公开(公告)号：CN107002219A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201480084006.X

申请日：2014-12-10

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯蒂芬·班格特 ,  托马索·维尔切斯 ,  丹尼尔·吉斯隆 ,  奥利弗·海默尔 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  迪特尔·哈斯

IPC: C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C16/042 ,  C23C16/4587

Abstract: 提供一种用于在处理腔室中掩蔽基板(10)的掩模布置(100)。掩模布置(100)包括：掩模框架(110)，所述掩模框架具有一个或多个框架元件(112、114、116、118)并且被配置为支撑掩模器件(120)，其中掩模器件(120)可连接到掩模框架(110)；以及至少一个致动器(130)，所述至少一个致动器可连接到一个或多个框架元件(112、114、116、118)中的至少一个框架元件(112)，其中至少一个致动器(130)被配置为向所述至少一个框架元件(112)施加力。

公开(公告)号：CN117396629A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202180098480.8

申请日：2021-05-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 朱利安·奥巴赫 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  哈拉尔德·伍斯特 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  大卫·弗里德里希·弗雷赫尔·冯·林登费尔 ,  斯 ,  安治高志

IPC: C23C14/24

Abstract: 描述了一种用于蒸镀材料分配器的喷嘴。所述喷嘴包括：喷嘴入口，所述喷嘴入口用于接收蒸镀材料；喷嘴出口；以及喷嘴通路，所述喷嘴通路在所述喷嘴入口与所述喷嘴出口之间延伸，所述喷嘴通路具有第一通路部分、第二通路部分和第三通路部分，所述第二通路部分具有在从所述喷嘴入口到所述喷嘴出口的方向上连续地增大的孔径角，并且所述第三通路部分具有基本上恒定的孔径角。

公开(公告)号：CN112912533B

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN201880098803.1

申请日：2018-11-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯里尼瓦斯·萨鲁古 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  乌韦·许斯勒 ,  朱利安·奥巴赫

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 描述了一种用于沉积蒸发的材料的沉积源。所述沉积源(100)包括分配布置(110)，所述分配布置具有多个出口(111)以用于在主沉积方向(101)上提供蒸发的第一材料(A)和蒸发的第二材料(B)。另外，所述沉积源包括测量组件(120)，所述测量组件用于测量所述蒸发的第一材料(A)的第一沉积速率并用于测量所述蒸发的第二材料(B)的第二沉积速率。所述测量组件(120)具有处于与所述主沉积方向(101)交叉的方向上的主检测方向(102)。此外，所述沉积源(100)包括分离元件(130)，所述分离元件用于在与所述主检测方向(102)交叉的方向上分离所述蒸发的第一材料(A)和所述蒸发的第二材料(B)。所述分离元件(130)在所述主检测方向(102)上布置在所述多个出口(111)与所述测量组件(120)之间。

公开(公告)号：CN112912533A

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN201880098803.1

申请日：2018-11-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯里尼瓦斯·萨鲁古 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  乌韦·许斯勒 ,  朱利安·奥巴赫

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 描述了一种用于沉积蒸发的材料的沉积源。所述沉积源(100)包括分配布置(110)，所述分配布置具有多个出口(111)以用于在主沉积方向(101)上提供蒸发的第一材料(A)和蒸发的第二材料(B)。另外，所述沉积源包括测量组件(120)，所述测量组件用于测量所述蒸发的第一材料(A)的第一沉积速率并用于测量所述蒸发的第二材料(B)的第二沉积速率。所述测量组件(120)具有处于与所述主沉积方向(101)交叉的方向上的主检测方向(102)。此外，所述沉积源(100)包括分离元件(130)，所述分离元件用于在与所述主检测方向(102)交叉的方向上分离所述蒸发的第一材料(A)和所述蒸发的第二材料(B)。所述分离元件(130)在所述主检测方向(102)上布置在所述多个出口(111)与所述测量组件(120)之间。

公开(公告)号：CN105144421B

公开(公告)日：2018-10-26

申请号：CN201480022508.X

申请日：2014-04-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约翰·M·怀特 ,  罗伯特·维瑟 ,  迪特尔·哈斯 ,  托马索·维尔切斯 ,  安德烈亚斯·勒普

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  G03F1/42

Abstract: 本文所公开的实施方式大致上是有关于一种精细金属掩模的主动对准。所述精细金属掩模通过多个微致动器和框架连接。微致动器可以作用在精细金属掩模上，用以拉伸精细金属掩模、重新定位精细金属掩模或进行上述动作的组合。通过这样的方式，可以维持精细金属掩模相对于基板的位置与尺寸。

公开(公告)号：CN107078215A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201480083222.2

申请日：2014-11-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯蒂芬·班格特 ,  乌韦·许斯勒 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波

IPC: H01L51/00 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C16/455

Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(110)中在基板(121)上沉积蒸发的材料的线性分布管(106)。线性分布管(106)包括沿着第一方向(136)延伸的分布管壳体(116)，其中第一方向提供线性分布管的线性延伸，且其中分布管壳体包括第一壳体材料。线性分布管(106)进一步包括位于分布管壳体(116)中的多个开孔，其中这些开孔沿着线性分布管的线性延伸而分布。另外，线性分布管壳体(116)包括用于线性分布管(106)的多个喷嘴(712)，其中这些喷嘴(712)经构造以引导真空腔室(110)中的蒸发的材料。这些喷嘴(712)包括第一喷嘴材料，第一喷嘴材料具有大于第一壳体材料和/或大于21W/mk的热传导率。

公开(公告)号：CN207259586U

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201490001576.3

申请日：2014-09-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 安德烈亚斯·科罗拜尔 ,  法比奥·贝亚雷斯 ,  刘健 ,  马库斯·哈尼卡 ,  安德烈亚斯·勒普

IPC: C23C14/35 ,  H01J37/34

CPC classification number: C23C14/352 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3464

Abstract: 本实用新型提供了一种用于沉积材料的设备。所述设备包括：阴极阵列，其中所述阴极阵列中的两个相邻阴极仅一个被构造成被操作以具有一或多个时间间隔，其中所述相邻阴极的仅一个阴极在一或多个时间间隔期间溅射在相同基板上。