公开(公告)号：CN1877450A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200610079811.0

申请日：2006-05-08

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·P·普罗科波维奇 ,  M·K·格拉戈尔

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08K3/36 ,  C09D129/04 ,  C09D133/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: 在一方面，提供含有组分的涂料组合物，所述组分包括一种或多种硅、锑、铝、钇、铈、镧、锡、钛、锆、铪、铟和/或锌化合物。在另一方面，提供包含许多分立的颗粒的涂料组合物。本发明优选的涂料组合物，尤其是与下面的光刻胶涂层一起可用于减反射目的，以及用于浸渍印刷的阻隔层。

公开(公告)号：CN104698749A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201510148671.7

申请日：2011-01-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·泊勒斯 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  C07C271/16

Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物各自包含1)两个或更多个羟基取代基和2)一个或多个光酸不稳定基团。

公开(公告)号：CN102207678B

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：CN201110063151.8

申请日：2011-01-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·泊勒斯 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C271/16 ,  C07C269/04

CPC classification number: C07C271/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32

Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种包含多个羟基部分的新含氮化合物以及包含该含氮化合物的光致抗蚀剂组合物。优选含氮化合物包含1)多个羟基取代基(即2个或更多个)和2)一个或多个光酸不稳定基团。

公开(公告)号：CN101900943A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN201010119475.4

申请日：2010-02-08

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： J·F·卡梅隆 ,  J·W·宋 ,  J·P·阿马拉 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  D·A·瓦莱里 ,  L·维克里克 ,  W-S·S·黄 ,  W·李 ,  P·R·瓦拉纳斯 ,  I·Y·波波瓦

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  C09D135/00 ,  G03F7/004 ,  C08L35/00

CPC classification number: G03F7/2008 ,  C08L25/18 ,  C08L29/02 ,  C08L33/06 ,  C08L33/24 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

Abstract: 提供了能用水性碱显影剂显影(包括在外涂敷的光刻胶层的显影过程中的单一步骤)的有机涂料组合物，特别是减反射涂料组合物。优选的涂料组合物包括具有至少四个不同的官能团的四元聚合物。

公开(公告)号：CN1775861A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200510099564.6

申请日：2005-09-07

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·P·普罗科波维奇 ,  M·K·格拉戈尔

IPC: C08L83/00 ,  C08J5/18 ,  C08K5/04 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/31695 ,  C08G77/045 ,  C08G77/12 ,  C08G77/70 ,  C08J9/26 ,  C08J2201/046 ,  C08J2383/14 ,  C08L83/04 ,  C08L83/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/318 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  C08L2666/04

Abstract: 提供了用于制备多孔有机聚硅石薄膜，尤其是用于制造集成电路的组合物。还提供形成这些组合物和薄膜的方法。