半导体存储装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101499324A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200910007036.1

    申请日:2009-02-01

    IPC分类号: G11C29/00 G11C16/06

    摘要: 本发明提供即使阈值电压为负电位也实现正电位时同样的测试方法的特性评价的半导体存储装置。本发明的半导体存储装置具有存储数据的多个存储单元,通过测试信号的输入,进行从正常模式过渡到进行存储单元的特性评价的测试模式,其中包括:选择存储单元的存储单元选择部;发生基准电压的恒压部;发生基准电流的恒流部;将X选择信号或从外部端子输入的电压信号中的任一个供给存储单元的栅极的Y开关电压切换控制电路;向通过Y选择信号来选择的存储单元的漏极供给参考电流的Y开关部;检测漏极的电压即漏极电压是否超过基准电压的比较器;以及在测试模式下,通过控制信号来调整基准电流的电流值以及基准电压的电压值,并变更比较器的判定电平的判定电平变更部。

    非易失性存储器的抹除操作

    公开(公告)号:CN101022037A

    公开(公告)日:2007-08-22

    申请号:CN200610084265.X

    申请日:2006-05-30

    IPC分类号: G11C16/14 G11C11/56

    摘要: 一种用于譬如闪存的包含以行列方式配置的存储器单元的非易失性存储器的区段抹除方法,存储器单元被分割成多个区段。区段抹除方法包含:通过施加电压大小或脉冲宽度逐渐增加的连续抹除脉冲来抹除第一区段的存储器单元,直到第一区段的抹除确认为止;记录对应于第一区段的抹除状态信息,需要施加包含连续抹除脉冲的次数的此信息,以便抹除第一区段的存储器单元。通过施加具有从所记录的抹除状态信息决定的电压大小或脉冲宽度的第一抹除脉冲,可抹除下一区段的存储器单元。如果第一抹除脉冲无法抹除下一区段,则可增加第一抹除脉冲。

    非易失性存储器评估方法和非易失性存储器

    公开(公告)号:CN1670937A

    公开(公告)日:2005-09-21

    申请号:CN200410057253.9

    申请日:2004-08-26

    发明人: 松井范幸

    IPC分类号: H01L21/66 G01R31/28 G11C29/00

    摘要: 本发明生成比由正常的写/擦除操作所生成的更多的热空穴,从而使得可以针对热空穴来评估非易失性存储器的操作。本发明在比正常使用时的正常温度更低的温度下,或/和在比正常使用时的正常操作电压更低的操作电压下,对非易失性存储器进行写操作,以在该存储器的浮置栅极与漏极之间生成比由正常的写/擦除操作所生成的更多的热空穴,然后在将所述存储器暴露于正常工作温度期间评估该存储器的操作。本方法适用于诸如闪存之类的非易失性存储器的可靠性测试。

    非挥发性存储结构释放电荷累积的方法

    公开(公告)号:CN1427467A

    公开(公告)日:2003-07-02

    申请号:CN02107465.8

    申请日:2002-03-19

    IPC分类号: H01L21/82

    摘要: 本发明为一种非挥发性存储结构释放电荷累积的方法,包括下列步骤:施加电抹除信号于该晶粒上的该非挥发性存储结构;及在促使该抹除信号所致电荷扩散的条件下烘烤该晶圆;其中,该电抹除信号通过佛勒-诺德汉穿隧产生负闸极通道抹除;该电抹除信号也可通过佛勒-诺德汉穿隧产生负闸极源极侧抹除;该电抹除信号产生热电洞抹除;该非挥发性存储结构包含ONO结构;该烘烤包含加热该晶圆至80与150℃之间,或者在150与250℃之间;本发明在分割晶圆成为晶粒前使用电抹除信号预抹除非挥发性存储单元,克服了传统上利用曝晒紫外光辐射方法而不能完全消除电荷累积的缺陷。