公开(公告)号：CN100433255C

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200580027324.3

申请日：2005-08-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 富田浩 ,  浅井龙二

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明在借助具有温度检测部(41)、和具有存储部的基板控制器(42)的无线晶片(Ww)来测定对基板(W)进行热处理的加热板(34)的温度时，可容易且高精度地测定温度，可抑制由测定作业引起的工作效率的降低。在无线晶片输送器(Cw)内的位置上，向无线晶片(Ww)的控制器(42)输出温度测定开始指令，由此，无线晶片(Ww)开始温度检测，将温度检测值存储到前述基板控制器(42)的存储部内。另一方面，无线晶片(Ww)沿着预定的输送路径被输送到加热组件中。然后，基于无线晶片(Ww)载置到加热板(34)上为止的时间、和基板控制器(42)的存储部内的温度检测值的时间序列数据，取出无线晶片(Ww)载置到加热板(34)上之后的温度检测值的时间序列数据。

公开(公告)号：CN1333552A

公开(公告)日：2002-01-30

申请号：CN01123126.2

申请日：2001-07-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐藤纪胜 ,  绪方久仁惠 ,  木村义雄 ,  富田浩 ,  中岛清次 ,  神谷英彦

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67161 ,  G01N21/9501 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 一种基板处理装置及基板处理方法,将收容盒工作站、具有涂布单元和显影单元的处理工作站、具有膜厚检查装置和缺陷检查装置的检查工作站配置成在与收容盒工作站的收容盒的排列方向大约垂直的方向上检查工作站设置在收容盒工作站与处理工作站之间。在这种结构中,由于是将检查工作站连接在处理工作站上,它们之间晶片的输送自动进行,因此能够简化从基板处理到检查的作业,缩短作业时间。

公开(公告)号：CN107561872B

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN201710526715.4

申请日：2017-06-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 北田泰裕 ,  叶濑川泉 ,  富田浩 ,  中山浩介 ,  西山直

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明能够自动对检査基板的缺陷时所使用的参数值进行调整，在检査基板的缺陷时实现减少疑似缺陷的检测。对于所选择的虚拟检査用的基板的各像素值，使用供调整后使用的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的允许范围时，将偏离量和调整前的灵敏度参数值进行比较。然后，在偏离量超过该灵敏度参数值并且上述偏离量与该灵敏度参数值的差在阈值以下时，将上述偏离量更新为新的灵敏度参数值。进而，对上述过去已检査过的多个基板的图像数据依次进行该操作，并且在作为偏离量的比较对象的灵敏度参数值发生了更新时使用更新后的灵敏度参数值，将最后更新了的灵敏度参数值作为调整后的灵敏度参数。

公开(公告)号：CN110678962A

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201880035426.7

申请日：2018-05-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也 ,  西山直 ,  清富晶子 ,  富田浩

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05D3/00 ,  B05D3/06 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板的拍摄图像的工序；计算已处理基板的拍摄图像和基准基板的拍摄图像的颜色信息的偏差量的工序；基于预先取得的相关模型和上述颜色信息的偏差量，计算处理条件的补正量的工序；和基于补正量设定处理条件的工序，在每个处理装置中进行取得基准基板的拍摄图像的工序以外的工序。

公开(公告)号：CN102314081A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110198010.7

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  富田浩 ,  早川诚 ,  吉田达平

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。

公开(公告)号：CN101807536A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN201010002839.0

申请日：2010-01-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 矢野光辉 ,  道木裕一 ,  富田浩

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10T408/29 ,  Y10T408/559 ,  Y10T408/5612

Abstract: 本发明提供基板输送装置及基板处理系统。在输送基板时，能抑制在基板上附着微粒，能提高由基板处理系统制造出的产品的成品率。基板输送装置具有：在内部收容基板且在侧面形成有基板的输入输出口(98)的基板收容容器(91)；朝向基板收容容器内(91)内的基板(W)的背面喷射规定气体的气体喷射部(92)；调整从气体喷射部(92)供给的上述规定气体的供给量而将上述基板收容容器(91)内的基板(W)控制在规定的高度的控制部(93)。

公开(公告)号：CN1225007C

公开(公告)日：2005-10-26

申请号：CN01123126.2

申请日：2001-07-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐藤纪胜 ,  绪方久仁惠 ,  木村义雄 ,  富田浩 ,  中岛清次 ,  神谷英彦

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67161 ,  G01N21/9501 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 一种基板处理装置及基板处理方法，将收容盒工作站、具有涂布单元和显影单元的处理工作站、具有膜厚检查装置和缺陷检查装置的检查工作站配置成在与收容盒工作站的收容盒的排列方向大约垂直的方向上检查工作站设置在收容盒工作站与处理工作站之间。在这种结构中，由于是将检查工作站连接在处理工作站上，它们之间晶片的输送自动进行，因此能够简化从基板处理到检查的作业，缩短作业时间。