4)等表示。

公开(公告)号：CN115836045A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180048432.8

申请日：2021-07-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤隆 ,  大松祯 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C39/14

Abstract: 本发明为一种光刻膜形成用组合物，其含有：选自具有规定结构的化合物和将其作为单体得到的树脂中的至少1种。

公开(公告)号：CN115605517A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180035126.0

申请日：2021-05-12

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社(JP)

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C08F20/26 ,  C07C69/653 ,  C08F8/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。

公开(公告)号：CN114245792A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202080056621.5

申请日：2020-08-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  片冈健太郎 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C69/712 ,  C07C39/27 ,  C07C25/24 ,  C07C69/96 ,  C07C39/373 ,  C07C49/825 ,  C07C69/157 ,  C07C37/62 ,  C07C67/08 ,  C07C45/63 ,  C07C17/35 ,  C07C37/00 ,  C08F12/16 ,  C08J5/18 ,  C08L25/18 ,  G03F7/039

Abstract: 一种化合物，其具有不饱和双键和一个以上的卤素。一种含碘乙烯基单体的制造方法，其包括：a)准备具戊酰基有式(1‑1)所示的一般结构(式(1‑1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘醇性基质的工序；和b)对所述含碘醇性基质进行脱水，得到具有式(1)所示的一般结构(式(1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘乙烯基单体的工序。