使用反馈和前馈控制的纳米压印光刻中的对准控制

    公开(公告)号:CN114667485A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202080078826.3

    申请日:2020-10-27

    Abstract: 提供了用于控制其上支撑有基板的可移动的台架的位置的系统和方法。从传感器获得表示相对于物体上的标记的基板的位置的第一位置信息。基于所获得的第一位置来生成对准预测信息,其中,所生成的对准预测信息包括至少一个参数值。基于所获得的第一位置信息和所生成的对准预测信息来生成包括该至少一个参数值的第一轨迹信息。基于所生成的对准预测信息、第一轨迹信息和第二位置信息来生成第二轨迹信息,其中,第二位置信息表示可移动的台架的位置。基于第二轨迹信息来生成输出控制信号,并且使用输出控制信号基于所生成的输出信号来控制可移动的台架接近目标位置。

    从衬底分离纳米压印模板的方法

    公开(公告)号:CN108020986A

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201711029734.2

    申请日:2017-10-30

    Inventor: 崔炳镇

    CPC classification number: G03F7/0002

    Abstract: 本发明涉及用于从衬底上的固化图案层分离纳米压印模板的方法和设备,最少化了包括最终分离时刻(LPOS)缺陷在内的分离缺陷。该方法可包括:使模板和衬底相对于彼此移动,以产生施加到模板和衬底的张力;测量施加到模板和衬底的张力;判定施加到模板背侧和衬底背侧的压力大小,以便减小施加张力的大小;通过将判定了大小的压力施加到模板背侧和衬底背侧来减小施加到模板或者衬底的张力;然后重复上述步骤一次或者多次,直到模板完全从固化图案层分离为止。设备可配置成实现上述方法。该方法和设备可有利地应用于例如模板复制处理。

    平坦化处理、平坦化系统和制造物品的方法

    公开(公告)号:CN115410912A

    公开(公告)日:2022-11-29

    申请号:CN202210578234.9

    申请日:2022-05-25

    Abstract: 本发明提供平坦化处理、平坦化系统和制造物品的方法。对基板进行平坦化的方法包括:将可成形材料分配到基板上;使由覆板卡盘保持的覆板与所述基板上的所述可成形材料接触,以形成包括所述覆板、所述可成形材料的膜和所述基板的多层结构;从所述覆板卡盘释放所述多层结构;在所述释放之后,在所述覆板卡盘与所述多层结构之间提供空间;将光源定位到,在所述覆板卡盘与所述多层结构之间所提供的空间中;以及通过使所述多层结构的所述膜暴露于从所述光源发射的光,来固化所述膜。

    用于调整模板的位置的系统和方法

    公开(公告)号:CN108121171A

    公开(公告)日:2018-06-05

    申请号:CN201711200016.7

    申请日:2017-11-27

    Inventor: 崔炳镇 水野诚

    Abstract: 本发明涉及用于调整模板的位置的系统和方法。用于调整模板的相对位置的方法、系统和装置包括:确定第一模板的有效区域的相邻区域的表面的第一多个位置点,所述相邻区域的表面和有效区域的表面形成第一模板的连续表面;基于第一多个位置点识别第一模板的所述相邻区域的表面的平面;确定第二模板的有效区域的表面的第二多个位置点,第二模板的有效区域从第二模板的表面突出;基于第二多个位置点识别第二模板的有效区域的表面的平面;和基于识别的平面,调整第一模板和第二模板的相对位置。

    模板复制
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108073036A

    公开(公告)日:2018-05-25

    申请号:CN201711118552.2

    申请日:2017-11-14

    Abstract: 本发明公开了模板复制。用于执行以下步骤的方法、系统和装置:识别模板的第一有效区的尺寸属性;至少部分地基于所述第一有效区的尺寸属性,确定基板的第二有效区的期望的倍率校正;确定所述模板、基板或这二者的面外变形;将背压力施加于所述模板、基板或这二者,以补偿所述模板、基板或这二者的面外变形;在补偿所述模板、基板或这二者的面外变形之后:i)使定位在所述基板上的压印抗蚀剂与所述模板接触,使得所述第一有效区中的图案特征被所述压印抗蚀剂填充,并且ii)将另外的背压力施加于所述模板、基板或这二者,其中,所述另外的背压力被选择使得所述第二有效区呈现所述期望的倍率校正。

    压印装置和压印局部域的方法

    公开(公告)号:CN106864058A

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:CN201611125066.9

    申请日:2016-12-09

    Abstract: 本申请涉及一种压印装置,其包括:基底保持件,所述基底保持件具有吸附区域和凹形支撑段;以及模板保持件,其中,吸附区域面积大于模板区域面积。本申请还涉及一种压印装置,其包括:气体区段;以及气体控制器,所述气体控制器构造成调节气体区段内的压力,以得到与压印装置一起使用的工件的局部域的凸形曲率。本申请还涉及一种方法,其包括:在压印装置内设置工件,其中,工件包括基底和可成形材料;以及使模板在与局部域的外周间隔开的位置处与可成形材料初步接触。在特定的实施例中,所述方法还包括调整基底以形成使模板与可成形材料接触的凸形形状。

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