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公开(公告)号：CN107112176A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580073315.1
申请日：2015-10-08
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 实现离子束引出用电极的维护性提高。离子束引出用电极(E)包括：具有供离子束通过的开口部的电极部(1)、固定支承电极部(1)的支承框(11)，支承框(11)形成有制冷剂流路(12)，并且具有在电极部(1)配置于支承框(11)时在与离子束通过方向大致垂直的面内限制电极部(1)移动的移动限制部(13)。
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公开(公告)号：CN107104030A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201610838817.5
申请日：2016-09-21
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种离子束照射装置，与以往相比能够使包含在离子束中的不需要的离子减少。该离子束照射装置包括：离子源(2)；质量分离器(3)，从由离子源(2)引出的离子束(IB)中挑选并导出确定的质量和价数的掺杂离子；以及能量过滤器，形成离子束(IB)通过的束通过区域，并且通过被施加过滤器电压(VF)而成为规定的过滤器电位(Vfil)，利用离子的能量差，区分通过所述束通过区域的通过离子和不通过所述束通过区域的非通过离子，以使所述通过离子中包含所述掺杂离子并且使所述非通过离子中包含在质量分离器(3)中不能与所述掺杂离子区分的不需要的离子的至少一部分的方式设定过滤器电位(Vfil)。
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公开(公告)号：CN104051209B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310685061.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/075
Abstract: 本发明涉及离子源。提供了一种离子源，其包括至少一个电子枪。电子枪包括用于生成电子束的电子源和用于接收气体的入口。电子枪还包括至少由阳极和接地元件限定的等离子体区域，其中，等离子体区域能够从经由入口接收的气体形成等离子体。等离子体能够由电子束的至少一部分所维持。电子枪进一步包括用于输送以下至少之一的出口：（i）由等离子体生成的离子或（ii）由电子源生成的电子束的至少一部分。
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公开(公告)号：CN103515172B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201310081172.1
申请日：2013-03-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
IPC: H01L21/677 , H01J37/08 , H01J27/02
Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法，能对离子束照射装置进行清洗，并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括：基板输送部（102），在盒（7）和处理室（5）之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业；以及离子束供给部（101），用于向处理室（5）供给离子束（3），与至少一次的基板更换作业并行地，对离子束供给部（101）的运转参数进行设定变更并对离子束供给部（101）内进行清洗。
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公开(公告)号：CN105609397A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201510569675.2
申请日：2015-09-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供离子束照射装置(100)等，能够在短时间内且稳定性良好地进行束电流的均匀化。在实现离子束的均匀化的均匀控制步骤中，所述控制装置执行：权重系数计算步骤，计算作为各灯丝电流(IF)的变化对各束电流(IB)的变化的影响程度的权重系数；以及灯丝理论电流计算步骤，根据在所述权重系数计算步骤中得到的权重系数，计算用于使各束电流(IB)的值尽可能接近规定的目标电流值的各灯丝的理论电流值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103295943B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210425485.X
申请日：2012-10-30
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 小野田正敏
IPC: H01L21/677 , H01L21/265
Abstract: 本发明提供基板输送装置和使用该基板输送装置的半导体制造装置，能防止因使用于使基板输送台移动的杆动作而导致的粉尘等在真空室内飞散，并能容易地进行微调和维护。所述基板输送装置包括基板输送台（4）、肘节连杆机构（1）和多个杆（21），多个杆贯通形成真空室（9）或预真空室（8）的壁体，连接所述基板输送台（4）和所述肘节连杆机构（1）之间，所述肘节连杆机构（1）通过所述肘节连杆（11）的屈伸使所述杆（21）进退，由此使所述基板输送台（4）移动，在所述肘节连杆（1）处于伸展状态下，所述基板输送台（4）配置在堵塞位置，在该基板输送装置中设有密封结构（3），气密地密封所述杆（21）和所述壁体之间的间隙。
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公开(公告)号：CN104221122A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201380008973.3
申请日：2013-02-13
Applicant: 日新离子机器株式会社 , 株式会社爱发科
IPC: H01J37/317 , B65G49/06 , H01L21/265 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776
Abstract: 离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A-23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A-23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。
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公开(公告)号：CN104103554A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201310567012.8
申请日：2013-11-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
CPC classification number: H01L21/67757 , H01J37/185 , H01J37/3171 , H01J37/32412 , H01L21/67718 , H01L21/67754
Abstract: 本发明提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。
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公开(公告)号：CN104051208A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310684726.7
申请日：2013-12-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/141
CPC classification number: H01J27/022 , H01J27/205
Abstract: 本发明涉及用于离子源的磁场源。提供了一种离子源，包括电离室和两个磁场源。电离室具有贯穿其延伸的纵轴并且包括两个相对的室壁，每个室壁平行于纵轴。两个磁场源各自包括（i）芯和（ii）大致缠绕芯的线圈。每一磁场源与相对的室壁中相应一个的外部表面对准并与其接近，并且取向大致平行于纵轴。磁场源的芯彼此在物理上分开并且电隔离。
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公开(公告)号：CN103515172A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310081172.1
申请日：2013-03-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法，能对离子束照射装置进行清洗，并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括：基板输送部（102），在盒（7）和处理室（5）之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业；以及离子束供给部（101），用于向处理室（5）供给离子束（3），与至少一次的基板更换作业并行地，对离子束供给部（101）的运转参数进行设定变更并对离子束供给部（101）内进行清洗。
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